專利名稱：場(chǎng)致發(fā)光裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及場(chǎng)致發(fā)光裝置及其制造方法。
技術(shù)背景作為一種利用場(chǎng)致發(fā)光現(xiàn)象的裝置，有有源矩陣型的有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光裝 置。在為有源矩陣型時(shí)，每一像素需要包括控制陽(yáng)極即像素電極的開(kāi)關(guān)用TFT和驅(qū)動(dòng)電流供給用TFT的兩個(gè)以上的TFT。因此，為了同時(shí)確保TFT 形成區(qū)域和提高開(kāi)口率，優(yōu)選在TFT的上面也能夠形成功能層(夾持于陽(yáng) 極和陰極層之間的至少包含有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層的層)的頂發(fā)射型。另外，以 彩色顯示為目標(biāo)時(shí)，難以在每個(gè)像素上用不同的材料低成本且精度優(yōu)良地 形成電獨(dú)立的功能層，從而每一個(gè)像素難以發(fā)出3原色中任一顏色的光。 因此，通常是在圖像顯示區(qū)域整個(gè)面上形成發(fā)白色光的功能層后，通過(guò)陰 極層在該功能層上貼合濾色板則可以顯示彩色圖像(專利文獻(xiàn)1)。在該結(jié)構(gòu)的場(chǎng)致發(fā)光裝置中，密封性和濾色板的裝配方法成為問(wèn)題。 上述功能層由于含有容易與水反應(yīng)的有機(jī)材料和金屬等，因此由于水分(水蒸氣)而劣化。因此，需要有抑制外氣滲入的機(jī)構(gòu)(結(jié)構(gòu))。另外， 功能層和濾色板的間隔(以下稱為"間隙")在顯示區(qū)域內(nèi)存在偏差時(shí)， 可能發(fā)生視野角變化引起的色度變化等顯示品質(zhì)的降低。因此，在進(jìn)行上 述貼合時(shí)，需要能夠抑制上述間隙的偏差、長(zhǎng)時(shí)間保持其狀態(tài)的機(jī)構(gòu)。于 是，上述結(jié)構(gòu)的場(chǎng)致發(fā)光裝置在功能層上形成有由稱為阻氣層的氧化硅膜 或氮化硅膜等構(gòu)成的透明且具有優(yōu)異的水蒸氣隔斷性的薄膜。而且，使用 混合了大致同一尺寸的球形隔離物的粘結(jié)劑將濾色板貼合在該阻氣層上， 來(lái)抑制間隙的偏差及變動(dòng)。專利文獻(xiàn)1:特開(kāi)2001-267070號(hào)公報(bào)但是，在采用上述球形隔離物進(jìn)行貼合的方法中，上述阻氣層和上述 隔離層在點(diǎn)接觸的狀態(tài)加壓，肯定會(huì)對(duì)該阻氣層造成局部的破損等損傷，另外，為避免這樣的事態(tài)而用低彈性率的材料形成隔離層時(shí)，存在會(huì)增大 間隙的偏差的問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于上述課題而開(kāi)發(fā)的，目的在于提供一種不會(huì)對(duì)阻氣層造 成損害且抑制間隙的偏差，提高了顯示性能品質(zhì)的場(chǎng)致發(fā)光裝置。為解決上述課題，本發(fā)明的場(chǎng)致發(fā)光裝置具有顯示體基板和保護(hù)基 板，所述顯示體基板包括顯示體層和密封層，所述顯示體層包括矩陣狀 配置的開(kāi)關(guān)元件和利用該開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件，所述密封層 包括形成于所述顯示體層上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層；所述保護(hù)基板由表面層疊有由相互不同的材料構(gòu)成的至少兩種隔離層的透光性 材料構(gòu)成，所述顯示體基板和所述保護(hù)基板以所述隔離層內(nèi)的最上層的隔 離層和所述阻氣層緊貼的方式貼合在一起，其特征在于，所述最上層的隔 離層比所述阻氣層的彈性率低。上述最上層的隔離層的彈性率低，另外雙方進(jìn)行面接觸，因此，能夠 抑制上述阻氣層受到局部性的損害。另外，由于在形成隔離層時(shí)可以選擇 任意的膜厚，因此能夠填補(bǔ)起因于上述最上層的隔離層的低彈性率的變形 而形成任意的間隙。因此，通過(guò)該結(jié)構(gòu)，能夠在顯示體基板上形成密封性優(yōu)異的阻氣層， 且能夠?qū)⒈Ｗo(hù)基板保持任意的間隙貼合在其上層，能夠提高場(chǎng)致發(fā)光裝置 的顯示性能，且能夠抑制水蒸氣的滲入引起的經(jīng)年劣化。另外，為解決上述課題，本發(fā)明的場(chǎng)致發(fā)光裝置具有顯示體基板和保護(hù)基板，所述顯示體基板包括顯示體層和密封層，所述顯示體層包括矩 陣狀配置的幵關(guān)元件和利用該開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件，所述密封層包括形成于所述顯示體層上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層；所述保護(hù)基板由包括濾色層、形成于所述濾色層上的第一隔離層和形成于所 述第一隔離層上的第二隔離層的透光性材料構(gòu)成，所述顯示體基板和所述 保護(hù)基板以所述第二隔離層和所述阻氣層緊貼的方式貼合在一起，其特征 在于，所述第二隔離層比所述第一隔離層及所述阻氣層的彈性率更低。 上述第一隔離層與上述第二隔離層相比彈性慮高，難以變形，因此能夠抑制上述顯示體基板和上述保護(hù)基板貼合時(shí)的壓力引起的變形。因此， 根據(jù)該結(jié)構(gòu)，可以得到能夠進(jìn)一步抑制顯示區(qū)域內(nèi)的上述間隙的偏差，能 夠抑制水蒸氣的滲入引起的經(jīng)年劣化，且顯示性能進(jìn)一步提高的場(chǎng)致發(fā)光 裝置。
優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，所述密封層包括在所述顯示體層上 按順序?qū)盈B而成的陰極保護(hù)層、有機(jī)緩沖層及所述阻氣層的至少三種材料層。
上述發(fā)光元件的最上層即陰極層為了付與透光性而使用膜厚極薄的 金屬膜，通過(guò)在其上層形成陰極保護(hù)膜，能夠降低涂敷形成有機(jī)緩沖層時(shí) 及與上述保護(hù)基板的貼合加重等造成的陰極的凹陷或斷線等的影響。而 且，在其上層形成有機(jī)緩沖層而使像素隔壁或配線等的凹凸平坦化，由此 能夠抑制在阻氣層上發(fā)生的龜裂等的缺陷。因此，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，可以得到 能夠進(jìn)一步抑制經(jīng)年劣化，且顯示性能進(jìn)一步提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，所述有機(jī)緩沖層的彈性率比 所述第二隔離層的彈性率更高。
阻氣層是由用硅酸氮化物構(gòu)成的彈性率高的無(wú)機(jī)化合物構(gòu)成的薄膜， 因此，下層即成為基底的層變形時(shí)，可能發(fā)生凹陷或龜裂等損傷。但是， 上述有機(jī)緩沖層的彈性率比上述第二隔離層的彈性率高時(shí)，貼合時(shí)的壓力 被上述第二隔離層的變形吸收，從而能夠抑制上述有機(jī)緩沖層的變形。
因此，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用上述有機(jī)緩沖層的變形能夠抑制上述阻氣層 受到損傷，因此，可以得到能夠進(jìn)一步抑制經(jīng)年劣化，且顯示性能進(jìn)一步 提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，所述第二隔離層被圖案化， 局部地配置在所述第一隔離層上。
在進(jìn)行上述顯示體基板和上述保護(hù)基板的貼合時(shí)，不但需要使上述第 二隔離層與阻氣層接觸而且需要使上述兩個(gè)基板在水平方向進(jìn)行相對(duì)移 動(dòng)且使上述發(fā)光元件和上述濾色層的位置一致。這時(shí)，由于上述方式的第 二隔離層的作用，水平方向移動(dòng)時(shí)的摩擦阻抗降低，因此位置對(duì)合精度提 高，另外，能夠抑制在上述第二隔離層的側(cè)面部發(fā)生破損或變形等。因此， 能夠得到顯示性能進(jìn)一步提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，所述濾色層由濾色板和黑矩 陣形成，所述濾色板被著色成紅、綠、藍(lán)三原色中的任一種色調(diào)，所述黑 矩陣由隔開(kāi)各個(gè)該濾色板的遮光性材料構(gòu)成，所述第一隔離層及所述第二 隔離層的至少任一方僅配置于所述黑矩陣上。
在黑矩陣上配置的材料不需要透光性，因此擴(kuò)大了材料的選擇范圍。 因此，能夠?qū)⒅攸c(diǎn)置于成本和構(gòu)圖性等上而選擇隔離層形成材料，能夠得 到品質(zhì)提高和成本降低等效果。另外，通過(guò)制成選擇遮光材料的隔離層， 也可以防止鄰接的像素的光泄露，也可以制成色再現(xiàn)性高的高精細(xì)的顯示 裝置。 .
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，所述第二隔離層被圖案化，
在由圖案化而產(chǎn)生的側(cè)面部形成10 60度的順向錐部。
在進(jìn)行上述顯示體基板和上述保護(hù)基板的貼合時(shí)，不但需要使上述第 二隔離層與阻氣層接觸而且需要使上述兩個(gè)基板在水平方向進(jìn)行相對(duì)移 動(dòng)，以使上述發(fā)光元件和上述濾色層的位置一致。這時(shí)，由于上述方式的 第二隔離層的作用，移動(dòng)時(shí)的阻抗降低，因此位置對(duì)合精度提高，另外， 能夠抑制在上述側(cè)面部發(fā)生破損或變形等。因此，能夠得到顯示性能進(jìn)一 步提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的特征在于，在所述第二隔離層的表面形 成有凹凸。
在進(jìn)行上述顯示體基板和上述保護(hù)基板的貼合時(shí)，不但需要使上述第 二隔離層與上述阻氣層接觸而且需要使上述兩個(gè)基板在水平方向進(jìn)行相 對(duì)移動(dòng)，以使上述發(fā)光元件和上述濾色層的位置一致。這時(shí)，由于上述方 式的第二隔離層的作用而降低移動(dòng)時(shí)的摩擦阻抗，因此位置對(duì)合精度提 高，因此，能夠得到顯示性能進(jìn)一步提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于，所述第二隔離層的膜厚比 所述第一隔離層的膜厚更薄。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)能夠進(jìn)一步抑制上述間隙的偏差。因此，能夠得到顯示性 能進(jìn)一步提高的場(chǎng)致發(fā)光裝置。
另外，為解決上述課題，本發(fā)明提供一種場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法， 包括貼合工序，該貼合工序?qū)⒃谧钌蠈泳哂杏杀Ｗo(hù)形成于基板表面的元件組的高彈性率材料構(gòu)成的阻氣層的第一基板，在表面具有兩層以上的隔離 層的第二基板，與所述阻氣層和所述隔離層以緊貼的方式貼合，其特征在 于，用比該最上層的隔離層的下層的隔離層及所述阻氣層彈性率更低的材 料形成所述兩層以上的隔離層內(nèi)的最上層的隔離層，在所述最上層的隔離 層上吸收所述阻氣層的表面的凹凸。
根據(jù)該制造方法，能夠不損害上述阻氣層而使上述第一基板和上述第 二基板緊貼且固定。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)保護(hù)上述元件組、及使上述第一基板 和上述第二基板的間隔均勻化兩方面。因此，不損害可靠性等且能夠提高 場(chǎng)致發(fā)光裝置的顯示品質(zhì)。
另外，為解決上述課題，本發(fā)明提供一種場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法， 其包括貼合工序，在該貼合工序中，以所述第二隔離層和所述阻氣層緊貼 的方式將所述顯示體基板和所述保護(hù)基板重疊而加重，所述顯示體基板包 括顯示體層和密封層，所述顯示體層包括矩陣狀配置的開(kāi)關(guān)元件和利用該 開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件，所述密封層包括形成于所述顯示體基 板上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層；所述保護(hù)基板由包括濾色層、 形成于所述濾色層上的第一隔離層和形成于所述第一隔離層上的第二隔 離層的透光性材料構(gòu)成，其特征在于，用比所述第一隔離層及所述阻氣層 彈性率更低的材料形成所述最第二隔離層，所述第二隔離層吸收所述阻氣 層的凹凸，并且不使所述阻氣層凹陷而接觸，從而使所述顯示體層和所述 濾色層的間隔保持為大致恒定。
根據(jù)該制造方法，能夠不損害上述阻氣層而使上述顯示體層和上述濾 色層的間隔保持一定。因此，能夠不損害可靠性等而提高場(chǎng)致發(fā)光裝置的 顯示品質(zhì)。
另外，優(yōu)選的場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，所述貼合工序 包括以將所述第二隔離層和所述阻氣層緊貼的狀態(tài)，使所述顯示體基板和 所述保護(hù)基板在水平方向相對(duì)移動(dòng)的工序。
根據(jù)該制造方法，能夠不損害上述阻氣層且以更近的距離高精度地調(diào) 整發(fā)光元件和濾色板的相對(duì)位置，因此，能夠更進(jìn)一步提高場(chǎng)致發(fā)光裝置 的顯示性能。


圖1是表示場(chǎng)致發(fā)光型的EL裝置的整體結(jié)構(gòu)的回路構(gòu)成圖； 圖2是示意地表示第一實(shí)施方式的EL裝置的剖面圖； 圖3是示意地表示使用現(xiàn)有的球型的隔離層的EL裝置的剖面圖； 圖4是表示第二實(shí)施方式的、顯示體基板和保護(hù)基板的貼合的形態(tài)的 工序剖面圖5是表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖； 圖6是表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖； 圖7是表示本發(fā)明第五實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖； 圖8是表示本發(fā)明第六實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖； 圖9是表示本發(fā)明第七實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖； 圖IO是表示本發(fā)明第八實(shí)施方式的保護(hù)基板的圖。 符號(hào)說(shuō)明
1、 顯示體基板
2、 保護(hù)基板
10、第一基板
20、第二基板
32、像素電極
34、功能層
36、陰極層
40、周邊回路
50、隔壁
52、反射板
62、陰極保護(hù)層
64、有機(jī)緩沖層
66、阻氣層
70、濾色層
71、濾色板
72、黑矩陣
75、外涂層77、周邊密封劑
78、透明充填劑
80、隔離層
81、第一隔離層
82、第二隔咼層
88、球形隔離物
卯、圖像顯示區(qū)域
100、像素區(qū)域
102、掃描線
104、數(shù)據(jù)線
106、電源供給線
108、開(kāi)關(guān)用TFT
110、保持容量
112、驅(qū)動(dòng)用TFT
114、發(fā)光元件
115、漏電極
116、柵電極
120、掃描線驅(qū)動(dòng)回路
130、數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)回路
140、同步數(shù)據(jù)線
具體實(shí)施例方式
下面，作為將本發(fā)明具體化的實(shí)施方式，以頂發(fā)射型的場(chǎng)致發(fā)光(下
面，稱為"EL")裝置為例，根據(jù)附圖進(jìn)行說(shuō)明。該頂發(fā)射型的場(chǎng)致發(fā)光 裝置為由形成于后述的圖像顯示區(qū)域的整個(gè)面的發(fā)光層發(fā)出白色光，用濾 色板將該白色光調(diào)制成三原色而顯示彩色圖像。另外，用于以下說(shuō)明的各 附圖中，為了成為可認(rèn)識(shí)各構(gòu)件的大小，對(duì)各構(gòu)件的比例尺進(jìn)行了適當(dāng)變 更。
本發(fā)明涉及形成于濾色層的上層的隔離層，特征在于其截面。因此， 首先用圖1對(duì)后述的實(shí)施方式及現(xiàn)有例中共同的有源矩陣型的EL裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。
圖1是表示有源矩陣型的EL裝置的整體結(jié)構(gòu)的回路構(gòu)成圖。在圖像
顯示區(qū)域90形成有多個(gè)掃描線102、與掃描線102正交的多個(gè)數(shù)據(jù)線 104、與數(shù)據(jù)線104平行延伸的多個(gè)電源供給線106，在掃描線102和數(shù)據(jù) 線104的各個(gè)交點(diǎn)附近形成有像素區(qū)域100。 g口，在圖像顯示區(qū)域卯，像 素區(qū)域100配置成矩陣狀。而且，在各像素區(qū)域100形成有通過(guò)掃描線 102向柵電極供給掃描信號(hào)的開(kāi)關(guān)用TFT108、通過(guò)開(kāi)關(guān)用TFT108保持從 數(shù)據(jù)線104供給的像素信號(hào)的保持容量110、向柵電極供給由保持容量110 保持的像素信號(hào)的驅(qū)動(dòng)用TFT112共計(jì)3個(gè)元件。
在驅(qū)動(dòng)用TFT112的一端子的前端，形成有通過(guò)該驅(qū)動(dòng)用TFT從電源 供給線106流入驅(qū)動(dòng)電流的發(fā)光元件114。如后述，發(fā)光元件114由與上 述一方的端子導(dǎo)通的作為陽(yáng)極的像素電極、成為共通電位的陰極層、和由 像素電極和陰極層夾持的功能層構(gòu)成。
為了與各個(gè)驅(qū)動(dòng)用TFT112相對(duì)應(yīng)，像素電極被圖案化為在鄰接的各 個(gè)像素電極間具有規(guī)定間隔。另一方面，功能層和陰極層遍及圖像顯示區(qū) 域90的整個(gè)范圍而形成，且用像素電極和陰極層夾持功能層。
驅(qū)動(dòng)掃描線102且開(kāi)關(guān)用TFT108成為導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)，該時(shí)刻的數(shù)據(jù)線 104的電位保持于保持容量110，根據(jù)保持容量110的狀態(tài)來(lái)決定驅(qū)動(dòng)用 TFT112的電平。而且，驅(qū)動(dòng)電流通過(guò)驅(qū)動(dòng)用TFT112從電源供給線106 流入陽(yáng)極，進(jìn)而，驅(qū)動(dòng)電流通過(guò)功能層流入陰極層。其結(jié)果是，功能層發(fā) 光層與各個(gè)驅(qū)動(dòng)用TFTU2導(dǎo)通的陽(yáng)極相對(duì)的區(qū)域(部分)按照驅(qū)動(dòng)電流
的大小發(fā)光，通過(guò)后述的濾色板作為任意的原色光向外部照射。通過(guò)對(duì)任 意區(qū)域的功能層發(fā)光層通上任意的電流，則可在圖像顯示區(qū)域卯形成彩 色圖像。
在圖像顯示區(qū)域90的周邊，形成有掃描線驅(qū)動(dòng)回路120及數(shù)據(jù)線驅(qū) 動(dòng)回路130。根據(jù)由未圖示的周邊回路供給的各種信號(hào)從掃描線驅(qū)動(dòng)回路 120向掃描線102依次供給掃描信號(hào)。而且，從數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)回路130向數(shù) 據(jù)線104供給圖像信號(hào)，從未圖示的周邊回路向電源供給線106供給像素 驅(qū)動(dòng)電流。另外，掃描線驅(qū)動(dòng)回路120的動(dòng)作和數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)回路130的動(dòng) 作利用通過(guò)同步數(shù)據(jù)線140從周邊回路供給的同步信號(hào)實(shí)現(xiàn)相互同步。(第一實(shí)施方式)
圖2是示意地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的頂發(fā)射型的EL裝置的剖
面圖。以本發(fā)明的說(shuō)明必要的濾色層70、隔離層80、及密封層為中心進(jìn) 行圖示，開(kāi)關(guān)用TFT108及保持容量110等本發(fā)明的說(shuō)明中不需要的要素 省略圖示或簡(jiǎn)化。
本實(shí)施方式的EL裝置的顯示體基板1和保護(hù)基板2用后述的粘接層 貼合而形成。顯示體基板1由第一基板10、形成于第一基板IO上的顯示 體層、形成于該顯示體層上的密封層構(gòu)成。在此，所謂的顯示體層，意思 是形成于第一基板10上的元件組即元件及配線等的集合體，包括形成于 圖像顯示區(qū)域90 (參照?qǐng)D1)的發(fā)光元件114等、和形成于圖像顯示區(qū)域 90周邊的周邊回路40。所謂周邊回路40是上述的掃描線驅(qū)動(dòng)回路120、 數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)回路130及同步數(shù)據(jù)線140等的總稱。另外，所謂的密封層是 包括后述的阻氣層的多個(gè)層的集合體。
在矩陣狀配置于圖像顯示區(qū)域90的各個(gè)圖像區(qū)域100，形成有驅(qū)動(dòng)用 TFT112和發(fā)光元件114。發(fā)光元件114由像素電極32、包含發(fā)光層的功 能層34、及作為共通電極的陰極層36構(gòu)成。驅(qū)動(dòng)用TFT112由半導(dǎo)體層 113、柵電極116及未圖示的柵極絕緣膜構(gòu)成。
在驅(qū)動(dòng)用TFT112和柵電極116之間、及漏電極115和發(fā)光元件114 之間等的各個(gè)構(gòu)成要素之間，形成由硅酸氮化物等構(gòu)成的層間絕緣膜，從 而電絕緣。而且，通過(guò)僅在必要的部分形成于該層間絕緣膜的接觸孔而電 連接。
本實(shí)施方式的EL裝置是頂發(fā)射型裝置，因此，像素電極32不需要具 有透光性，但是考慮到功函數(shù)的高度及構(gòu)圖，最表面用ITO (銦，錫氧化 物)形成。陰極層36由于要求功函數(shù)低，因此使用MgAg (鎂 銀合金) 將膜厚變薄至大致10nm，由此確保頂發(fā)射型必要的透光性。
功能層34被夾持于像素電極32和陰極層36之間，是利用通電而發(fā) 光的層。在本實(shí)施方式的EL裝置中，是在像素電極32上按順序?qū)盈B作 為正孔注入層的ATP (聚乙烯)多量體薄膜、作為正孔輸送層的TPD (三 苯基二胺衍生物)薄膜、作為發(fā)光層的添加了蒽系摻雜劑(藍(lán)色)或紅熒 烯系摻雜劑(黃色)薄膜、作為電子注入層的Alq3 (三羥基喹啉鋁)薄膜、作為電子注入緩沖層的LiF (氟化鋰)薄膜而形成。
隔壁50由絕緣材料構(gòu)成，在像素電極32的上層以包圍該像素電極的 方式形成格子狀。陰極層36和功能層34形成于包括隔壁50上的像素顯 示區(qū)域90的大致整個(gè)面上。在隔壁50上，像素電極32和功能層34被絕 緣，功能層34不會(huì)發(fā)光。即，隔壁50對(duì)鄰接的各個(gè)發(fā)光元件114區(qū)間進(jìn) 行劃分。在功能層34及像素電極32的下層，與頂發(fā)射型相對(duì)應(yīng)地形成有 由金屬材料構(gòu)成的反射板52，將從功能層34產(chǎn)生的發(fā)光高效地向上方的 顯示面?zhèn)确瓷洹?br> 密封層由陰極保護(hù)層62、有機(jī)緩沖層64和阻氣層66構(gòu)成，并按上述 順序?qū)盈B于陰極層36上。陰極保護(hù)層62為硅氧化物或硅酸氮化物的較薄 的層，在CVD法等的低溫下通過(guò)膜應(yīng)力小的氣相成長(zhǎng)法進(jìn)行成膜。而且， 形成有機(jī)緩沖層64時(shí)，起到保護(hù)陰極層36的作用。有機(jī)緩沖層64由環(huán) 氧化合物等透光性材料構(gòu)成，是將液狀的原料在采用間隙涂敷法或網(wǎng)版印 刷法等涂敷法形成后進(jìn)行固化而成的，因此成為平坦性極高的層。功能層 34、陰極保護(hù)層62等即使將它們合計(jì)也不過(guò)是膜厚為100 500nm的極薄 的層，因此，不能消除由隔壁50形成的3 5um的臺(tái)階，隔壁50的凹凸 幾乎原封不動(dòng)地殘存在第一基板10上。于是，在形成阻氣層66之前，涂 敷3~5 u m的環(huán)氧化合物而使臺(tái)階大致平坦化，由此防止阻氣層66的膜欠 缺變形、膜厚變動(dòng)。阻氣層66由硅酸氮化物、由硅酸氮化物構(gòu)成的致密 且耐水性高的氮含量比較多的材料構(gòu)成，通過(guò)使用了高密度等離子源的濺 射或CVD、離子電鍍法等的氣相成長(zhǎng)法來(lái)制膜。為控制設(shè)備成本也可以 使用和陰極保護(hù)層62同樣的裝置形成。
保護(hù)基板2是將濾色層70、外涂層75和隔離層80在第二基板20上 按照該記載的順序?qū)盈B而形成。第二基板20與頂發(fā)射型對(duì)應(yīng)，因此需要 具有透光性，用玻璃等、或聚丁烯、丙烯樹(shù)脂、聚碳酸酯等透明塑料形成。 在背面(未形成濾色層等側(cè)的面)也可以形成UV (紫外線)隔斷/吸收層、 光反射防止層、放熱層等。
濾色層70由僅規(guī)定范圍的波長(zhǎng)的光透過(guò)的濾色板71、可隔斷可視光 的黑矩陣72構(gòu)成。濾色板71是使紅、綠、藍(lán)任一種光透過(guò)的過(guò)濾板，與 發(fā)光元件114的配置一起形成矩陣狀，黑矩陣72形成圍繞濾^^板的格子狀。各個(gè)發(fā)光元件114由隔壁50相互分開(kāi)，因此黑矩陣72以在垂直方向 與隔壁50大致重合的方式形成。
外涂層75是自現(xiàn)有的球形隔離物起以作為濾色層70的表面保護(hù)為目 的，形成于濾色層70上的整個(gè)面的透光性薄膜，但是本發(fā)明的多層隔離 層結(jié)構(gòu)也是根據(jù)需要設(shè)計(jì)的。而且，在外涂層75上形成由第一隔離層81 和第二隔離層82構(gòu)成的隔離層80，將濾色層70和發(fā)光元件114的間隔保 持為一定值。本實(shí)施方式的EL裝置的隔離層80由于雙方都與發(fā)光元件 114及濾色層71至少一部分重合，因此用樹(shù)脂等透光性材料形成。而且， 如后所述，第一隔離層81和第二隔離層82具有不同的彈性率。
顯示體基板1和保護(hù)基板2用由周邊密封劑77和透明填充劑78兩種 粘結(jié)劑構(gòu)成的粘結(jié)層貼合而成。周邊密封劑77是確保將顯示體基板1和 保護(hù)基板2貼合時(shí)的位置精度，且具有用于防止透明填充劑78溢出的堤 壩作用的構(gòu)件。用周邊密封劑77圍在保護(hù)基板2的周圍，用保護(hù)基板2 和周邊密封劑77形成凹部。而且，給該凹部供給了透明填充劑78后，覆 蓋顯示體基板1且加壓，在阻氣層66和第二隔離層82貼緊的狀態(tài)下，周 邊密封劑77和透明充填劑78固化從而貼合在一起。關(guān)于雙方的粘結(jié)劑的 性質(zhì)將在下文敘述。
另外，上述的"貼緊的狀態(tài)"，意思不是阻氣層66和第二隔離層82 整個(gè)面緊密粘接，而是至少一部分為相互接觸的狀態(tài)。阻氣層66由于下 層的影響而在表面產(chǎn)生若干凹凸。因此，即使例如第二隔離層82形成于 圖像顯示區(qū)域90的整個(gè)面，在將顯示體基板1和保護(hù)基板2貼合在一起 時(shí)，阻氣層66和第二隔離層82也會(huì)產(chǎn)生未接觸的部分(區(qū)域)。
如上所述，在本實(shí)施例的EL裝置中，第一隔離層81及第二隔離層 82具有不同的彈性率，該彈性率是考慮上述的有機(jī)緩沖層64的彈性率而 決定的。具體而言，第二隔離層82是用比第一隔離層81及有機(jī)緩沖層64 彈性率更低的材料形成的，例如第一隔離層81及有機(jī)緩沖層64用3 10Gpa 的環(huán)氧樹(shù)脂形成，第二隔離層82用1 3Gpa的丙烯樹(shù)脂形成。將濾色板 71和發(fā)光元件114的間隙保持為一定值的功能主要由第一隔離層81來(lái)完 成。第二隔離層82起到防止將保護(hù)基板2貼合在顯示體基板1上時(shí)的壓 力(也包括給顯示體基板1的水平方向的壓力)對(duì)阻氣層66、造成損傷的作用。另外，阻氣層66用硅酸氮化物形成，因此具有比由環(huán)氧化合物構(gòu)
成的有機(jī)緩沖層64更高的彈性率(100Gpa以上)。因此，阻氣層66與第 二隔離層82相比具有高得多的彈性率。
阻氣層66比第二隔離層82更難以變形，因此在貼合時(shí)即使相互加壓 接合也只有第二隔離層82變形而吸收壓力，從而抑制對(duì)阻氣層66造成龜 裂或凹陷等損傷。因此，在貼合時(shí)，即使第二隔離層82變形，在阻氣層 66上也不會(huì)產(chǎn)生龜裂等損傷，能夠維持隔斷水蒸氣的功能，抑制由于水蒸 氣等的滲入而造成的發(fā)光元件114的經(jīng)年劣化。
另外，第一隔離層81比第二隔離層82更難以變形，因此貼合時(shí)的壓 力幾乎被第二隔離層82的變形全部吸收，能夠抑制第一隔離層81變形。 因此，發(fā)光元件114和濾色板71的間隙保持一定，能夠抑制顯示性能被 損害。而且，第一隔離層81的膜厚可以設(shè)定為任意數(shù)值，因此也可以將 間隙縮小為比現(xiàn)有的球形隔離物的平均直徑即3 5ym更小。因此，即使 保護(hù)基板2所占的濾色層70的面積增大、黑矩陣72的面積縮小，也不會(huì) 產(chǎn)生發(fā)光泄露，能夠得到高開(kāi)口率且低耗能的EL裝置。另外，通過(guò)縮小 間隙，也能夠提高將顯示體基板1和保護(hù)基板2貼合在一起時(shí)的位置精度。
另外，有機(jī)緩沖層64比第二隔離層82更難以變形，因此可抑制對(duì)阻 氣層66加壓帶來(lái)的變形。在進(jìn)行上述加壓時(shí)，變成有機(jī)緩沖層64和第二 隔離層82將阻氣層66夾住并擠壓(加壓)的狀態(tài)。阻氣層66是硅酸氮 化物的薄膜，因此，下層因加壓而變形時(shí)，容易在該變形位置開(kāi)始龜裂等。 但是，該加壓被第二隔離層82的變形吸收，因此能夠抑制有機(jī)緩沖層64 的變形，其結(jié)果是也可以抑制在阻氣層66上發(fā)生龜裂等。
因此，如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，能夠進(jìn)一步抑制圖像顯示 區(qū)域90內(nèi)的間隙的參差不齊，同時(shí)能夠抑制由于水蒸氣的滲入引起的經(jīng) 年劣化。因此，能夠得到顯示性能及可靠性更進(jìn)一步提高的EL裝置。
圖3是示意地表示作為比較的使用現(xiàn)有的球型隔離層確保間隙的EL 裝置的剖面圖。和圖2所示的第一實(shí)施方式的EL裝置相比僅隔離層的形 態(tài)不同。于是，對(duì)共同的結(jié)構(gòu)要素賦予同樣的符號(hào)，省略其說(shuō)明的記載。
保護(hù)基板2是在第二基板20上將濾色層70和外涂層75層疊而形成， 通過(guò)球形隔離物88和顯示體基板1貼合而成。具體而言，利用混合了,徑3~5 u m的球形隔離物88的透明填充劑貼合在一起。
球形隔離物88從表面到中心用單一材料形成，因此將間隙保持為恒 定值并且以不使其它的結(jié)構(gòu)要素、即阻氣層66等變形的方式吸收貼合時(shí) 的壓力較困難。另外，小直徑的球形隔離物容易凝聚，難以均勻地分散。 另外，球形隔離物88 —般情況購(gòu)入標(biāo)準(zhǔn)件，因此設(shè)定任意值的間隙是困 難的，也不能將間隙縮小為3um以下而提高開(kāi)口率。本實(shí)施方式的EL 裝置也與有關(guān)課題對(duì)應(yīng)。因此，可以提供不但使成本降低而且顯示品質(zhì)得 到提高的EL裝置。
(隔離層等的形成材料)
第一隔離層81的形成材料使用固化后彈性率提高的酚醛樹(shù)脂或環(huán)氧 樹(shù)脂、酚醛清漆樹(shù)脂、異丁烯酸酯樹(shù)脂、丙烯樹(shù)脂、以殘留有水分且不構(gòu) 成產(chǎn)生氣泡的原因的含水率不足0.01wt。/。的聚烯烴樹(shù)脂。為使其彈性率比 第二隔離層82更大，因此優(yōu)選3 10GPa范圍?？紤]到調(diào)整間隙的情況及 使濾色板71和黑矩陣72的臺(tái)階平坦化的情況，優(yōu)選膜厚(層厚)在1 5pm 的范圍。形成方法是在旋轉(zhuǎn)涂敷(鍍膜)或縫模涂敷后的光刻工序進(jìn)行圖 案化，也可以用網(wǎng)板印刷法或噴墨印刷法等印刷法進(jìn)行圖案涂敷。
第二隔離層82的形成材料以低彈性率為主要條件，因此優(yōu)選異戊二 烯橡膠或苯乙烯丁二烯橡膠等橡膠類樹(shù)脂、氨基甲酸酯樹(shù)脂、硅酮樹(shù)脂、 低密度聚乙烯等。由于其彈性率比第一隔離層81更小，因此優(yōu)選在1 3GPa 范圍。形成方法可以使用異戊二烯等橡膠類正型感光性材料且使用光刻工 序。另外，也可以用網(wǎng)板印刷法和噴墨印刷法等涂敷非感光性材料。為抑 制間隙的不均勻，在能夠吸收阻氣層66的表面凹凸的范圍內(nèi)優(yōu)選薄的膜 厚，優(yōu)選0.1 lpm。
透明填充劑78為通過(guò)加熱進(jìn)行固化，且不受UV照射的影響的液體 材料，由原料主成分和固化劑構(gòu)成。作為原料主成分，需要流動(dòng)性優(yōu)異且 如溶劑類的不具有揮發(fā)成分的有機(jī)化合物材料，優(yōu)選具有環(huán)氧基的分子量 3000以下的環(huán)氧單體/低聚物。例如有雙(苯)酚A型環(huán)氧低聚物、雙 (苯)酚F型環(huán)氧低聚物、(苯)酚醛清漆型的環(huán)氧低聚物等，可以單獨(dú) 或?qū)⑺麄兘M合使用。
作為固化劑，適宜的是電絕緣性優(yōu)異且堅(jiān)韌、形成耐熱性優(yōu)異的固化皮膜的材料，適宜的是透明性優(yōu)異且固化不均勻少的付加聚合型。例如，
優(yōu)選3-甲基-l、 2、 3、 6-四氫無(wú)水苯二甲酸、甲基-3、 6-酸酐-l、 2、 3、 6-四氫無(wú)水苯二甲酸等、或優(yōu)選它們的聚合物等酸酐類固化劑。固化是通過(guò) 在60 10(TC的范圍內(nèi)加熱而進(jìn)行，由于成為耐熱性非常優(yōu)異的固化物，所 以適用于高可靠性用途。另外，對(duì)于不要求耐熱性的用途也可以采用在室 溫進(jìn)行固化的胺類固化劑。涂敷時(shí)的粘度調(diào)整為100 2000mPa s使用。
周邊密封劑77是通過(guò)UV (紫外線)進(jìn)行固化的材料，由環(huán)氧材料的 原材料主成分和固化劑構(gòu)成。主要成分優(yōu)選具有環(huán)氧基的分子量3000以 下的環(huán)氧單體/低聚物，且使用和透明填充劑78同樣的材料。作為固化劑 使甩重氮鹽、二苯基碘鹽、鐵一芳烴絡(luò)合物等光反應(yīng)型開(kāi)始劑，利用uv 的照射引起陽(yáng)離子聚合反應(yīng)。另外，在UV照射后經(jīng)過(guò)一定時(shí)間之后粘 度上升的滯后反應(yīng)型使涂敷及貼合時(shí)的粘度極端下降至1 5萬(wàn)mPa s， 因此即使貼合加重少容易使間隙縮小等也合適。由于只在圖像顯示區(qū)域90 的外側(cè)使用，因此不需要透光性。 (第二實(shí)施方式)
作為本發(fā)明的第二實(shí)施方式，圖4是表示顯示體基板1和保護(hù)基板2 的貼合形態(tài)的工序剖面圖。與實(shí)際的貼合工序一致，將圖2所示的形態(tài)上 下反轉(zhuǎn)。為表示本實(shí)施方式中阻氣層66和第二隔離層82的干涉的狀態(tài)， 在顯示體基板1中省略阻氣層66以外的結(jié)構(gòu)要素的圖示。另外，在保護(hù) 基板2中，和第一實(shí)施方式共同的結(jié)構(gòu)要素賦予同樣的符號(hào)，省略一部分 說(shuō)明。
首先，如圖4(a)所示，使周邊密封劑77在保護(hù)基板2的周圍形成 堤壩狀。用針式轉(zhuǎn)移法或網(wǎng)板印刷法等向保護(hù)基板2上供給周邊密封劑
77。 通過(guò)使用具有5 20X 104Pa/s粘度的材料，尤其是未經(jīng)固化工序就能
夠維持堤壩狀的形態(tài)。
而后，向由周邊密封劑77和保護(hù)基板2形成的凹部供給透明填充劑
78。 供給法優(yōu)選噴射分配法。周邊密封劑77和透明填充劑都為受熱固化 而粘接的材料。
而后，通過(guò)UV照射使周邊密封劑77臨時(shí)固化。UV照度優(yōu)選 30mW/cm2，光量?jī)?yōu)選2000mJ/cn^左右。對(duì)于UV，周邊密封劑77是雖然粘度比涂敷時(shí)上升，但是未完全固化的材料，透明充填劑78是未固化的 材料。因此，在該階段，透明充填劑78保持低粘度的液狀。
其次，如圖4(b)所示，通過(guò)真空貼合裝置以覆蓋保護(hù)基板2的方式 配置顯示體基板1。在顯示體基板1的外緣部，在周邊回路40 (參照?qǐng)D2) 上形成阻氣層66等，該阻氣層與周邊密封劑77為緊貼的形態(tài)。而且，在 中央?yún)^(qū)域、即上述外緣部的內(nèi)側(cè)區(qū)域，第二隔離層82和阻氣層66的一部 分為緊貼形態(tài)。
本工序在1Pa左右的真空氛圍氣下進(jìn)行貼合，因此，周邊密封劑77 和顯示體基板1接觸時(shí)，其內(nèi)部為透明填充劑78和真空空間共存的狀態(tài)。 而且通過(guò)恢復(fù)至大氣壓，上述的真空空間被透明充填劑78充滿。透明充 填劑78的供給量以完全充滿上述空間且在進(jìn)行上述貼合時(shí)向外部擠出的 量為最小的方式來(lái)選擇。
而且，如圖4 (c)所示，使顯示體基板1和保護(hù)基板2相對(duì)地進(jìn)行水 平移動(dòng)，進(jìn)行雙方基板的定位。即，通過(guò)調(diào)整使發(fā)光元件114 (參照?qǐng)D2) 和濾色層70相互成為最適合的位置，EL裝置可以顯示合適的圖像。通 過(guò)真空貼合裝置，可以和圖4 (b)的工序同時(shí)進(jìn)行。
這時(shí)，在阻氣層66和第二隔離層82緊貼的狀態(tài)下，顯示體基板l和 保護(hù)基板2進(jìn)行移動(dòng)，因此阻氣層66和第二隔離層82相互摩擦。但是， 由于第二隔離層82彈性率低容易變形，能夠和上述移動(dòng)同時(shí)吸收阻氣層 66表面的凹凸。因此，能夠抑制阻氣層66承受壓力而產(chǎn)生龜裂等。在此， 在第二隔離層82和濾色層70之間有彈性率比第二隔離層82更高的第一 隔離層81，因此盡管第二隔離層82變形仍然能夠維持間隙。另外，周邊 密封劑77由于沒(méi)有進(jìn)行固化維持有柔軟性的程度。因此，能夠和上述移 動(dòng)一起變形而吸收阻氣層66表面的凹凸，能夠抑制在周邊密封劑77和顯 示體基板1之間產(chǎn)生間隙。
最后，如圖4 (d)所示，在60 100'C的加熱工序使透明填充劑78完 全固化。通常，利用和大氣壓的壓差進(jìn)行按壓，因此即使不加壓間隙也穩(wěn) 定，但是，也可以在加壓的狀態(tài)下加熱。周邊密封劑77在該階段進(jìn)行正 式固化，和透明充填劑78—起作為粘結(jié)劑發(fā)揮功能。 -.
在以上的工序中，完成將顯示體基板1和保護(hù)基板2貼合在一起的工序。下面，經(jīng)過(guò)在周邊回路40中連接配線的工序等，則能夠得到EL裝置。 根據(jù)本實(shí)施方式，由于使用具有不同彈性率的兩層隔離層，因此能夠
維持發(fā)光元件114和濾色層70的間隙，且不損傷阻氣層66就可以調(diào)整發(fā) 光元件114和濾色層70的相對(duì)位置。因此，能夠進(jìn)一步提高EL裝置的品 質(zhì)及顯示性能。
(第三實(shí)施方式)
圖5表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的保護(hù)基板2。另外，直到以下的第八 實(shí)施方式，特征在于隔離層80，顯示體基板1等和上述第一實(shí)施方式及第 二實(shí)施方式同樣，因此只對(duì)保護(hù)基板2進(jìn)行圖示。另外，對(duì)于與第一實(shí)施 方式共同的結(jié)構(gòu)要素，賦予其同樣的符號(hào)，并省略一部分說(shuō)明的記載。
本實(shí)施方式的保護(hù)基板2的隔離層80，其特征是第二隔離層82的膜 厚比第一隔離層81的膜厚更薄。如上所述，在本發(fā)明中，第一隔離層81 起到將間隙保持為恒定值的功能，第二隔離層82起到吸收貼合時(shí)的壓力、 且抑制在阻氣層66 (參照?qǐng)D2)上產(chǎn)生龜裂等的功能。在此，之所以在阻 氣層66上產(chǎn)生龜裂等，是因?yàn)橥ㄟ^(guò)阻氣層66表面的凹凸，給阻氣層66 施加了局部的力。即，第二隔離層82的膜厚設(shè)定為阻氣層66表面凹凸程 度左右。
因此，只要提高有機(jī)緩沖層64 (參照?qǐng)D2)的平坦性、且降低阻氣層 66表面的凹凸，就可以代替將第二隔離層82減薄而將第一隔離層81增厚， 能夠更進(jìn)一步抑制間隙不均勻。其結(jié)果是能夠得到顯示性能更進(jìn)一步提高 的EL裝置。
(第四實(shí)施方式)
圖6表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的保護(hù)基板2。本實(shí)施方式的保護(hù)基板 2的隔離層80，其特征是在第二隔離層82的表面形成有凹凸。另外，第 一隔離層81平坦地形成。
會(huì)在阻氣層66 (參照?qǐng)D2)上產(chǎn)生龜裂等的壓力，在垂直方向上加壓 保護(hù)基板2時(shí)、和使保護(hù)基板2與顯示體基板1 (參照?qǐng)D2)相互向水平 方向移動(dòng)而定位時(shí)產(chǎn)生。而且，阻氣層66的平坦性提高且表面的凹凸降 低時(shí)，阻氣層66和第二隔離層82以近似于面接觸的形式接觸。其結(jié)果是， 在雙方的基板相對(duì)地向水平方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生大的阻力，施加于阻氣層66的上述壓力增大。這時(shí)，在本實(shí)施方式的第二隔離層82的表面設(shè)置凹凸 時(shí)，由于上述阻力降低而能夠控制施加于阻氣層66的上述壓力。因此，
保護(hù)基板2和顯示體基板1的定位變得容易，定位精度提高，因此能夠得 到顯示性能更進(jìn)一步提高的EL裝置。
另外，在圖6中，是在第二隔離層82上形成有凹凸，但是，在第一 隔離層81上形成凹凸后，用通常的方法使第二隔離層82平坦化也能夠得 到同樣的效果。
(第五實(shí)施方式)
圖7表示本發(fā)明的第五實(shí)施方式的保護(hù)基板2。本實(shí)施方式的保護(hù)基 板2的隔離層80，其特征是只在黑矩陣72上形成第二隔離層82。另外， 第一隔離層81在整個(gè)面上形成。
如上所述，黑矩陣72隔斷由發(fā)光元件114 (參照?qǐng)D2)產(chǎn)生的光，配 置于和該黑矩陣72重合的區(qū)域的結(jié)構(gòu)要素不必要具有透過(guò)性。因此，如 圖所示，僅在黑矩陣72上形成第二隔離層82時(shí)，可以用不透明材料形成 第二隔離層82。因此，可以將重點(diǎn)放在彈性率和成本上而選擇第二隔離層 82的形成材料，從而能夠得到不損害顯示品質(zhì)、制造成本降低的EL裝置。 (第六實(shí)施方式)
圖8表示本發(fā)明的第六實(shí)施方式的保護(hù)基板2。本實(shí)施方式的保護(hù)基 板2的隔離層80，其特征是只在黑矩陣72上形成第一隔離層81，在其上 層的整個(gè)面上形成有第二隔離層82。
根據(jù)該方式，第一隔離層81不必要具有透過(guò)性，因此，可以將重點(diǎn) 放在彈性率和成本等上而選擇第一隔離層81的形成材料，能夠得到不損 害顯示品質(zhì)、制造成本等降低的EL裝置。 (第七實(shí)施方式)
圖9表示本發(fā)明的第七實(shí)施方式的保護(hù)基板2。本實(shí)施方式的保護(hù)基 板2的隔離層80，其特征是只在黑矩陣72上形成有第一隔離層81及第二 隔離層82雙方。
根據(jù)該方式，將重點(diǎn)放在彈性率和成本等上而選擇第一隔離層81及 第二隔離層82雙方的形成材料，從而能夠得到不損害顯示品質(zhì)、且制造 成本等更進(jìn)一步降低的EL裝置。 -另外，即使第二隔離層82的寬度和第一隔離層81的寬度不同，也可 以實(shí)施本實(shí)施方式。
(第八實(shí)施方式)
圖10表示本發(fā)明的第八實(shí)施方式的保護(hù)基板2。本實(shí)施方式的保護(hù)基
板2的隔離層80，其特征是在第二隔離層82的側(cè)面部形成強(qiáng)的順向錐部。 根據(jù)該方式，第二隔離層82的側(cè)面部與阻氣層66 (參照?qǐng)D2)的表面的 凸部?jī)A斜地抵接，因此，能夠降低顯示體基板l (參照?qǐng)D2)和保護(hù)基板2 向水平方向移動(dòng)時(shí)的阻氣層66和第二隔離層82因摩擦產(chǎn)生的阻力，容易 進(jìn)行定位。因此，可以得到能夠更進(jìn)一步的精確定位，顯示性能更進(jìn)一步 提高的EL裝置。另外，上述順向錐部也可以用網(wǎng)板印刷法等對(duì)第二隔離 層82的形成材料進(jìn)行圖案化，可以利用熱固化時(shí)的熔化使傾斜角度增加。
權(quán)利要求
1、一種場(chǎng)致發(fā)光裝置，其具有顯示體基板和保護(hù)基板，所述顯示體基板包括顯示體層和密封層，所述顯示體層包括矩陣狀配置的開(kāi)關(guān)元件和利用該開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件，所述密封層包括形成于所述顯示體層上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層，且所述保護(hù)基板在表面層疊有由相互不同的材料構(gòu)成的至少兩種隔離層且由透光性材料構(gòu)成，所述顯示體基板和所述保護(hù)基板以所述隔離層內(nèi)的最上層的隔離層和所述阻氣層緊貼的方式貼合在一起，其特征在于，所述最上層的隔離層比所述阻氣層的彈性率低。
2、 一種場(chǎng)致發(fā)光裝置，其具有顯示體基板和保護(hù)基板，所述顯示體 基板包括顯示體層和密封層，所述顯示體層包括矩陣狀配置的開(kāi)關(guān)元件 和利用該開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件，所述密封層包含形成于所述 顯示體層上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層，且所述保護(hù)基板由包含 濾色層、形成于所述濾色層上的第一隔離層、和形成于所述第一隔離層上 的第二隔離層的透光性材料構(gòu)成，所述顯示體基板和所述保護(hù)基板以所述 第二隔離層和所述阻氣層緊貼的方式貼合在一起，其特征在于，所述第二隔離層比所述第一隔離層及所述阻氣層的彈性率更低。
3、 如權(quán)利要求2所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 所述密封層包含在所述顯示體層上按順序?qū)盈B的陰極保護(hù)層、有機(jī)緩沖層及所述阻氣層的至少三種材料層。
4、 如權(quán)利要求3所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 所述有機(jī)緩沖層的彈性率比所述第二隔離層的彈性率更高。
5、 如權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 所述第二隔離層被圖案化，并局部地配置在所述第一隔離層上。
6、 如權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 所述濾色層由濾色板和黑矩陣形成，所述濾色板被著色成紅、綠、藍(lán)三原色中的任一種色調(diào)，所述黑矩陣由隔開(kāi)各個(gè)該濾色板的遮光性材料構(gòu) 成，所述第一隔離層及所述第二隔離層的至少任一方僅配置于所述黑矩陣 上。
7、 如權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于，所述第二隔離層被圖案化，在由圖案化而產(chǎn)生的側(cè)面部形成10~60度的順向錐部。
8、 如權(quán)利要求2 7中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 在所述第二隔離層的表面形成有凹凸。
9、 如權(quán)利要求2 8中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置，其特征在于， 所述第二隔離層的膜厚比所述第一隔離層的膜厚更薄。
10、 一種場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法，其包括貼合工序，該貼合工序以 阻氣層和隔離層緊貼的方式將第一基板和第二基板貼合在一起，且第一基 板在最上層具有由保護(hù)形成于基板表面的元件組的高彈性率材料構(gòu)成的 所述阻氣層，第二基板在表面具有兩層以上的所述隔離層，其特征在于，用比該最上層的隔離層的下層的隔離層及所述阻氣層彈性率更低的 材料形成所述兩層以上的隔離層內(nèi)的最上層的隔離層，所述最上層的隔離 層吸收所述阻氣層的表面的凹凸。
11、 一種場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法，其包括貼合工序，該貼合工序以 第二隔離層和阻氣層緊貼的方式將顯示體基板和保護(hù)基板重疊并施加載荷而貼合在一起，所述顯示體基板包括顯示體層和密封層，所述顯示體層 包括矩陣狀配置的開(kāi)關(guān)元件和利用該開(kāi)關(guān)元件控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件， 所述密封層包括形成于所述顯示體層上的至少具有隔斷水蒸氣功能的阻 氣層，所述保護(hù)基板由包含濾色層、形成于所述濾色層上的第一隔離層和 形成于所述第一隔離層上的第二隔離層的透光性材料構(gòu)成，其特征在于，用比所述第一隔離層及所述阻氣層彈性率更低的材料形成所述第二 隔離層，所述第二隔離層吸收所述阻氣層的凹凸，并且不使所述阻氣層凹 陷地接觸，從而將所述顯示體層和所述濾色層的間隔保持為大致恒定。
12、 如權(quán)利要求ll所述的場(chǎng)致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于， 所述貼合工序包括在使所述第二隔離層和所述阻氣層緊貼的狀態(tài)下，使所述顯示體基板和所述保護(hù)基板在水平方向相對(duì)移動(dòng)的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種場(chǎng)致發(fā)光裝置，其阻氣層的品質(zhì)的提高和間隙精度并存。所述場(chǎng)致發(fā)光裝置具有顯示體基板(1)和保護(hù)基板(2)，顯示體基板(1)包括顯示體層和密封層，顯示體層包括矩陣狀配置的、利用驅(qū)動(dòng)用TFT112控制發(fā)光狀態(tài)的發(fā)光元件(114)，密封層包括形成于該顯示體層上、至少具有隔斷水蒸氣功能的阻氣層(66)；保護(hù)基板(2)由包括濾色層(70)、形成于濾色層(70)上的第一隔離層(81)及形成于第一隔離層(81)上的第二隔離層(82)的透光性材料構(gòu)成，所述顯示體基板(1)和所述保護(hù)基板(2)以第二隔離層(82)和阻氣層(66)緊貼的方式貼合在一起，其特征在于，第二隔離層(82)比第一隔離層(81)及阻氣層(66)的彈性率更低。
文檔編號(hào)H05B33/04GK101308864SQ20081009716
公開(kāi)日2008年11月19日 申請(qǐng)日期2008年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月17日
發(fā)明者林建二 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社