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      新青霉素晶體制劑及其制備方法

      文檔序號(hào):1298700閱讀:342來(lái)源:國(guó)知局
      新青霉素晶體制劑及其制備方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種新青霉素晶體制劑及其制備方法,該制備方法包括如下步驟:步驟1,將新青霉素粗品溶解于甲醇和甲乙酮混合溶劑中,加活性炭吸附并進(jìn)行過(guò)濾,將濾液進(jìn)行降溫析出晶體,晶體用甲醇和甲乙酮混合溶液洗滌,通過(guò)減壓干燥得到第一次精制新青霉素產(chǎn)品。步驟2,將第一次精制新青霉素產(chǎn)品溶解于熱甲乙酮溶液中,用高效過(guò)濾器壓濾,混合液進(jìn)行降溫減壓濃縮,再冷卻析出晶體,過(guò)濾,減壓干燥得到新青霉素晶體制劑。本發(fā)明的新青霉素晶體制劑具有顆粒小、粒徑分布均勻、流動(dòng)性好、結(jié)晶工藝簡(jiǎn)單、有機(jī)溶劑殘留量低、穩(wěn)定性高、安全性好、毒副作用小、不易過(guò)敏等優(yōu)點(diǎn)。
      【專利說(shuō)明】新青霉素晶體制劑及其制備方法

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種新青霉素晶體制劑及其制備方法,屬于藥物化合物領(lǐng)域。

      【背景技術(shù)】
      [0002]新青霉素(英文名稱為:Azlocillin Sodium),其化學(xué)名稱為:(2S,5R,6R) _3,
      3-二甲基-6-[ (R) -2- (2-氧代-1-咪唑烷甲酰氨基)-2-苯乙酰氨基]-7-氧代-4-硫雜-1-氮雜雙環(huán)[3,2,0]庚烷-2-甲酸鈉鹽。分子式:C20H22N5Na06S,分子量:483.47,結(jié)構(gòu)式如下。
      [0003]

      【權(quán)利要求】
      1.一種新青霉素晶體制劑,其特征在于:所述新青霉素晶體制劑采用X-衍射粉末衍射測(cè)定,其圖譜具有下列衍射角(2 Θ)和D值,誤差為±0.2° ;以角表示依次為6.6° ,9.8°,11.5°,14.2。,16.3。 17.8°,18.2。,19.5。,20.8°,21.6°,22.3。,22.9°,23.6°,24.1° ,25.3° ,27.8° ,28.8° 和 30.5。,D 值依次為 12.43,9.26,7.78,6.21,5.28,5.01,4.84,4.57,4.45,4.27,4.12,3.97,3.89,3.78,3.68,3.52,3.30,3.21,3.09 和 2.93。
      2.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:該方法包括如下步驟: 步驟1,將新青霉素粗品溶解于甲醇和甲乙酮混合溶劑中,加活性炭吸附并進(jìn)行過(guò)濾,將濾液進(jìn)行降溫析出晶體,晶體用甲醇和甲乙酮混合溶液洗滌,通過(guò)減壓干燥得到第一次精制新青霉素廣品。 步驟2,將第一次精制新青霉素產(chǎn)品溶解于熱甲乙酮溶液中,用高效過(guò)濾器壓濾,混合液進(jìn)行降溫減壓濃縮,再冷卻析出晶體,過(guò)濾,減壓干燥得到新青霉素晶體制劑。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟I中新青霉素粗品與甲醇和甲乙酮混合溶劑的重量比為1:1.6~3,混合溶劑中甲醇和甲乙酮的重量比為1:2。
      4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟I中濾液進(jìn)行降溫析出晶體的 溫度為O~5°C,混合洗滌溶液中的甲醇和甲乙酮的重量比為1:2。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟I中濾液析出晶體時(shí)進(jìn)行攪拌,攪拌時(shí)間為I~1.5小時(shí)。
      6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟I中減壓干燥的溫度為25~35°C。
      7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟2中熱甲乙酮溶液的溫度為50~60°C。
      8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟2中混合液進(jìn)行降溫減壓濃縮的溫度為30~40°C,減壓濃縮至剩余一半溶劑;冷卻析出晶體的溫度為O~5V。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟2中混合液進(jìn)行晶體析出的時(shí)間為2~3小時(shí)。
      10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新青霉素晶體制劑的制備方法,其特征在于:所述步驟2中減壓干燥的溫度為25~30°C,干燥時(shí)間為6~8小時(shí)。
      【文檔編號(hào)】A61K31/431GK104130270SQ201410063158
      【公開(kāi)日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年2月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月25日
      【發(fā)明者】王建, 雅克·杜馬, 保羅·埃利希 申請(qǐng)人:拜徳里希醫(yī)藥保健有限公司
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