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      一種頭戴式顱內(nèi)壓監(jiān)測裝置

      文檔序號:39979310發(fā)布日期:2024-11-15 14:27閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種頭戴式顱內(nèi)壓監(jiān)測裝置,其特征在于,包括,

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述視覺刺激部(100)包括閃光刺激器(110),所述閃光刺激器(110)被配置于所述支撐架(120)中對應(yīng)于用戶眼部的位置。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述支撐架(120)在兩塊所述閃光刺激器(110)之間設(shè)置有橫梁,所述橫梁上設(shè)置與用戶鼻梁形狀相匹配的鼻托,所述支撐架(120)的末端設(shè)置有與用戶耳廓背面相匹配的彎折。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述固定架(210)包括帶有弧度的橫向固定件(211)和帶有弧度的縱向固定件(212),交叉連接的所述橫向固定件(211)與所述縱向固定件(212)使所述固定架(210)具有向著用戶頭頂表面凹陷的結(jié)構(gòu)。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述第一參考電極(220)和所述第二參考電極(230)被配置于所述橫向固定件(211)的前端,所述記錄電極(240)被配置于所述橫向固定件(211)的后端。

      6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述調(diào)節(jié)機構(gòu)(280)包括調(diào)節(jié)骨架(281)和套設(shè)在所述調(diào)節(jié)骨架(281)上的調(diào)節(jié)件(282),所述調(diào)節(jié)骨架(281)的兩端與所述支撐架(120)中貼近用戶顳部的部分連接,且所述調(diào)節(jié)件(282)與所述縱向固定件(212)的兩端相連。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述調(diào)節(jié)骨架(281)帶有弧度且所述縱向固定件(212)位于所述調(diào)節(jié)骨架(281)的內(nèi)凹側(cè),所述調(diào)節(jié)件(282)能在所述調(diào)節(jié)骨架(281)上進行滑動以改變所述固定架(210)與用戶頭部之間的距離。

      8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述第一參考電極(220)和所述第二參考電極(230)與所述橫向固定件(211)的連接處設(shè)置有參考電極控制件(250),所述記錄電極(240)與所述橫向固定件(211)的連接處設(shè)置有記錄電極控制件(260)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述第一參考電極(220)、所述第二參考電極(230)和所述記錄電極(240)被配置為彈性干電極,所述彈性干電極在自身的彈性力的作用下朝用戶頭部貼靠。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述固定架(210)與用戶頭部接觸的內(nèi)側(cè)設(shè)置有保護墊。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及一種頭戴式顱內(nèi)壓監(jiān)測裝置,包括:視覺刺激部,用于向用戶眼部發(fā)送視覺刺激信號,包括支撐架;腦電采集部,用于收集和記錄腦電,包括佩戴于用戶頭部的固定架以及與固定架連接的位于用戶額部兩眉間的第一參考電極、位于用戶發(fā)際位置的第二參考電極和位于用戶枕部枕骨粗隆兩側(cè)的記錄電極。視覺刺激部的支撐架與用戶鼻梁和耳廓背面相接觸,且支撐架與固定架通過調(diào)節(jié)機構(gòu)相連。本技術(shù)的監(jiān)測裝置將視覺刺激部和腦電采集部進行結(jié)合,減少了監(jiān)測過程中需要用到的設(shè)備的數(shù)量,無創(chuàng)且可操作性強。此外,頭戴式的監(jiān)測裝置體積較小,適合社區(qū)或家庭使用,利于日常生活場景下的連續(xù)監(jiān)測,避免用戶頻繁到院檢查。

      技術(shù)研發(fā)人員:劉海杰,呂曉東,許淄豪,林銘,姚輝,韓博,張萌,陳楊,王欣,祁緣
      受保護的技術(shù)使用者:首都醫(yī)科大學(xué)宣武醫(yī)院
      技術(shù)研發(fā)日:20240222
      技術(shù)公布日:2024/11/14
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