含有離子性液體的口腔護(hù)理組合物的制作方法
【專利說明】含有離子性液體的口腔護(hù)理組合物
【背景技術(shù)】
[0001] 離子性液體是在100°c以下的溫度下為液體且通常具有低于室溫的熔點(diǎn)的一類含 有陽(yáng)離子和陰離子的鹽。盡管不希望被理論束縛，離子性液體通常具有遠(yuǎn)低于普通鹽的對(duì) 稱性，陽(yáng)離子和陰離子的電荷通過離子性液體中的振動(dòng)而在更大的分子體積內(nèi)分布，這被 認(rèn)為有助于使它們?cè)诒纫话愕柠}（例如NaCl，mp 801°C )低得多的溫度下為液態(tài)。離子性 液體通常由含有雜環(huán)的陽(yáng)離子和抗衡陰離子構(gòu)成，本質(zhì)上通常為無機(jī)物。陽(yáng)離子和陰離子 的性質(zhì)決定離子性液體的疏水性、粘度、密度和其它的物理參數(shù)和性質(zhì)。
[0002] 對(duì)于廣泛的有機(jī)合成應(yīng)用而言，離子性液體被評(píng)價(jià)為一般的有機(jī)溶劑的環(huán)境友好 或"綠色"的替代品。離子性液體具有將它們與一般的有機(jī)溶劑區(qū)分的獨(dú)特性質(zhì)。例如，離 子性液體不揮發(fā)（即它們不會(huì)容易地蒸發(fā)至大氣中），它們具有高的極性和電荷密度，它們 可為疏水性或親水性，且它們具有獨(dú)特的溶劑化性質(zhì)。如此，已知將離子性液體用于清潔組 合物中（例如，如US 2006/0090777 Al和US 7 939 485 B2中所公開的那樣）。一些離子 性液體可市售獲得，或者它們可容易地通過簡(jiǎn)單的離子交換反應(yīng)合成。
[0003] 發(fā)現(xiàn)消費(fèi)者希望擁有潔白的牙齒。牙齒可經(jīng)時(shí)變黑或被染色。牙齒隨著年齡增加 自然而然會(huì)變得更黃，并且也可被食物和飲料染色。例如，牙齒可被茶、咖啡、紅酒和香煙染 色。包括例如四環(huán)素在內(nèi)的某些抗生素也可將牙齒染色。許多消費(fèi)者希望增白牙齒以恢復(fù) 自然的顏色，并且在某些情況下希望增白牙齒超過它們自然的顏色。
[0004] 已知使用基于過氧化物的化學(xué)藥物增白牙齒。過氧化氫脲可用于漂白牙齒。過氧 化氫脲在與水接觸后生成過氧化氫，該過氧化物氧化劑漂白污斑。增白可由牙科專家、由非 牙科專家（例如美容治療學(xué)家）或由消費(fèi)者自己在家實(shí)施。專業(yè)牙齒增白費(fèi)用高且耗費(fèi)時(shí) 間。
[0005] 但是，過氧化物反應(yīng)性高，因而難以配制。此外，過氧化氫可自發(fā)地分解而生成氧 氣（O 2)和水，使得在儲(chǔ)存中潔牙劑容器可膨脹、破裂或泄露，剩余的配方將不具有足夠的剩 余過氧化物以有效地清潔并增白牙齒。一部分最初含有非常高含量的過氧化物，這些過氧 化物經(jīng)時(shí)分解，使得付諸應(yīng)用的過氧化物的確切量可變且極大地取決于將潔牙劑在何種條 件下儲(chǔ)存多久。
[0006] 也可使用磨蝕劑將污斑從牙齒物理去除而增白牙齒和去除污斑。磨蝕劑可包括小 蘇打（碳酸氫鈉）、二氧化硅、氧化鋁、碳酸鈣和磷酸鈣。但是，磨蝕劑可導(dǎo)致牙釉質(zhì)損傷并 可特別地?fù)p傷隨著年齡增加、或隨著口腔酸的反復(fù)侵襲或使用酸性食物和飲料而已變軟的 軟化的牙釉質(zhì)。此外，磨蝕劑也不一定適合于增白具有義齒、牙冠或佩帶牙齒矯正器的那些 消費(fèi)者的牙齒。對(duì)于這些消費(fèi)者，磨蝕增白劑可損傷陶瓷表面或不能有效地到達(dá)牙齒矯正 線之間來清潔。
[0007] 生物被膜為包裹在自身發(fā)展的聚合性細(xì)胞外基質(zhì)中的微生物的結(jié)構(gòu)群。生物被膜 通常粘附于存活或惰性的表面。在人或動(dòng)物體內(nèi)生物被膜可形成于任何內(nèi)部或外部的表面 上。發(fā)現(xiàn)生物被膜涉及體內(nèi)的多種微生物感染，導(dǎo)致許多病癥，包括尿路感染、中耳感染，特 別是口腔疾病。
[0008] 牙菌斑由生物被膜前體形成，事實(shí)上在所有牙齒表面均存在一定程度的牙菌斑。 牙菌斑含有由埋入多糖基質(zhì)中的微生物的團(tuán)塊組成的致密微生物層。斑塊可形成于牙齒 表面的任何部分上，特別是在齦緣和在牙釉質(zhì)的裂縫中發(fā)現(xiàn)斑塊。與牙齒上形成斑塊相關(guān) 的危險(xiǎn)在于斑塊堆積并最終引起齦炎、牙周炎和其它類型的牙周疾病以及齲齒和牙石的傾 向。
[0009] 斑塊本身非常堅(jiān)固地粘附于牙齒表面，并且在將其去除后會(huì)迅速地在牙齒表面重 新形成。目前的斑塊去除方法主要依賴于斑塊的機(jī)械去除。包括刷牙、用磨蝕牙膏刷牙、使 用牙線、使用牙間清潔劑、刮除術(shù)、使用聲能（例如聲處理牙刷）和超聲（例如Ultreo牙 刷）在內(nèi)的這些方法部分依賴于良好的刷牙或使用牙線的技術(shù)，而消費(fèi)者可能只是并未掌 握此種技術(shù)。此外，這些方法特別是對(duì)去除頑固的斑塊或深深隱藏在牙齒的孔洞和裂縫內(nèi) 或牙齦囊內(nèi)的斑塊無效。
[0010] 在本領(lǐng)域還已知在口用組合物中摻混會(huì)破壞或延遲細(xì)菌的生長(zhǎng)的抗微生物劑。但 是，由于密集的細(xì)胞外基質(zhì)和細(xì)胞的外層保護(hù)在沉積物的內(nèi)部發(fā)現(xiàn)的細(xì)菌不受抗微生物劑 的影響，所以在生物被膜或斑塊沉積物中存在的細(xì)菌對(duì)抗微生物劑顯示出增加的耐藥性。
[0011] 希望提供可不破壞牙釉質(zhì)而得到增白益處的改良的用于增白牙齒的方法和組合 物。還希望提供改良的用于增白有義齒、牙冠或佩帶牙齒矯正器的消費(fèi)者的牙齒的方法或 組合物。
[0012] 發(fā)明簡(jiǎn)述 本發(fā)明的目標(biāo)至少部分在于適應(yīng)本領(lǐng)域的這些需要。通過詳述和實(shí)施例將清楚本發(fā)明 的進(jìn)一步的實(shí)施方式。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)方面，提供一種含有離子性液體的口腔護(hù)理組合物，其中，所 述尚子性液體含有： a) 吡唑_陽(yáng)離子，和 b) 選自水楊酸根、醋酸根、齒離子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸 根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根（例如甲基硫酸根、乙基硫酸 根）、十二烷基硫酸根、苯酚硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮根、羧酸根、枸櫞酸根、抗壞血酸根、 二氰胺（dicyamide)、L-氨基酸或D-氨基酸（例如精氨酸根、甘氨酸根、脯氨酸根等）、乙 醇酸根、葡萄糖酸根、馬來酸根、甜味劑陰離子（例如糖精陰離子（saccharinate)、阿斯巴 甜陰離子（aspartamate)、環(huán)己烷氨基磺酸根）、氫氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛 基磺酸根（docusate)、亞油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的陰離子。
[0014] 任選所述吡唑鐘陽(yáng)離子由至少1個(gè)烷基取代。任選所述吡唑Il陽(yáng)離子為下式的吡 唑ill陽(yáng)離子：
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種含有離子性液體的口腔護(hù)理組合物，其中，所述離子性液體含有： a) 吡唑纟|:丨陽(yáng)離子 b) 選自水楊酸根、醋酸根、齒離子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸 根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根、十二烷基硫酸根、苯酚硫酸 根、苯甲酸根、乙酰丙酮根、羧酸根、枸櫞酸根、抗壞血酸根、二氰胺、L-氨基酸或D-氨基酸、 乙醇酸根、葡萄糖酸根、馬來酸根、甜味劑陰離子、氫氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛 基磺酸根、亞油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的陰離子。
2. 權(quán)利要求1的口腔護(hù)理組合物，其中，所述吡唑_陽(yáng)離子由至少一個(gè)烷基取代。
3. 權(quán)利要求1或2的口腔護(hù)理組合物，其中，所述吡唑鑰陽(yáng)離子為下式的吡唑鑰陽(yáng)離 子：
其中，取代基&、1?2、馬、1?4和R5相同或不同，獨(dú)立地選自！1和C ^Cltl烷基。
4. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，RpR2、R3、R，R 5中的任意1個(gè)為 C1-C4烷基。
5. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，IWRyRdP R 5中的任意2個(gè)為 C1-C4烷基。
6. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，Rp R2、R3、R，R 5中的任意3個(gè)為 C1-C4烷基。
7. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，R i、R2、R3、1?4和R 5中的任意1個(gè)為 甲基。
8. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，IWRyRdP R 5中的任意2個(gè)為 甲基。
9. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，IWRyRdP R 5中的任意3個(gè)為 甲基。
10. 權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，R ^馬和R 4為C「C4烷基，R 3和R 5 為H0
11. 權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，所述吡唑鐘陽(yáng)離子為1，2, 4-三 甲基吡唑鐘。
12. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，所述陰離子為烷基硫酸根。
13. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，所述陰離子為甲基硫酸根。
14. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，所述離子性液體為1，2, 4-三甲 基吡唑Ili甲基硫酸鹽。
15. 上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的口腔護(hù)理組合物，其中，基于