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      半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)的制作方法_2

      文檔序號(hào):8715834閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      傳感面面朝下的狀態(tài)置入開(kāi)口或空腔中的示意圖;
      [0050]圖6a_圖6b是以封裝材料封裝圖5b所示器件及去除器件中的粘接膜并將之倒置的不意圖;
      [0051]圖7是在圖6b所示器件上設(shè)置線路的示意圖;
      [0052]圖8是在圖7所示器件上設(shè)置焊接掩膜和BGA的示意圖;
      [0053]圖9是本實(shí)用新型一實(shí)施例中一種電容指紋傳感器芯片封裝結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0054]圖10是本實(shí)用新型一實(shí)施例中一種CIS傳感器芯片封裝結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0055]附圖標(biāo)記說(shuō)明:指紋傳感器芯片的封裝結(jié)構(gòu)100、封裝基板110、半導(dǎo)體芯片120、半導(dǎo)體芯片傳感面121、半導(dǎo)體芯片傳感面123、導(dǎo)電連線130、封裝膠體140、基板上表面150、電路板1、第一表面101、第二表面102、開(kāi)口或空腔之側(cè)壁103、開(kāi)口或空腔之側(cè)壁104、開(kāi)口或空腔2、第一空間201、第二空間202、第三空間203、模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)3、模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)連接板4、著陸架(landing pad) 5、封裝材料6、第一線路層7、第一線路層表面701、第二線路層8、第二線路層表面801、導(dǎo)電通路9、粘接膜10、傳感芯片11、傳感面111、I/O焊盤(pán)112、重布線12、第三線路層13、導(dǎo)電通路14、焊接掩膜15、BGA 16、保護(hù)層17、藍(lán)寶石玻璃18、IR玻璃19、間隙20、L-橫向、V-縱向。
      【具體實(shí)施方式】
      [0056]以下結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作更為具體的解釋說(shuō)明。
      [0057]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,一種半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)的基本結(jié)構(gòu)可以包括:
      [0058]電路板I,特別是PCB電路板;
      [0059]第一線路層7和第二線路層8,分別設(shè)置于所述電路板I的第一表面101和第二表面102,且所述第一線路層和第二線路層經(jīng)貫穿所述電路板的導(dǎo)電通路9電連接;
      [0060]傳感器芯片11,設(shè)置于所述電路板上的開(kāi)口或空腔2內(nèi),且所述傳感器芯片11與第二線路層8電連接,特別是直接電連接;
      [0061]封裝材料6,用以覆蓋所述電路板I的第一表面101、第一線路層及填充所述開(kāi)口或空腔中未被所述芯片占據(jù)的空間,進(jìn)一步的,所述封裝材料還可延伸至覆蓋電路板I的第二表面102 ;
      [0062]第三線路層13,設(shè)置在封裝材料6上,并經(jīng)貫穿封裝材料的導(dǎo)電通路14與第一線路層電連接。
      [0063]其中,所述傳感器芯片11的傳感面111至少自所述第二線路層8表面801露出,特別是,直接暴露于空氣中。
      [0064]進(jìn)一步的,還可在所述封裝結(jié)構(gòu)中設(shè)置保護(hù)結(jié)構(gòu),以掩蓋并保護(hù)傳感器芯片的傳感面。
      [0065]進(jìn)一步的,所述保護(hù)結(jié)構(gòu)可包括保護(hù)層,其至少掩蓋所述傳感器芯片的傳感面。
      [0066]進(jìn)一步的,所述傳感器芯片11的I/O焊盤(pán)(I/O pad) 112經(jīng)線路與第二線路層8上的線路(Trace)電連接。更進(jìn)一步的,所述芯片的I/O pad表面與第二線路層表面801或所述電路板的最低表面處于同一平面。
      [0067]進(jìn)一步的,所述電路板I表面,特別是電路板第一表面101上還設(shè)有模塊對(duì)位標(biāo)識(shí),用以實(shí)現(xiàn)精確的倒裝芯片布置和導(dǎo)電線路互連。
      [0068]更進(jìn)一步的,所述第一線路層7含有模塊對(duì)位標(biāo)識(shí),用于輔助芯片精準(zhǔn)放置。
      [0069]更進(jìn)一步的,所述第一線路層7含有模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)3,用于輔助芯片精準(zhǔn)放置,全部標(biāo)識(shí)或部分標(biāo)識(shí)同時(shí)成為連接線路和提供導(dǎo)電功能。
      [0070]而對(duì)于用于容置所述芯片的開(kāi)口或空腔2,其在豎直方向上的最高表面和最低表面分別為第一線路層表面701和第二線路層表面801,即分別為電路板的最高表面和最低表面。同時(shí),所述開(kāi)口或空腔2在水平方向上的邊界為所述電路板I在第一表面101和第二表102面之間的開(kāi)口或空腔之側(cè)壁103、104。
      [0071]進(jìn)一步的講,所述開(kāi)口或空腔2之空間包括:
      [0072]第一空間201,即電路板第一表面101和第二表面102之間的開(kāi)口或空腔空間,
      [0073]第二空間202,即第一空間上方表面到第一線路層表面701 (電路板最高表面)的空間,
      [0074]以及,第三空間203,即第一空間下方表面到第二層線路層表面801 (電路板最低表面)的空間。
      [0075]更進(jìn)一步的,所述第一空間201的側(cè)壁為電路板第一表面101和第二表面102之間的電路板連續(xù)截面,而所述第二空間和第三空間無(wú)側(cè)壁。
      [0076]進(jìn)一步的,所述半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)還包括焊接掩膜15,用以連續(xù)覆蓋所述電路板I的第二表面102以及所述第二、第三線路層8、13和封裝材料6,但傳感器芯片11的傳感面111自覆蓋所述電路板第二表面102的焊接掩膜中露出。
      [0077]第一線路層7和第二線路層8分別設(shè)于所述電路板I的第一、第二表面101、102上,且所述第一線路層表面701和第二線路層表面801分別并對(duì)應(yīng)于所述開(kāi)口或空腔2的上、下端面,也即是所述電路板的最高表面和最低表面。
      [0078]在一更為具體的實(shí)施案例中,所述第一線路層還可包含模塊對(duì)位標(biāo)識(shí),用以實(shí)現(xiàn)精確的芯片布置,該模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)包含與線路連接的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,該線路經(jīng)由導(dǎo)電途徑與第二線路層的線路互聯(lián),和/或,模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)是用以實(shí)現(xiàn)精確芯片布置的對(duì)位標(biāo)識(shí)。
      [0079]進(jìn)一步的,參閱圖2,所述模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)可包含模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)3、模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)連接板4、著陸架5等。
      [0080]優(yōu)選的,所述傳感器芯片11的傳感面111與第二線路表面801,亦即所述開(kāi)口或空腔的底端面共平面。
      [0081]其中,所述第一、第二、第三線路層可優(yōu)選由Cu等材質(zhì)形成。
      [0082]其中,所述的第三線路層13亦可稱為RDL (重布線層),其與第二線路層上的線路互連。
      [0083]進(jìn)一步的,傳感器芯片封裝包含RDL和與第一線路層的線路互聯(lián)的導(dǎo)電途徑。
      [0084]進(jìn)一步的,RDL線路與封裝積聚層表面連接。
      [0085]進(jìn)一步的,RDL線路與第一線路層上的線路經(jīng)穿過(guò)封裝材料的導(dǎo)電途徑互聯(lián)。
      [0086]進(jìn)一步的,封裝材料填充于開(kāi)口或空腔內(nèi)除被傳感器芯片占據(jù)的區(qū)域之外的其余空間、開(kāi)口或空腔以上的區(qū)域,未被線路和模塊對(duì)位標(biāo)識(shí)覆蓋的區(qū)域。
      [0087]進(jìn)一步的,覆蓋了第一線路層、開(kāi)口或空腔以上的區(qū)域、未被線路和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記覆蓋的區(qū)域的封裝材料是一積聚層。
      [0088]進(jìn)一步的,焊接掩膜層覆蓋積聚層及積聚層上的RDL,但預(yù)留了 BGA或LGA區(qū)域。
      [0089]進(jìn)一步的,焊接掩膜層覆蓋第二線路層,連接I/O pad和第二線路層上的線路,未被第二線路層覆蓋的電路板區(qū)域,但不覆蓋芯片傳感面。
      [0090]進(jìn)一步的,前述的各導(dǎo)電途徑可以是導(dǎo)電盲孔(blind via)或?qū)щ奝TH(沉銅孔,Plating Through Hole),但不限于此。
      [0091]進(jìn)一步的,所述半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)還包括保護(hù)層,其至少連續(xù)掩蓋所述傳感器芯片的傳感面,優(yōu)選的,其至少連續(xù)掩蓋所述電路板第二表面的焊接掩膜及所述傳感器芯片的傳感面。
      [0092]在一更為具體的實(shí)施案例中,所述保護(hù)結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括覆設(shè)在所述保護(hù)層上的藍(lán)寶石玻璃。
      [0093]在另一更為具體的實(shí)施案例中,所述保護(hù)結(jié)構(gòu)進(jìn)一步紅外玻璃,其至少連續(xù)掩蓋所述電路板第二表面的焊接掩膜及所述傳感器芯片的傳感面,并且所述紅外玻璃與所述傳感器芯片的傳感面之間留有間隙,使透過(guò)所述紅外玻璃的光線能夠直接照射到所述傳感器芯片的傳感面上。
      [0094]進(jìn)一步的,所述半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)還包括焊點(diǎn)陣列,其設(shè)置在覆蓋所述第三線路層和封裝材料表面的焊接掩膜開(kāi)口中并與第三線路層電連接,所述焊點(diǎn)陣列包括 BGA(Ball Grid Array)陣列或 LGA(Land Grid Array)陣列。
      [0095]而在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,一種半導(dǎo)體芯片的包埋式板級(jí)封裝結(jié)構(gòu)的制作方法可以包括:
      [0096](I)提供電路板1,所述電路板的第一表面101和第二表面102分別設(shè)置有第一線
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