專利名稱：一種掩膜版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體光刻顯影技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版。
背景技術(shù)：
液晶顯示器、集成電路等半導(dǎo)體器件的制程需要用到掩膜版，以在玻璃基 板或半導(dǎo)體基片上蝕刻出用戶需要的圖形。圖1示出了掩膜版的制作流程，首 先用計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行圖形制作，并將圖形轉(zhuǎn)換為曝光設(shè)備可識(shí)別的數(shù)據(jù)， 然后曝光設(shè)備在涂覆有感光膠的掩膜版上曝光成與設(shè)計(jì)要求一致的圖形，最后 對(duì)掩膜版進(jìn)行顯影處理，使掩膜版上的感光膠呈現(xiàn)出用戶需要的圖形。
掩膜版在顯影過(guò)程中，由于工藝條件的差異性，或者顯影手法的熟練程度 都會(huì)影響顯影的精度。為保證此關(guān)鍵制程的穩(wěn)定性，必須尋找一種可靠、便捷 的顯影控制技術(shù)，確保掩膜版的質(zhì)量滿足各種要求。
現(xiàn)有的顯影工藝主要是依靠控制顯影液的濃度，顯影過(guò)程中的溫度，顯影 的手法以及顯影的時(shí)間來(lái)控制顯影的精度，該方法受工藝環(huán)境的影響較大，對(duì) 掩膜版的前端制程也有較高要求，要達(dá)到掩膜版高精度的穩(wěn)定控制，必須保證 掩膜版的材料穩(wěn)定，曝光工藝的穩(wěn)定，顯影工藝的穩(wěn)定，尤其是在顯影階段，
主*靠?jī)煞N方法來(lái)實(shí)現(xiàn)顯影精度的控制1、基于大量實(shí)驗(yàn)找出同一容器中顯 影液的顯影次數(shù)與顯影時(shí)間的關(guān)系，將之應(yīng)用到實(shí)際生產(chǎn)，才艮據(jù)顯影液濃度的 變化對(duì)顯影時(shí)間進(jìn)行控制；2、保持顯影液的濃度恒定。其中根據(jù)顯影液濃度的 變化對(duì)顯影時(shí)間進(jìn)行控制的方式生產(chǎn)操作實(shí)現(xiàn)難度較高，而采用控制顯影液濃 度的方式成本壓力又4交大。

實(shí)用新型內(nèi)容
3本實(shí)用新型的目的在于提供一種掩膜版，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)掩膜版顯 影精度的控制實(shí)現(xiàn)難度較高或成本壓力大的問(wèn)題。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的， 一種掩膜版，所述掩膜版具有一顯影精度控制 圖標(biāo)，所述顯影精度控制圖標(biāo)包含有第 一組刻度標(biāo)記，所述第 一組刻度標(biāo)記由 一組刻度標(biāo)記圖案組成，所述第 一組刻度標(biāo)記中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依 次呈遞增或遞減變化，所述第一組刻度標(biāo)記中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻。
本實(shí)用新型中，通過(guò)在掩膜版上制作一顯影精度控制圖標(biāo)，該顯影精度控 制圖標(biāo)中包含有一組刻度標(biāo)記，每組刻度標(biāo)記由線寬呈遞增或遞減順序變化且 線寬均勻的刻度標(biāo)記圖案組成，通過(guò)監(jiān)控該刻度標(biāo)記中刻度標(biāo)記圖案的顯影程 度，將刻度標(biāo)記的顯影變化情況和掩膜版的顯影時(shí)間有機(jī)的結(jié)合起來(lái)，最終實(shí) 現(xiàn)控制顯影精度，同時(shí)減少了顯影液濃度的變化對(duì)產(chǎn)品精度的影響，而不再需 要根據(jù)顯影液濃度的變化對(duì)顯影時(shí)間進(jìn)行控制，或維持顯影液的濃度恒定，實(shí) 現(xiàn)簡(jiǎn)單且緩解了成本壓力，同時(shí)根據(jù)該圖標(biāo)可以很方便的判斷出掩膜版的顯影 程度，提高了制程的穩(wěn)定性和可追溯性。


圖l是現(xiàn)有技術(shù)提供的掩膜版的制作流程示意圖； 圖2是本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的使用正性感光膠的掩膜版的顯影精度 控制圖標(biāo)示意圖3是本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的使用負(fù)性感光膠的掩膜版的顯影精度 控制圖標(biāo)示意圖4是本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的掩膜版顯影精度控制圖標(biāo)示意圖； 圖5是本實(shí)用新型第三實(shí)施例提供的掩膜版顯影精度控制圖標(biāo)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體 實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
本實(shí)用新型實(shí)施例中，在掩膜版上制作一顯影精度控制圖標(biāo)，該顯影精度 控制圖標(biāo)中包含有一組或多組刻度標(biāo)記，每組刻度標(biāo)記由線寬呈遞增或遞減順 序變化且線寬均勻的刻度標(biāo)記圖案組成，通過(guò)監(jiān)控該刻度標(biāo)記中刻度標(biāo)記圖案 的顯影程度最終實(shí)現(xiàn)控制顯影精度。
圖2示出了本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的掩膜版的顯影精度控制圖標(biāo)，該 顯影精度控制圖標(biāo)包含有第一組刻度標(biāo)記1,第一組刻度標(biāo)記1由一組刻度標(biāo) 記圖案組成，第一組刻度標(biāo)記l中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬由上向下依次呈 遞增變化，當(dāng)然也可以設(shè)置為遞減變化，其中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案形狀可以為 矩形，也可以為其他線寬均勻的圖案，如線寬均勻的曲線等。當(dāng)對(duì)經(jīng)過(guò)曝光、 涂覆有感光膠的掩膜版進(jìn)行顯影處理時(shí)，可以通過(guò)視覺(jué)監(jiān)控第一組刻度標(biāo)記1 中所期望線寬的顯影程度的變化，來(lái)判斷掩膜版當(dāng)前的顯影程度，例如假定圖 1中的矩形刻度標(biāo)記圖案11為期望顯影的刻度標(biāo)記圖案，矩形刻度標(biāo)記圖案12、 13的線寬分別小于和大于矩形刻度標(biāo)記圖案11的線寬，且感光膠為正性感光 膠，若當(dāng)前能夠顯影出影像的刻度標(biāo)記圖案的最大線寬小于矩形刻度標(biāo)記圖案 11的線寬，例如只有矩形刻度標(biāo)記圖案12以及線寬小于矩形刻度標(biāo)記圖案12 的刻度標(biāo)記圖案能夠顯影出影像，則表明掩膜版中設(shè)計(jì)圖案的線條沒(méi)有完全顯 影，即掩膜版顯影不足；若當(dāng)前能夠顯影出影4象的刻度標(biāo)記圖案的最大線寬大 于矩形刻度標(biāo)記圖案11的線寬，例如矩形刻度標(biāo)記圖案13以及線寬小于矩形 刻度標(biāo)記圖案13的刻度標(biāo)記圖案能夠顯影出影像，則表明掩膜版中設(shè)計(jì)圖案的 線條顯影程度已經(jīng)超出需要，即掩膜版顯影過(guò)度。
本實(shí)用新型實(shí)施例中，可以通過(guò)監(jiān)控刻度標(biāo)記中刻度標(biāo)記圖案的顯影程度 得知掩膜版的顯影程度，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)掩膜版顯影精度的控制，而不再需要根據(jù) 顯影液濃度的變化對(duì)顯影時(shí)間進(jìn)行控制，或維持顯影液的濃度恒定，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單 且緩解了成本壓力。本實(shí)用新型實(shí)施例中，顯影精度控制圖標(biāo)進(jìn)一步包含有第二組刻度標(biāo)記2， 與第一組刻度標(biāo)記1相同，第二組刻度標(biāo)記2同樣由一組刻度標(biāo)記圖案組成， 第二組刻度標(biāo)記2中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依次呈遞增或遞減變化，每個(gè) 刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻，且刻度標(biāo)記圖案的最大線寬小于所期望顯影的刻度 標(biāo)記的線寬(對(duì)應(yīng)于感光膠為正性感光膠)，如圖2所示，或刻度標(biāo)記圖案的 最小線寬大于所期望顯影的刻度標(biāo)記的線寬(對(duì)應(yīng)于感光膠為負(fù)性感光膠)， 如圖3所示，第二組刻度標(biāo)記2適用于極端顯影過(guò)度的情形，具體監(jiān)控判斷原 理如上文所述，此處不再贅述。
進(jìn)一步地，為了在監(jiān)控過(guò)程中更能清楚的辨認(rèn)顯影精度控制圖標(biāo)中的刻度 標(biāo)記圖案，在制作時(shí)還可以將刻度標(biāo)記圖案的長(zhǎng)度^L計(jì)為呈一定規(guī)律變化，具 體見(jiàn)圖4示出的本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的掩膜版的顯影精度控制圖標(biāo)，和 圖5示出的本實(shí)用新型第三實(shí)施例提供的掩膜版的顯影精度控制圖標(biāo)。
本實(shí)用新型實(shí)施例中，通過(guò)在掩膜版上制作一顯影精度控制圖標(biāo)，該顯影 精度控制圖標(biāo)中包含有一組或多組刻度標(biāo)記，每組刻度標(biāo)記由線寬呈遞增或遞 減順序變化且線寬均勻的刻度標(biāo)記圖案組成，如矩形圖案，通過(guò)監(jiān)控該刻度標(biāo) 記中刻度標(biāo)記圖案的顯影程度，將刻度標(biāo)記的顯影變化情況和掩膜版的顯影時(shí) 間有機(jī)的結(jié)合起來(lái)，最終實(shí)現(xiàn)控制顯影精度，同時(shí)減少了顯影液濃度的變化對(duì) 產(chǎn)品精度的影響，同時(shí)根據(jù)該圖標(biāo)可以很方便的判斷出掩膜版的顯影程度，提 高了制程的穩(wěn)定性和可追溯性。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型， 凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng) 包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種掩膜版，其特征在于，所述掩膜版具有一顯影精度控制圖標(biāo)，所述顯影精度控制圖標(biāo)包含有第一組刻度標(biāo)記，所述第一組刻度標(biāo)記由一組刻度標(biāo)記圖案組成，所述第一組刻度標(biāo)記中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依次呈遞增或遞減變化，所述第一組刻度標(biāo)記中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻。
2、 如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述刻度標(biāo)記圖案為矩形圖案。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述顯影精度控制圖標(biāo) 包含有第二組刻度標(biāo)記，所述第二組刻度標(biāo)記由一組刻度標(biāo)記圖案組成，所述 第二組刻度標(biāo)記中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依次呈遞增或遞減變化的，所述 第二組刻度標(biāo)記中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻；所述第二組刻度標(biāo)記中的 刻度標(biāo)記圖案的最大線寬小于所期望顯影的刻度標(biāo)記的線寬。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述顯影精度控制圖標(biāo) 包含有第二組刻度標(biāo)記，所述第二組刻度標(biāo)記由一組刻度標(biāo)記圖案組成，所述第二組刻度標(biāo)記中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依次呈遞增或遞減變化的，所述 第二組刻度標(biāo)記中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻；所述第二組刻度標(biāo)記中的 刻度標(biāo)記圖案的最小線寬大于所期望顯影的刻度標(biāo)記的線寬。
專利摘要本實(shí)用新型適用于半導(dǎo)體光刻顯影技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種掩膜版，所述掩膜版具有一顯影精度控制圖標(biāo)，所述顯影精度控制圖標(biāo)包含有第一組刻度標(biāo)記，第一組刻度標(biāo)記由一組刻度標(biāo)記圖案組成，第一組刻度標(biāo)記中的各個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬依次呈遞增或遞減變化，第一組刻度標(biāo)記中的每個(gè)刻度標(biāo)記圖案的線寬均勻。本實(shí)用新型通過(guò)在掩膜版上制作一顯影精度控制圖標(biāo)，該顯影精度控制圖標(biāo)中包含有一組刻度標(biāo)記，每組刻度標(biāo)記由線寬呈遞增或遞減順序變化且線寬均勻的刻度標(biāo)記圖案組成，通過(guò)監(jiān)控該刻度標(biāo)記中刻度標(biāo)記圖案的顯影程度實(shí)現(xiàn)控制顯影精度，而不再需要根據(jù)顯影液濃度的變化對(duì)顯影時(shí)間進(jìn)行控制或維持顯影液的濃度恒定，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單且緩解了成本壓力。
文檔編號(hào)G03F1/42GK201237695SQ200820147200
公開(kāi)日2009年5月13日 申請(qǐng)日期2008年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月5日
發(fā)明者李躍松, 蘇利剛 申請(qǐng)人:清溢精密光電(深圳)有限公司