一種去鉆污的方法
【專利摘要】本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，屬于電子工藝領(lǐng)域其特征在于包括如下步驟：（1）首先用N2的等離子體清潔孔壁并同時(shí)預(yù)熱剛撓板；（2）然后用O2和CF4的混合氣體產(chǎn)生的等離子體去除孔內(nèi)鉆污并與樹脂化合物和玻璃纖維反應(yīng)達(dá)到凹蝕的目的；（3）最后，再用O2等離子體除去前道處理留下的孔壁灰塵，使得孔內(nèi)壁出現(xiàn)凹蝕效果。通過(guò)工藝上的改進(jìn)，在不影響原有產(chǎn)品性能的情況下，有效的去除了因?yàn)殂@孔給孔壁所帶來(lái)的污染，且經(jīng)過(guò)等離子結(jié)合化學(xué)處理體系處理的孔壁達(dá)到了理想效果，本工藝操作簡(jiǎn)單，且易于推廣。
【專利說(shuō)明】一種去鉆污的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于電子工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種去鉆污的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]為適應(yīng)電子產(chǎn)品的發(fā)展，剛撓印制板的應(yīng)用范圍越來(lái)越大，用戶對(duì)剛撓板性能的要求越來(lái)越高。為了保持電路的連通性，剛撓印制板上所有的金屬化孔必須全部經(jīng)受住強(qiáng)大的溫度沖擊，任何一個(gè)孔在溫度沖擊時(shí)出現(xiàn)故障都會(huì)帶來(lái)部分信號(hào)的缺失甚至?xí)绊懙秸麢C(jī)性能。采用常規(guī)的濃硫酸洗孔的方法只能去除環(huán)氧樹脂鉆污，而對(duì)于丙烯酸樹脂和聚酰亞胺樹脂則沒(méi)有改善。另外，聚酰亞胺樹脂表面有憎水性，不耐強(qiáng)堿溶液，丙烯酸樹脂既不耐強(qiáng)堿溶液又不耐強(qiáng)酸溶液，因此，常規(guī)的化學(xué)洗孔工藝很難去除干凈。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明旨在提供一種解決上述問(wèn)題的方法。
[0004]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于包括如下步驟:
(O首先用N2的等離子體清潔孔壁并同時(shí)預(yù)熱剛撓板；
(2)然后用O2和CF4的混合氣體產(chǎn)生的等離子體去除孔內(nèi)鉆污并與樹脂化合物和玻璃纖維反應(yīng)達(dá)到凹蝕的目的；
(3)最后，再用O2等離子體除去前道處理留下的孔壁灰塵，使得孔內(nèi)壁出現(xiàn)凹蝕效果。經(jīng)過(guò)等離子體處理后的孔內(nèi)達(dá)到了徹底去除鉆污并形成凹蝕效果，提高剛撓印制板金屬化孔孔壁銅鍍層與內(nèi)層銅的結(jié)合力。
[0005]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于步驟(2)中的樹脂化合物包括丙烯酸樹脂、撓性聚酰亞胺樹脂、環(huán)氧樹脂。
[0006]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(2)中O2和CF4的比例為1:1。
[0007]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(I)中預(yù)熱剛撓板的溫度為IlO0C?130°C，時(shí)間為2h?4h。
[0008]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(3)中孔內(nèi)壁的凹蝕深度為 13 μ m ?18 μ m0
[0009]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，通過(guò)工藝上的改進(jìn)，在不影響原有產(chǎn)品性能的情況下，有效的去除了因?yàn)殂@孔給孔壁所帶來(lái)的污染，且經(jīng)過(guò)等離子結(jié)合化學(xué)處理體系處理的孔壁達(dá)到了理想效果，本工藝操作簡(jiǎn)單，且易于推廣。

【具體實(shí)施方式】
[0010]本發(fā)明所述的一種去鉆污的方法，其特征在于包括如下步驟:
(O首先用N2的等離子體清潔孔壁并同時(shí)預(yù)熱剛撓板；
(2)然后用O2和CF4的混合氣體產(chǎn)生的等離子體去除孔內(nèi)鉆污并與樹脂化合物和玻璃纖維反應(yīng)達(dá)到凹蝕的目的；
(3)最后，再用O2等離子體除去前道處理留下的孔壁灰塵，使得孔內(nèi)壁出現(xiàn)凹蝕效果。經(jīng)過(guò)等離子體處理后的孔內(nèi)達(dá)到了徹底去除鉆污并形成凹蝕效果，提高剛撓印制板金屬化孔孔壁銅鍍層與內(nèi)層銅的結(jié)合力。步驟(2)中的樹脂化合物包括丙烯酸樹脂、撓性聚酰亞胺樹脂、環(huán)氧樹脂。所述步驟(2)中02和0匕的比例為1:1。所述步驟(I)中預(yù)熱剛撓板的溫度為110°C ?130°C，時(shí)間為2tT4h。烘板是為了去除剛撓印制板中的潮氣，如果印制板中的潮氣進(jìn)入真空系統(tǒng)，必然降低真空度，同時(shí)在真空泵中凝結(jié)，會(huì)對(duì)真空泵造成損壞，此外，潮氣太大對(duì)等離子體的化學(xué)活性也有很大的影響。所述步驟(3)中孔內(nèi)壁的凹蝕深度為13 μ m ?18 μ m0
【權(quán)利要求】
1.一種去鉆污的方法，其特征在于包括如下步驟: (O首先用N2的等離子體清潔孔壁并同時(shí)預(yù)熱剛撓板； (2)然后用O2和CF4的混合氣體產(chǎn)生的等離子體去除孔內(nèi)鉆污并與樹脂化合物和玻璃纖維反應(yīng)達(dá)到凹蝕的目的； (3)最后，再用O2等離子體除去除前道處理留下的孔壁灰塵，使得孔內(nèi)壁出現(xiàn)凹蝕效果O
2.如權(quán)利要求1所述的一種去鉆污的方法，其特征在于步驟(2)中的樹脂化合物包括丙烯酸樹脂、撓性聚酰亞胺樹脂、環(huán)氧樹脂。
3.如權(quán)利要求1所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(2)中O2和CF4的比例為1:1。
4.如權(quán)利要求1所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(I)中預(yù)熱剛撓板的溫度為IlO0C?130°C，時(shí)間為2h?4h。
5.如權(quán)利要求1所述的一種去鉆污的方法，其特征在于所述步驟(3)中孔內(nèi)壁的凹蝕深度為13 μ m?18 μ m。
【文檔編號(hào)】H05K3/22GK104244601SQ201410408206
【公開日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月19日
【發(fā)明者】賈衛(wèi)東, 魏軍鋒 申請(qǐng)人:西安三威安防科技有限公司