配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，具體的說涉及開發(fā)設(shè)計(jì)涂膠顯影機(jī)時(shí)，配置涂膠顯 影機(jī)內(nèi)工藝處理模塊數(shù)量及機(jī)器人工藝傳遞速度的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前，大規(guī)模集成電路生產(chǎn)線上，要求與光刻機(jī)聯(lián)線作業(yè)的涂膠顯影機(jī)的產(chǎn)能較 大，并且要高于光刻機(jī)產(chǎn)能，這種高產(chǎn)能并與光刻機(jī)聯(lián)線生產(chǎn)的涂膠顯影機(jī)，其主要功能是 將晶圓在本機(jī)的片盒中卸載后，在本機(jī)內(nèi)進(jìn)行涂膠工藝處理，之后通過接口部分進(jìn)入光刻 機(jī)中曝光，之后再經(jīng)接口部分返回本機(jī)進(jìn)行顯影工藝處理，最后再將晶圓裝載回本機(jī)的片 盒。
[0003] 該涂膠顯影機(jī)主要需要完成涂膠前增粘處理、涂膠、涂膠后軟烘，曝光后烘烤、顯 影、顯影后硬烘等主要工藝處理過程，使得該機(jī)臺(tái)內(nèi)工藝模塊種類及數(shù)量較多、晶圓傳遞的 機(jī)器人較多。
[0004] 涂膠顯影機(jī)的產(chǎn)能主要取決于機(jī)臺(tái)內(nèi)工藝模塊的產(chǎn)能、工藝模塊的數(shù)量及機(jī)器人 的傳片速度、晶圓傳遞路徑、機(jī)臺(tái)內(nèi)工藝模塊的結(jié)構(gòu)及布局等方面，幾方面之間還存在一定 的影響關(guān)系。進(jìn)行涂膠顯影機(jī)的設(shè)計(jì)，需要在以上幾個(gè)方面著手，還必須考慮它們之間的相 互關(guān)系，才能完成高性價(jià)比產(chǎn)品的開發(fā)設(shè)計(jì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 開發(fā)設(shè)計(jì)高產(chǎn)能并與光刻機(jī)聯(lián)線生產(chǎn)的涂膠顯影機(jī)，需要合理配置機(jī)臺(tái)內(nèi)工藝處 理模塊的數(shù)量及機(jī)器人工藝傳遞的速度，本發(fā)明提供一種配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝處理模塊 數(shù)量及機(jī)器人工藝傳遞速度的方法，根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)，設(shè)計(jì)機(jī)臺(tái)內(nèi) 各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)與各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間 參數(shù)，使得三個(gè)時(shí)間參數(shù)保持一致。
[0006] 本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案是：一種配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù) 量及機(jī)器人速度的方法，根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)TP，設(shè)計(jì)機(jī)臺(tái)內(nèi)各個(gè)工藝 處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)與晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)，使得三個(gè) 時(shí)間參數(shù)趨于一致。
[0007] 所述根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)TP=3600/目標(biāo)產(chǎn)能。
[0008] 所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)Tn=(模塊工藝處 理時(shí)間+模塊工藝輔助時(shí)間）/模塊數(shù)量。
[0009] 所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)Tn通過配置模塊 數(shù)量，使得Tn與TP的差值最小。
[0010] 所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)Tr=兩個(gè)工藝 處理模塊之間的晶圓傳遞時(shí)間X需要機(jī)器人傳遞晶圓服務(wù)的工藝模塊種類數(shù)量。
[0011] 所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)Tr通過配置兩 個(gè)工藝處理模塊之間的晶圓傳遞時(shí)間，使得Tn與TP的差值最小。
[0012] 本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果：
[0013] 1、本發(fā)明在給定工藝技術(shù)要求，即給定模塊的工藝時(shí)間與整機(jī)產(chǎn)能要求后，就可 以配制出工藝處理模塊的數(shù)量及工藝傳遞晶圓的速度，減少了試制過程中的資金浪費(fèi)，縮 短了設(shè)計(jì)開發(fā)周期。
[0014] 2、本發(fā)明合理配置了工藝處理模塊的數(shù)量與晶圓的工藝傳遞速度，使得二者與目 標(biāo)產(chǎn)品的產(chǎn)能要求相匹配，三者形成了有機(jī)的聯(lián)系，減少資源的浪費(fèi)，提高了開發(fā)產(chǎn)品的性 價(jià)比。
【附圖說明】
[0015] 圖1是本發(fā)明的開發(fā)設(shè)計(jì)涂膠顯影機(jī)架構(gòu)示意圖。
[0016] 其中，主要工藝處理模塊包括：涂膠前冷卻處理、顯影后冷卻處理、增粘處理、涂膠 處理、涂膠后軟烘處理、顯影后硬烘處理、顯影處理、顯影前冷卻處理、軟烘后冷卻處理、曝 光后烘烤處理、晶圓邊緣曝光處理等十一種；
[0017] 輔助工藝處理模塊包括：晶圓卸載/裝載處理、晶圓緩沖存放處理、光刻機(jī)入口載 臺(tái)、光刻機(jī)出口載臺(tái)等四種；
[0018] 晶圓傳遞機(jī)器人包括：片盒機(jī)器人、涂膠機(jī)器人、顯影機(jī)器人、接口機(jī)器人等四種。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0020] 以開發(fā)設(shè)計(jì)產(chǎn)能是150片/小時(shí)的涂膠顯影機(jī)為例，該涂膠顯影機(jī)可以與光刻機(jī) 聯(lián)線生產(chǎn)。
[0021] 1、確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)：
[0022] 依據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能150片/小時(shí)，參數(shù)TP=3600/150=24
[0023] 2、設(shè)計(jì)涂膠顯影主要工藝環(huán)節(jié)模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)：
[0024] 依據(jù)機(jī)臺(tái)內(nèi)給定的主要模塊工藝處理時(shí)間及工藝輔助時(shí)間，配置相應(yīng)工藝處理模 塊個(gè)數(shù)，按照Tn=(模塊工藝處理時(shí)間+模塊工藝輔助時(shí)間)/模塊數(shù)量，取得各個(gè)工藝處理 模塊的Tn參數(shù)值，盡量保證該參數(shù)值接近TP參數(shù)值；按照工藝處理模塊產(chǎn)能=3600/Tn，取 得各個(gè)工藝處理模塊的產(chǎn)能值。
[0025]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特征在于，根據(jù)目標(biāo) 產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)TP，設(shè)計(jì)機(jī)臺(tái)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù) 與晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)，使得H個(gè)時(shí)間參數(shù)趨于一致。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特 征在于，所述根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)TP=3600/目標(biāo)產(chǎn)能。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特 征在于，所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)化=(模塊工藝處理 時(shí)間+模塊工藝輔助時(shí)間）/模塊數(shù)量。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特 征在于，所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)化通過配置模塊 數(shù)量，使得化與TP的差值最小。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特 征在于，所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)Tr=兩個(gè)工藝處 理模塊之間的晶圓傳遞時(shí)間X需要機(jī)器人傳遞晶圓服務(wù)的工藝模塊種類數(shù)量。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝模塊數(shù)量及機(jī)器人速度的方法，其特 征在于，所述涂膠顯影機(jī)內(nèi)各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)Tr通過配置兩 個(gè)工藝處理模塊之間的晶圓傳遞時(shí)間，使得化與TP的差值最小。
【專利摘要】本發(fā)明涉及用以在集成電路生產(chǎn)時(shí)，開發(fā)設(shè)計(jì)高產(chǎn)能并與光刻機(jī)聯(lián)線生產(chǎn)的涂膠顯影機(jī)，需要合理配置機(jī)臺(tái)內(nèi)工藝處理模塊的數(shù)量及機(jī)器人工藝傳遞的速度，本發(fā)明提供一種配置涂膠顯影機(jī)內(nèi)工藝處理模塊數(shù)量及機(jī)器人工藝傳遞速度的方法，根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)能確立機(jī)臺(tái)的工藝時(shí)間參數(shù)，設(shè)計(jì)機(jī)臺(tái)內(nèi)各個(gè)工藝處理模塊的工藝處理周期時(shí)間參數(shù)與各個(gè)晶圓傳遞機(jī)器人的工藝傳遞周期時(shí)間參數(shù)，使得三個(gè)時(shí)間參數(shù)保持一致。
【IPC分類】H01L21-67, G03F7-26, H01L21-677, G03F7-16
【公開號(hào)】CN104576440
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310526288
【發(fā)明人】胡延兵, 馮偉
【申請(qǐng)人】沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年10月29日
【公告號(hào)】WO2015062214A1