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      曝光中使用的光掩膜的制作方法

      文檔序號(hào):2817528閱讀:282來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:曝光中使用的光掩膜的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種光掩膜,其在曝光方法中使用,在所述曝光方法中, 通過(guò)將力施加在薄膜狀光掩膜的周緣使該光掩膜彈性變形,從而改變?cè)谠?光掩膜上描繪出的、包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記的圖案的尺寸及/或形狀,由此使所 述光掩膜和基板對(duì)位之后,將所述圖案轉(zhuǎn)印到所述基板上。
      10
      背景技術(shù)
      在日本專利第3402681號(hào)中公開(kāi)了上述曝光方法?;趫D5及圖6對(duì) 其原理進(jìn)行說(shuō)明。如圖所示,在光掩膜101的周圍設(shè)置有多個(gè)作為力賦予 機(jī)構(gòu)的致動(dòng)器102,該力賦予機(jī)構(gòu)用于將拉伸力給與光掩膜101的周緣部。 15致動(dòng)器102以包圍光掩膜101的方式安裝在基座構(gòu)件103上。在致動(dòng)器102 的可動(dòng)端部104上形成有鉤部105。
      另一方面,在光掩膜101的周緣部形成有多個(gè)孔(長(zhǎng)孔)106。孔106 接受致動(dòng)器102的鉤部105而與之卡合,構(gòu)成將作為力賦予機(jī)構(gòu)的致動(dòng)器 102的拉伸力傳遞給光掩膜101的連結(jié)部。 20 用于維持光掩膜101平面性的透明玻璃板107由基座構(gòu)件103支承。
      基板108配置在與光掩膜101對(duì)置的位置。基板108被支承在基板支 承構(gòu)件109上,使其與光掩膜101之間的間隙量可變。
      在光掩膜101的與基板108相反的一側(cè)配置有CCD照相機(jī)110。CCD 照相機(jī)110能夠改變其位置,還能夠同時(shí)讀取在光掩膜101上描繪出的對(duì) 25位標(biāo)記lll (圖5)和在基板108上描繪出的對(duì)位標(biāo)記116 (圖8)。此外, 光掩膜101上的對(duì)位標(biāo)記111間的間距比基板108上的對(duì)位標(biāo)記116間的 間距稍小。
      在圖5中由雙點(diǎn)劃線B圍成的光掩膜101的區(qū)域可以作為在其中描繪 包括對(duì)位標(biāo)記lll的圖案時(shí)的圖案顯示區(qū)域112進(jìn)行識(shí)別。另外,包圍圖 30案顯示區(qū)域112周圍的光掩膜101的區(qū)域可以作為用于將光掩膜101與作
      4為力賦予機(jī)構(gòu)的致動(dòng)器102連結(jié)而傳遞力的區(qū)域即力傳遞區(qū)域113進(jìn)行識(shí) 別。
      為了使光掩膜101與基板108對(duì)位,首先,由CCD照相機(jī)110讀取 雙方描繪的對(duì)位標(biāo)記重疊的狀態(tài),并基于位置偏移量數(shù)據(jù),移動(dòng)光掩膜101 5或基板108,從而使各對(duì)位標(biāo)記中的位置偏移量平均化。
      接著,通過(guò)使致動(dòng)器102動(dòng)作而將拉伸力給與光掩膜101,從而改變 包括對(duì)位標(biāo)記111的圖案的尺寸及/或形狀,使光掩膜101的對(duì)位標(biāo)記111 與基板108的對(duì)位標(biāo)記116以高精度重合。
      這樣,如果光掩膜101與基板108的對(duì)位結(jié)束,則通過(guò)光掩膜101使 io 曝光用的光114 (圖6)照射在基板108上,將在光掩膜101的圖案顯示 區(qū)域112內(nèi)描繪的圖案轉(zhuǎn)印到基板108上。從而圖案以高尺寸精度及高對(duì) 位精度被轉(zhuǎn)印到基板108上。
      專利文獻(xiàn)1:日本專利第3402681號(hào)。
      上述曝光方法中使用的現(xiàn)有光掩膜顯然比在此之前使用過(guò)的光掩膜
      15大。這是由于需要在描繪圖案時(shí)的圖案顯示區(qū)域112的周圍設(shè)置力傳遞區(qū) 域113。如果在曝光時(shí)僅支承光掩膜的外周緣,則在圖案顯示區(qū)域112的 周圍設(shè)置窄幅的"支承用區(qū)域"即可。但是,如果為連結(jié)力賦予機(jī)構(gòu)的情 況,則不僅需要形成連結(jié)用孔,還必須將力傳遞區(qū)域113的寬度設(shè)定為足 夠大,以使因各個(gè)致動(dòng)器的拉伸力引起的光掩膜的局部歪曲不會(huì)直接影響
      20到圖案。其結(jié)果,不得不將由高價(jià)材料構(gòu)成的光掩膜制成較大。
      試著用圖7對(duì)現(xiàn)有光掩膜101的大小和在此以前的光掩膜的大小進(jìn)行 比較。相對(duì)于由雙點(diǎn)劃線B圍成的圖案顯示區(qū)域112的面積,現(xiàn)有光掩膜 101的面積約為2.6倍,而由雙點(diǎn)劃線C示出的在此以前的光掩膜的面積 是圖案顯示區(qū)域112的約1.6倍。這是由于,相對(duì)于現(xiàn)有光掩膜101中必
      25須設(shè)置較大的力傳遞區(qū)域113,在此之前的光掩膜中,圖案顯示區(qū)域112 周圍的區(qū)域用較小的支承用區(qū)域115即可。
      圖8是表示與光掩膜對(duì)置配置的基板108和在其上面形成的對(duì)位標(biāo)記 116的俯視圖。在使光掩膜和基板108對(duì)位之后,在光掩膜上描繪的圖案 通過(guò)曝光轉(zhuǎn)印在基板108上。與基板108相比,光掩膜101具有約2.5倍
      30以上的大小,而其一半以上是不需要由高價(jià)光掩膜材料制成的力傳遞區(qū)域113。
      因光掩膜變大而導(dǎo)致的問(wèn)題不僅是光掩膜制成費(fèi)用的增加。并且較大 的光掩膜也無(wú)法與現(xiàn)狀的光掩膜描繪裝置對(duì)應(yīng)。為了求得可對(duì)應(yīng)的描繪裝 置,需要新設(shè)備投資。

      發(fā)明內(nèi)容
      因此,本發(fā)明的課題在于通過(guò)獨(dú)立制成包括力傳遞區(qū)域的部分和包括 圖案顯示區(qū)域的中央部分之后進(jìn)行接合而形成光掩膜,從而能夠降低材料 費(fèi)用及避免新設(shè)備投資。
      10 為了解決上述課題,根據(jù)本發(fā)明,
      提供一種光掩膜,其在曝光中使用,在所述曝光中,通過(guò)將力施加在 薄膜狀光掩膜的周緣使該光掩膜彈性變形,從而改變?cè)谠摴庋谀ど厦枥L出 的、包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記的圖案的尺寸及/或形狀,由此使所述光掩膜和基板 對(duì)位之后,將所述圖案轉(zhuǎn)印在所述基板上,
      15 所述光掩膜具備
      中央部分,其描繪有所述圖案;
      力傳遞部分,其與該中央部分獨(dú)立制成,以作為整體包圍所述中央部 分的外周緣部的方式配置,且與該中央部分的外周緣部接合,該力傳遞部 分具有用于與力賦予機(jī)構(gòu)連結(jié)的連結(jié)部,該力賦予機(jī)構(gòu)用于使所述中央部
      20 分彈性變形。
      也可以通過(guò)下述方式形成光掩膜,即所述力傳遞部分由在所述中央 部分的每個(gè)邊獨(dú)立制成的多個(gè)帶狀構(gòu)件構(gòu)成,所述帶狀構(gòu)件與所述中央部 分的每個(gè)邊接合。
      或者還可以通過(guò)下述方式形成光掩膜,g卩將所述力傳遞部分作為單 25 —框狀構(gòu)件制成,使該框狀構(gòu)件與所述中央部分接合。
      或者還可以通過(guò)下述方式形成光掩膜,即所述力傳遞部分由在所述 中央部分的相互鄰接的每?jī)蓚€(gè)邊制成的一對(duì)L字狀構(gòu)件構(gòu)成,使該一對(duì)L 字狀構(gòu)件與所述中央部分接合。
      所述中央部分及所述力傳遞部分可以在使相互的緣端面面對(duì)面的狀 30態(tài)下,通過(guò)在該面對(duì)面部的至少單面?zhèn)日迟N粘附膠帶而相互接合。
      6所述連結(jié)部可以構(gòu)成多個(gè)孔,該孔用于鉤掛形成在作為力賦予機(jī)構(gòu)的 致動(dòng)器的可動(dòng)端部上的鉤部。
      所述力傳遞部分可以由與構(gòu)成所述中央部分的材料具有等同的揚(yáng)氏 系數(shù)的材料構(gòu)成。 5 發(fā)明效果
      根據(jù)本發(fā)明的光掩膜,因?yàn)槊枥L有圖案的中央部分和在中央部分的周 圍傳遞使中央部分彈性變形的力的力傳遞部分是獨(dú)立制成的,所以不需要 由高價(jià)光掩膜材料制成力傳遞部分,而可以由更廉價(jià)材料構(gòu)成。由此,能 夠減少使用高價(jià)光掩膜材料的部分,從而降低作為光掩膜整體的制成費(fèi) 10 用。
      另外,在光掩膜上描繪圖案的情況下,只要將與力傳遞部分處于分離 狀態(tài)的中央部分安裝在描繪裝置即可。因?yàn)橹醒氩糠帜軌驅(qū)?yīng)現(xiàn)狀的描繪 裝置的大小,所以不需要新設(shè)備投資。
      進(jìn)而,在由與構(gòu)成中央部分的材料具有等同楊氏系數(shù)的材料構(gòu)成力傳 15 遞部分的情況下,因?yàn)榱鬟f部分與中央部分相同地延伸,所以即使是兩 個(gè)不同構(gòu)件接合的構(gòu)造,也不會(huì)整體扭曲或歪曲。


      圖1是本發(fā)明一實(shí)施方式的光掩膜的俯視圖。 20 圖2是表示接合圖1的光掩膜的結(jié)構(gòu)要素之前的狀態(tài)的分解俯視圖。
      圖3是本發(fā)明其他實(shí)施方式的光掩膜的俯視圖。
      圖4是表示形成圖3的光掩膜之前的力傳遞部分的分解俯視圖。
      圖5是將現(xiàn)有光掩膜與力賦予機(jī)構(gòu)組合示出的俯視圖。
      圖6是將圖5的光掩膜及力賦予機(jī)構(gòu)與基板同時(shí)示出的縱剖視圖,相
      25當(dāng)于圖5中的VI-VI向視圖。
      圖7是用于比較現(xiàn)有光掩膜和在此之前的光掩膜的大小的俯視圖。 圖8是將基板與在其上面描繪的對(duì)位標(biāo)記同時(shí)示出的俯視圖。 圖中l(wèi)-光掩膜,2-光掩膜的對(duì)位標(biāo)記,3-中央部分,4-力傳遞部分, 5-圖案顯示區(qū)域,6-安裝用區(qū)域,7-粘附膠帶,8-孔(連結(jié)部),11-光掩膜,
      3014-力傳遞部分,101-光掩膜,102-致動(dòng)器(力賦予機(jī)構(gòu)),103-基座構(gòu)件,104-可動(dòng)端部,105-鉤部,106-孔,107-玻璃板,108-基板,109-基板支承 構(gòu)件,110-CCD照相機(jī),111-光掩膜的對(duì)位標(biāo)記,112-圖案顯示區(qū)域,113-力傳遞區(qū)域,114-光,115-支承用區(qū)域,116-基板的對(duì)位標(biāo)記。
      具體實(shí)施例方式
      圖1是本發(fā)明一實(shí)施方式的光掩膜1的俯視圖。光掩膜1具備中央 部分3,其描繪有包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記2的圖案;力傳遞部分4,其以作為
      整體包圍中央部分3的外周緣部的方式配置。力傳遞部分4與中央部分3
      獨(dú)立制成。
      10 中央部分3可以區(qū)分為由雙點(diǎn)劃線D圍成的區(qū)域即在其中描繪圖案
      時(shí)的圖案顯示區(qū)域5,和包圍其周圍的安裝用區(qū)域6。中央部分3由與形 成現(xiàn)有光掩膜的材料相同或等同的材料構(gòu)成。
      在本實(shí)施方式中,如圖2所示,力傳遞部分4由在中央部分3的每個(gè) 邊獨(dú)立制成的4個(gè)帶狀構(gòu)件4a-4d構(gòu)成。各個(gè)帶狀構(gòu)件4a-4d與中央部分3
      15 的每個(gè)邊接合。
      在接合時(shí),在使中央部分3的安裝用區(qū)域6的外周緣端面和與之對(duì)置 的各帶狀構(gòu)件4a-4d的緣端面面對(duì)面的狀態(tài)下,沿雙方的緣端面粘貼粘附 膠帶7 (圖1)。粘附膠帶7可以僅粘貼在緣端面的面對(duì)面部的單側(cè)面上, 也可以粘貼在雙面上??梢允闺p方的緣端面相互接觸,也可以使兩者相互
      20靠近。另外,也可以代替粘附膠帶7,或與粘附膠帶7—起,在中央部分 3的安裝用區(qū)域6的外周緣端面和與之對(duì)置的各帶狀構(gòu)件4a-4d的緣端面 之間涂敷粘接劑。還可以利用其它適當(dāng)?shù)臋C(jī)械性接合機(jī)構(gòu)。為了提高接合 尺寸精度,優(yōu)選使用夾具。
      在各帶狀構(gòu)件4a-4d上設(shè)置有多個(gè)孔(長(zhǎng)孔)8,該孔8用于鉤掛形成
      25 于作為力賦予機(jī)構(gòu)的致動(dòng)器的可動(dòng)端部上的鉤部(未圖示)。這些孔8構(gòu) 成用于與力賦予機(jī)構(gòu)連結(jié)的連結(jié)部,該力賦予機(jī)構(gòu)用于使中央部分3在其 面內(nèi)彈性變形。
      作為其它連結(jié)部的形式可以舉出凹凸形狀部(未圖示)等,該凹凸形 狀部在各帶狀構(gòu)件4a-4d上形成,能夠與力賦予機(jī)構(gòu)的可動(dòng)端部相互卡合 30而傳遞力。力傳遞部分4沒(méi)有被描繪圖案。從而,不需要與中央部分3相同地由 高價(jià)光掩膜材料構(gòu)成力傳遞部分4??梢圆捎酶畠r(jià)的材料。具體而言,
      中央部分3是在常用的光掩膜材料即PET (聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)上涂 敷感光材料而制成的,力傳遞部分4可以由未涂敷感光材料狀態(tài)的PET制 5 成。因?yàn)閮烧叩臈钍下蕦?shí)質(zhì)上是相同的,所以在施加張力時(shí)進(jìn)行相同的延 伸。從而,盡管是接合不同構(gòu)件的構(gòu)造,也不會(huì)在拉伸時(shí)產(chǎn)生扭曲或歪曲。 此外,對(duì)于在力傳遞部分4中使用的PET材料,不僅可以不必涂敷感光材 料,而且也不像中央部分3中使用的PET材料一樣要求"無(wú)瑕",因此從 這一點(diǎn)而言也是廉價(jià)的。 io 圖3是本發(fā)明其他實(shí)施方式的光掩膜11的俯視圖。光掩膜11具備
      中央部分3,其描繪包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記2的圖案;力傳遞部分14,其以作 為整體包圍中央部分3的外周緣部的方式配置。力傳遞部分14與中央部 分3獨(dú)立制成。
      在該實(shí)施方式中,如圖4所示,力傳遞部分14作為單一的框狀構(gòu)件 15制成。力傳遞部分14的內(nèi)緣部的尺寸及形狀通過(guò)在使力傳遞部分14和中 央部分3對(duì)合時(shí),使中央部分3的外周緣部恰好嵌入在力傳遞部分14的 內(nèi)周緣部劃定的空間內(nèi)而決定。
      如圖3所示,在成為使中央部分3嵌入在框狀的力傳遞部分14的空 間內(nèi)的狀態(tài)之后,利用粘附膠帶7使力傳遞部分14及中央部分3雙方相 20互接合。如圖1及圖2的實(shí)施方式相關(guān)說(shuō)明那樣,對(duì)接合及構(gòu)成力傳遞部 分14的材料而言,可以選擇各種方式。
      進(jìn)而其他實(shí)施方式(未圖示)中,力傳遞部分由在中央部分的相互鄰 接的每?jī)蓚€(gè)邊制成的一對(duì)L字形構(gòu)件構(gòu)成。 一對(duì)L字形構(gòu)件成為通過(guò)相互 組合而包圍中央部分的外周緣部的尺寸及形狀。對(duì)于力傳遞部分和中央部 25分的接合及構(gòu)成力傳遞部分的材料與其它實(shí)施方式的情況相同。
      權(quán)利要求
      1. 一種光掩膜,其在曝光中使用,在所述曝光中,通過(guò)將力施加在薄膜狀光掩膜的周緣使該光掩膜彈性變形,從而改變?cè)谠摴庋谀ど厦枥L出的、包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記的圖案的尺寸及/或形狀,由此使所述光掩膜和基板對(duì)位之后,將所述圖案轉(zhuǎn)印在所述基板上,所述光掩膜的特征在于,具備中央部分,其描繪有所述圖案;力傳遞部分,其與該中央部分獨(dú)立制成,以作為整體包圍所述中央部分的外周緣部的方式配置,且與該中央部分的外周緣部接合,該力傳遞部分具有用于與力賦予機(jī)構(gòu)連結(jié)的連結(jié)部,該力賦予機(jī)構(gòu)用于使所述中央部分彈性變形。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光掩膜,其特征在于,所述力傳遞部分由在所述中央部分的每個(gè)邊獨(dú)立制成的多個(gè)帶狀構(gòu) 15件構(gòu)成,所述帶狀構(gòu)件與所述中央部分的每個(gè)邊接合。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩膜,其特征在于,所述力傳遞部分作為單一框狀構(gòu)件制成,該框狀構(gòu)件與所述中央部分 接合。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩膜,其特征在于, 所述力傳遞部分由在所述中央部分的相互鄰接的每?jī)蓚€(gè)邊制成的一對(duì)L字狀構(gòu)件構(gòu)成,該一對(duì)L字狀構(gòu)件與所述中央部分接合。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光掩膜,其特征在于, 所述中央部分及所述力傳遞部分在使相互的緣端面面對(duì)面的狀態(tài)下,通過(guò)在該面對(duì)面部的至少單面?zhèn)日迟N粘附膠帶而相互接合。 25
      6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光掩膜,其特征在于,所述連結(jié)部構(gòu)成多個(gè)孔,該孔用于鉤掛形成在作為力賦予機(jī)構(gòu)的致動(dòng) 器的可動(dòng)端部上的鉤部。
      7. —種光掩膜,其在曝光中使用,在所述曝光中,通過(guò)將力施加在 薄膜狀光掩膜的周緣使該光掩膜彈性變形,從而改變?cè)谠摴庋谀ど厦枥L出 30的、包括多個(gè)對(duì)位標(biāo)記的圖案的尺寸及/或形狀,由此使所述光掩膜和基板對(duì)位之后,將所述圖案轉(zhuǎn)印在所述基板上, 所述光掩膜的特征在于,具備 中央部分,其描繪有所述圖案;力傳遞部分,其與該中央部分獨(dú)立制成,以作為整體包圍所述中央部 5分的外周緣部的方式配置,且與該中央部分的外周緣部接合,該力傳遞部 分具有用于與力賦予機(jī)構(gòu)連結(jié)的連結(jié)部,該力賦予機(jī)構(gòu)用于使所述中央部 分彈性變形,其中,所述中央部分及所述力傳遞部分在使相互的緣端面面對(duì)面的狀 態(tài)下,通過(guò)在該面對(duì)面部的至少單面?zhèn)日迟N粘附膠帶而相互接合。 10 所述連結(jié)部構(gòu)成多個(gè)孔,該孔用于鉤掛形成在作為力賦予機(jī)構(gòu)的致動(dòng)器的可動(dòng)端部上的鉤部。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種光掩膜,將光掩膜分為描繪有圖案的中央部分和其周圍的力傳遞部分而制成,然后,進(jìn)行接合,從而能夠降低材料費(fèi)用及避免新設(shè)備投資。光掩膜(1)分為包括圖案顯示區(qū)域(5)的中央部分(3)和包圍中央部分(3)的外周緣部的力傳遞部分(4)而制成。兩者由粘附膠帶(7)相互接合。力傳遞部分(4)具有用于與力賦予機(jī)構(gòu)連結(jié)的連結(jié)部(孔)(8),該力賦予機(jī)構(gòu)用于使中央部分(3)彈性變形。
      文檔編號(hào)G03F1/60GK101482695SQ200910002649
      公開(kāi)日2009年7月15日 申請(qǐng)日期2009年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月11日
      發(fā)明者高木俊博 申請(qǐng)人:三榮技研股份有限公司
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