專(zhuān)利名稱(chēng)：顯示裝置結(jié)構(gòu)、電泳顯示器的顯示面板結(jié)構(gòu)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種顯示裝置結(jié)構(gòu)及其制造方法，且特別是有關(guān)于一種電泳顯示裝置結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)：
電泳顯示裝置亦稱(chēng)電子紙顯示裝置(Electronic Paper Display ;EPD)，其具有輕薄且有彈性的外型以及極低的功率損耗，電泳顯示裝置提供使用者有如閱讀書(shū)本般的感受。電泳顯示裝置具有更新數(shù)據(jù)的功能，可借由電子墨水(electronic ink,E-ink)的技術(shù)并透過(guò)電荷更新數(shù)據(jù)。電子墨水的技術(shù)可適用于不需要前光或背光反射的電泳顯示裝置， 其在較大的亮度范圍下依然可觀賞使用，例如直射的陽(yáng)光下，或不需電源而保持一畫(huà)面。電子墨水主要由數(shù)百萬(wàn)微小的微粒子所組成，每一微粒子的體積約略等同于人類(lèi)毛發(fā)的體積。一般而言，每個(gè)微粒子含有正電荷白粒子及負(fù)電荷黑粒子，這些粒子懸浮在清液當(dāng)中。當(dāng)施加電場(chǎng)時(shí)，正電荷白粒子將移動(dòng)至一端而使其呈現(xiàn)白色，負(fù)電荷黑粒子則拉至微粒子的另一端而使其呈現(xiàn)黑色。在電子墨水顯示裝置的制程中，靜電電荷會(huì)累積在制程設(shè)備、制程人員身上、顯示面板，或其它地方。因此在制程中，當(dāng)電子墨水顯示面板接觸制程設(shè)備、制程人員、或帶有靜電電荷的物質(zhì)時(shí)，將產(chǎn)生靜電放電(electrostatic discharge, ESD)的現(xiàn)象。因?yàn)樵陔娮幽@示裝置中的元件具有非常小的體積，所以由靜電放電會(huì)對(duì)電子墨水顯示裝置上的電路造成巨大損害。以目前現(xiàn)有的電子墨水顯示裝置而言，靜電放電通常會(huì)導(dǎo)致顯示面板上的線瑕疵(line defects)或是畫(huà)面異常，特別是位于顯示區(qū)之外的外部電路或是顯示區(qū)靠近外部矩陣中行或列的畫(huà)素。這將使得電子墨水顯示面板的制造良率降低且產(chǎn)品生命周期減少。如圖IA以及圖IB所繪示的傳統(tǒng)顯示裝置結(jié)構(gòu)剖面圖，此顯示裝置結(jié)構(gòu)主要包括主動(dòng)區(qū)域111、靜電保護(hù)電路區(qū)域109與測(cè)試電路區(qū)域115。由于第一金屬層103與第二金屬層105，通常需要透過(guò)最外層的第三金屬層101來(lái)連接，其中在貼附前端層壓顯示面板的制程時(shí)，前端層壓顯示面板上所帶的靜電容易由第三層金屬傳導(dǎo)至外部電路或前端層壓顯示面板導(dǎo)致線路短路造成畫(huà)面顯示有缺陷或異常。另一方面，顯示區(qū)外面的數(shù)據(jù)線或是掃描線的電壓會(huì)使前端層壓顯示面板(Front Plane Laminate ;FPL) 107中的離子釋出，在長(zhǎng)時(shí)間的電性驅(qū)動(dòng)下，這些離子加上水氣會(huì)形成腐蝕絕緣層的化學(xué)物質(zhì)，因而破壞絕緣層使得絕緣層下方的金屬層未受到保護(hù)，在高溫高濕的環(huán)境下，水氣會(huì)滲入使得第二金屬層105 與第一金屬層103腐蝕導(dǎo)致面板產(chǎn)生缺陷或異常。有鑒于此，如何避免顯示裝置受到靜電放電電流的損害和提高產(chǎn)品的壽命，已變成電泳顯示裝置在技術(shù)發(fā)展上一項(xiàng)重要的課題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一目的是在提供一種顯示裝置制造方法，能夠強(qiáng)化抗靜電能力并降低金屬腐蝕，并減少制程步驟，使制程簡(jiǎn)單化。依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，顯示裝置制造方法是用以制造一電泳顯示器面板，此制造方法是提供一基板并在基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的一靜電保護(hù)電路區(qū)域；在基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化(Patterning)第一金屬層；于第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層(間絕緣層)以及一非晶硅層；利用一第二道光罩制程圖案化非晶硅層；利用一第三道光罩制程圖案化第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，第一開(kāi)口是用以暴露出部分的第一金屬層；在第一絕緣層或非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸；利用一第四道光罩制程圖案化第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域；在第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，并利用一第五道光罩制程圖案化第二絕緣層與平坦層；然后在平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化第三金屬層。本發(fā)明的再一目的是在提供一種顯示裝置制造方法，能夠強(qiáng)化抗靜電能力并降低金屬腐蝕，延長(zhǎng)顯示裝置的使用周期。依照本發(fā)明的再一實(shí)施例，顯示裝置制造方法是制造一電泳顯示器面板，此制造方法是提供一基板，并在基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的一靜電保護(hù)電路區(qū)域。接著在基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化第一金屬層，于第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層以及一非晶硅層，然后利用一第二道光罩制程圖案化非晶硅層，并利用一第三道光罩制程圖案化第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，此第一開(kāi)口是用以暴露出部分的第一金屬層。接著在第一絕緣層或非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸，再利用一第四道光罩制程圖案化第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域，并在第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，使平坦層所在區(qū)域重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域，并利用一第五道光罩制程圖案化第二絕緣層與平坦層，然后在平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化第三金屬層。本發(fā)明的又一目的是在提供一種顯示裝置制造方法，能夠強(qiáng)化抗靜電能力并降低金屬腐蝕，避免前端層壓顯示面板所釋出的離子，腐蝕顯示裝置的內(nèi)部電路。依照本發(fā)明的又一實(shí)施例，顯示裝置制造方法是制造一電泳顯示器面板，此制造方法是提供一基板，并在基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；在基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化第一金屬層；于第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層以及一非晶硅層；利用一第二道光罩制程圖案化非晶硅層；利用一第三道光罩制程圖案化第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，此第一開(kāi)口是用以暴露出部分的第一金屬層；在第一絕緣層或非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸。然后利用一第四道光罩制程圖案化第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域，在第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，使平坦層所在區(qū)域重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域，或是使平坦層所在區(qū)域重疊于掃描線扇入?yún)^(qū)域，并利用一第五道光罩制程圖案化第二絕緣層與平坦層；之后在平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化第三金屬層。本發(fā)明的更一目的是在提供一種顯示裝置結(jié)構(gòu)，能夠強(qiáng)化抗靜電能力并降低金屬腐蝕。
依照本發(fā)明的更一實(shí)施例，顯示裝置結(jié)構(gòu)含有一基板、一第一金屬層、一第一絕緣層、一非晶硅層、一第一開(kāi)口、一第二開(kāi)口、一第二絕緣層以及一平坦層?；寰哂幸恢鲃?dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的一靜電保護(hù)電路區(qū)域，第一金屬層位于基板之上。第一絕緣層位于主動(dòng)區(qū)域的第一金屬層之上，非晶硅層位于第一絕緣層之上。第一開(kāi)口穿鑿第一絕緣層以及非晶硅層，以暴露出部分的第一金屬層。第二金屬層位于主動(dòng)區(qū)域內(nèi)的第一絕緣層以及非晶硅層之上，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸。第二開(kāi)口穿鑿第二金屬層以暴露出部分的非晶硅層。第二絕緣層設(shè)置于第二金屬層上并填滿(mǎn)第二開(kāi)口以接觸非晶硅層。平坦層設(shè)置于第二絕緣層之上，其中平坦層所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域。本發(fā)明的另一目的是在提供一種電泳顯示器的顯示面板結(jié)構(gòu)，能夠避免數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域被水氣腐蝕，強(qiáng)化抗靜電能力并降低金屬腐蝕。依照本發(fā)明的另一實(shí)施例，電泳顯示器的顯示面板結(jié)構(gòu)包含一基板、一第一金屬層、一第一絕緣層、一非晶硅層、一第二金屬層、一第二絕緣層、一平坦層，以及一第三金屬層?；寰哂幸恢鲃?dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；第一金屬層位于基板之上；第一絕緣層位于主動(dòng)區(qū)域的第一金屬層之上；非晶硅層位于第一絕緣層之上；第二金屬層位于主動(dòng)區(qū)域內(nèi)的第一絕緣層或非晶硅層之上；第二絕緣層設(shè)置于第二金屬層上； 平坦層設(shè)置于該第二絕緣層之上，其中該平坦層所在區(qū)域是重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；第三金屬層則設(shè)置于平坦層上。以上實(shí)施例的顯示裝置制造方法以及顯示裝置結(jié)構(gòu)，是以六道光罩制程來(lái)制造顯示裝置結(jié)構(gòu)，并利用開(kāi)口使第一金屬層直接連接到第二金屬層，并將平坦層涂布至顯示裝置的的靜電保護(hù)電路與測(cè)試電路之上，來(lái)強(qiáng)化顯示裝置的抗靜電能力并防止水氣腐蝕金
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為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例能更明顯易懂，所附附圖的說(shuō)明如下圖IA以及圖IB是繪示兩種傳統(tǒng)顯示裝置結(jié)構(gòu)的剖面圖；圖2A是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯式裝置的面板電路圖；圖2B是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的顯式裝置的配置俯視圖；圖2C以及2D是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯式裝置的部分面板電路圖；圖2E是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯式裝置的部分剖面圖；圖3A是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的顯示裝置制造方法流程圖；圖;3B是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式靜電保護(hù)電路區(qū)域的顯示裝置結(jié)構(gòu)剖面圖；圖3C，其是繪示本發(fā)明另一實(shí)施方式主動(dòng)區(qū)域的顯示裝置結(jié)構(gòu)剖面圖；圖3D是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯示裝置結(jié)構(gòu)的剖面圖。主要附圖標(biāo)記說(shuō)明101 第三金屬層103 第一金屬層105 第二金屬層107 前端層壓顯示面板109:靜電保護(hù)電路區(qū)域111 主動(dòng)區(qū)域
115 測(cè)試電路區(qū)域203 掃描線扇入?yún)^(qū)域207 前端層壓顯示面板211 數(shù)據(jù)線215:導(dǎo)電透明金屬231:靜電保護(hù)電路237:畫(huà)素電路241 二極管331 基板335:第一絕緣層339 平坦層343 第二金屬層345 非晶硅層349:第二開(kāi)口353 測(cè)試電路
201 數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域
205 主動(dòng)區(qū)域
209 保護(hù)平板
213 掃描線
217 平坦層
233 測(cè)試電路區(qū)域
239 靜電放電環(huán)
301 317 步驟
333 第一金屬層
337 第二絕緣層
341 前端層壓顯示面板
344 第三金屬層
347 第一開(kāi)口
351 靜電保護(hù)電路
355 主動(dòng)區(qū)域
具體實(shí)施例方式以上實(shí)施例的顯示裝置制造方法以及顯示裝置結(jié)構(gòu)，是以六道光罩制程來(lái)制造顯示裝置結(jié)構(gòu)，并利用開(kāi)口使第一金屬層連接到第二金屬層，使平坦層涂布至顯示裝置的靜電保護(hù)電路與測(cè)試電路之上，來(lái)強(qiáng)化顯示裝置的抗靜電能力并防止水氣腐蝕金屬。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D2A至圖2E，其中圖2A是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯式裝置的面板電路圖，圖2B則繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的顯式裝置的配置俯視圖，圖2C以及2D繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯式裝置的部分面板電路圖，圖2E則繪示由圖2D切線AA’看入的剖面圖。顯示裝置面板主要含有顯示影像的主動(dòng)區(qū)域205、用來(lái)防止靜電傷害顯示裝置元件的靜電保護(hù)電路區(qū)域231，以及用來(lái)測(cè)試顯像功能的測(cè)試電路區(qū)域233。主動(dòng)區(qū)域205主要由數(shù)個(gè)畫(huà)素電路237所構(gòu)成。靜電保護(hù)電路區(qū)域231含有二極管241與靜電放電環(huán)239，其中二極管 241負(fù)責(zé)將數(shù)據(jù)線211與掃描線213上的靜電傳導(dǎo)至靜電放電環(huán)239上。從圖2B至2E可以看出，保護(hù)平板209所在區(qū)域覆蓋前端層壓顯示面板207，此前端層壓顯示面板207會(huì)重疊于一部分的數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域201與一部分的掃描線扇入?yún)^(qū)域203，前端層壓顯示面板207內(nèi)含導(dǎo)電膠221、膠囊粒子(Capsules) 223與導(dǎo)電透明金屬 215和塑料基板219。由于掃描線213與數(shù)據(jù)線211的第一或第二金屬層位于前端層壓顯示面板207之下，其中此數(shù)據(jù)線或是掃描線的電壓會(huì)使前端層壓顯示面板(Front Plane Laminate ；FPL) 107中的離子釋出，在長(zhǎng)時(shí)間的電性驅(qū)動(dòng)下，這些離子加上水氣會(huì)形成腐蝕絕緣層的化學(xué)物質(zhì)，因而破壞絕緣層使得絕緣層下方的金屬層未受到保護(hù)，在高溫高濕的環(huán)境下，水氣會(huì)滲入使得第二金屬層105與第一金屬層103腐蝕導(dǎo)致面板產(chǎn)生缺陷或異常。請(qǐng)參照?qǐng)D3A，其是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式的顯示裝置制造方法流程圖，顯示裝置制造方法是制造一電泳顯示器面板，此方法是提供一基板并在此基板上定義出主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的靜電保護(hù)電路區(qū)域(步驟301)，然后在基板上形成第一金屬層，并利用第一道光罩制程圖案化(Patterning)此第一金屬層(步驟30 ；之后于第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層(可為間絕緣層)以及一非晶硅層(步驟30 ，并利用第二道光罩制程圖案化非晶硅層(步驟307)。接著步驟307之后，繼續(xù)利用一第三道光罩制程來(lái)圖案第一絕緣層以形成第一開(kāi)口(步驟309)，第一開(kāi)口是用以暴露出部分的第一金屬層，然后在第一絕緣層或是非晶硅層之上形成第二金屬層(步驟311)，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸。借由此第一開(kāi)口，第二金屬層可直接與第一金屬層連接，不需要再借由第三金屬層來(lái)進(jìn)行連接，因此可避免靜電或水氣沿著較外層的第三金屬層進(jìn)入第一、第二金屬層，傷害第一、第二金屬層及其上的結(jié)構(gòu)。跟著利用一第四道光罩制程來(lái)圖案化第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域，(步驟31 然后在第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，并利用一第五道光罩制程圖案化第二絕緣層與平坦層(步驟315)，平坦層與第二絕緣層的材質(zhì)可為樹(shù)脂 (Resin)、氮化硅(SiNx)、壓克力光阻或苯環(huán)丁烯(Benzocyclobutene)聚合物，其中此平坦層所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域以及數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域、掃描線扇入?yún)^(qū)域，平坦層的面積則可選擇性地大于或等于前端層壓顯示面板的面積，避免前端層壓顯示面板所釋出的離子腐蝕數(shù)據(jù)線或掃描線的金屬而產(chǎn)生線缺陷。最后在平坦層上形成第三金屬層，并以第六道光罩制程圖案化此第三金屬層(步驟317)。除此之外，還可在第三金屬層之上實(shí)施任何半導(dǎo)體相關(guān)制程，例如設(shè)置前端層壓顯示面板(Front Plane Laminate),以形成一電泳顯示裝置(Electronic Paper Display ； EPD)。在此一實(shí)施方式的顯示裝置制造方法當(dāng)中，步驟301還可在基板上相鄰于主動(dòng)區(qū)域處多定義出一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域、一掃描線扇入?yún)^(qū)域或一測(cè)試電路區(qū)域，并使平坦層所在區(qū)域重疊于前端層壓顯示面板區(qū)域下的數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域90%以上的面積，或使平坦層所在區(qū)域重疊于前端層壓顯示面板區(qū)域下的掃描線扇入?yún)^(qū)域90%以上的面積；平坦層所在區(qū)域亦可重疊于測(cè)試電路區(qū)域，避免數(shù)據(jù)線、掃描線與測(cè)試電路遭受靜電與水氣的損害。請(qǐng)參照?qǐng)D:3B，其是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式靜電保護(hù)電路區(qū)域的顯示裝置結(jié)構(gòu)剖面圖。顯示裝置結(jié)構(gòu)主要含有基板331、第一金屬層333、第一絕緣層335、非晶硅層345、第一開(kāi)口 347、第二金屬層343、第二絕緣層337、平坦層339以及以及任何半導(dǎo)體制程下所形成的結(jié)構(gòu)，例如一前端層壓顯示面板；341?；?31含有主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的靜電保護(hù)電路區(qū)域，還可以進(jìn)一步地含有數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域與掃描線扇入?yún)^(qū)域來(lái)容置數(shù)據(jù)線與掃描線，此一附圖主要繪示基板 331的靜電保護(hù)電路區(qū)域以及其上的結(jié)構(gòu)。第一金屬層333是位于基板331之上，第一絕緣層335與非晶硅層345依序疊置于第一金屬層333之上。第一開(kāi)口 347穿鑿非晶硅層345， 以暴露出部分的第一金屬層333，第二金屬層343位于第一絕緣層335或是非晶硅層345之上，其中第二金屬層343是填滿(mǎn)第一開(kāi)口 347以與第一金屬層333接觸。第二絕緣層337設(shè)置于第二金屬層343上并接觸非晶硅層；345，平坦層339則設(shè)置于第二絕緣層337之上，其中平坦層339所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域、測(cè)試電路區(qū)域以及前端層壓顯示面板區(qū)域下的數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域、掃描線扇入?yún)^(qū)域，此平坦層339與第二絕緣層337的材質(zhì)分別為樹(shù)脂(Resin)與氮化硅(SiNx)。進(jìn)一步地，還可將前端層壓顯示面板341設(shè)置于平坦層339之上，來(lái)形成一電泳顯示裝置。
在此一實(shí)施例當(dāng)中，第二金屬層343可透過(guò)第一開(kāi)口 347與第一金屬層333接觸， 不再需要借由額外的第三金屬層來(lái)連接，可避免靜電或水氣沿著較外層的第三金屬層進(jìn)入第一、第二金屬層，傷害第一、第二金屬層及其上的結(jié)構(gòu)；此外，平坦層339所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域以及數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域、掃描線扇入?yún)^(qū)域，因此可更全面地保護(hù)這些區(qū)域，避免這些區(qū)域與其上的結(jié)構(gòu)受到靜電或是水氣的損害。請(qǐng)參照?qǐng)D3C，其是繪示本發(fā)明另一實(shí)施方式主動(dòng)區(qū)域顯示裝置結(jié)構(gòu)的剖面圖。此一實(shí)施例當(dāng)中，大部分的元件符號(hào)與圖3B的實(shí)施例相同，用來(lái)標(biāo)示相同的材料層；此一實(shí)施例額外增加了第三金屬層344與第二開(kāi)口 349，其中第二開(kāi)口 349穿鑿第二絕緣層337和平坦層339以曝露第二金屬層343，第三金屬層344是填滿(mǎn)第二開(kāi)口 349以與第二金屬層 343接觸。請(qǐng)參照?qǐng)D3D，其是繪示本發(fā)明一實(shí)施方式顯示裝置結(jié)構(gòu)的剖面圖。由此圖3D可以看出，平坦層339所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域351、測(cè)試電路區(qū)域353，避免水氣腐蝕靜電保護(hù)電路區(qū)域351、測(cè)試電路區(qū)域353上的電子元件。以上實(shí)施例的顯示裝置制造方法以及顯示裝置結(jié)構(gòu)，以同一道光罩制程來(lái)圖案化第二絕緣層以及平坦層，故只需六道光罩制程即可制造顯示裝置結(jié)構(gòu)；更利用開(kāi)口使第一金屬層直接連接到第二金屬層，不再需要額外的金屬層；此外，是將平坦層涂布至顯示裝置的的靜電保護(hù)電路與測(cè)試電路之上，來(lái)強(qiáng)化顯示裝置的抗靜電能力并防止水氣腐蝕金屬。雖然本發(fā)明已以實(shí)施方式揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何在本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求書(shū)所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置制造方法，以制造一電泳顯示器面板，其特征在于，該制造方法包含 提供一基板，并在該基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域；在該基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化該第一金屬層； 于該第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層以及一非晶硅層； 利用一第二道光罩制程圖案化該非晶硅層；利用一第三道光罩制程圖案化該第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，該第一開(kāi)口是用以暴露出部分的該第一金屬層；在該第一絕緣層或該非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中該第二金屬層是填滿(mǎn)該第一開(kāi)口以與該第一金屬層接觸；利用一第四道光罩制程圖案化該第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域； 在該第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，并利用一第五道光罩制程圖案化該第二絕緣層與該平坦層；以及在該平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化該第三金屬層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該基板上定義出一測(cè)試電路區(qū)域，并使該平坦層所在區(qū)域重疊于該測(cè)試電路區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該第三金屬層之上設(shè)置一前端層壓顯示面板，以形成一電泳顯示裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，是以樹(shù)脂、壓克力光阻或苯環(huán)丁烯聚合物制作該平坦層，并以氮化硅制作該第二絕緣層。
5.一種顯示裝置制造方法，以制造一電泳顯示器面板，其特征在于，該制造方法包含 提供一基板，并在該基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于該主動(dòng)區(qū)域的一靜電保護(hù)電路區(qū)域；在該基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化該第一金屬層； 于該第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層以及一非晶硅層； 利用一第二道光罩制程圖案化該非晶硅層；利用一第三道光罩制程圖案化該第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，該第一開(kāi)口是用以暴露出部分的該第一金屬層；在該第一絕緣層或該非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中該第二金屬層是填滿(mǎn)該第一開(kāi)口以與該第一金屬層接觸；利用一第四道光罩制程圖案化該第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域； 在該第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，使該平坦層所在區(qū)域重疊于該靜電保護(hù)電路區(qū)域，并利用一第五道光罩制程圖案化該第二絕緣層與該平坦層；以及在該平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化該第三金屬層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該基板上定義出一測(cè)試電路區(qū)域，并使該平坦層所在區(qū)域重疊于該測(cè)試電路區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該第三金屬層之上設(shè)置一前端層壓顯示面板，以形成一電泳顯示裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，是以樹(shù)脂、壓克力光阻，或苯環(huán)丁烯聚合物制作該平坦層，并以氮化硅制作該第二絕緣層。
9.一種顯示裝置制造方法，以制造一電泳顯示器面板，其特征在于，該制造方法包含 提供一基板，并在該基板上定義出一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于該主動(dòng)區(qū)域的一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；在該基板上形成一第一金屬層，并利用一第一道光罩制程圖案化該第一金屬層； 于該第一金屬層之上依序形成一第一絕緣層以及一非晶硅層； 利用一第二道光罩制程圖案化該非晶硅層；利用一第三道光罩制程圖案化該第一絕緣層以形成一第一開(kāi)口，該第一開(kāi)口是用以暴露出部分的該第一金屬層；在該第一絕緣層或該非晶硅層之上形成一第二金屬層，其中該第二金屬層是填滿(mǎn)該第一開(kāi)口以與該第一金屬層接觸；利用一第四道光罩制程圖案化該第二金屬層以形成一源極區(qū)域以及一漏極區(qū)域； 在該第二金屬層上形成一第二絕緣層與一平坦層，使該平坦層所在區(qū)域重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域，并利用一第五道光罩制程圖案化該第二絕緣層與該平坦層；以及在該平坦層上形成一第三金屬層，并以一第六道光罩制程圖案化該第三金屬層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該基板上相鄰于該主動(dòng)區(qū)域處定義出的一掃描線扇入?yún)^(qū)域，并使該平坦層所在區(qū)域重疊于該前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該掃描線扇入?yún)^(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該基板上定義出一測(cè)試電路區(qū)域，并使該平坦層所在區(qū)域重疊于該測(cè)試電路區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，還包含在該第三金屬層之上設(shè)置一前端層壓顯示面板，以形成一電泳顯示裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置制造方法，其特征在于，是以樹(shù)脂、壓克力光阻，或苯環(huán)丁烯聚合物制作該平坦層，并以氮化硅制作該第二絕緣層。
14.一種顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含一基板，具有一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于該主動(dòng)區(qū)域的一靜電保護(hù)電路區(qū)域； 一第一金屬層，位于該基板之上； 一第一絕緣層，位于該主動(dòng)區(qū)域的該第一金屬層之上； 一非晶硅層，位于該第一絕緣層之上；一第一開(kāi)口，穿鑿該第一絕緣層以及該非晶硅層，以暴露出部分的該第一金屬層； 一第二金屬層，位于該主動(dòng)區(qū)域內(nèi)的該第一絕緣層以及該非晶硅層之上，其中該第二金屬層是填滿(mǎn)該第一開(kāi)口以與該第一金屬層接觸；一第二開(kāi)口，穿鑿該第二金屬層以暴露出部分的該非晶硅層； 一第二絕緣層，設(shè)置于該第二金屬層上并填滿(mǎn)該第二開(kāi)口以接觸該非晶硅層；以及一平坦層，設(shè)置于該第二絕緣層之上，其中該平坦層所在區(qū)域是重疊于該靜電保護(hù)電路區(qū)域。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板還包含一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域以容置數(shù)據(jù)線，該平坦層的所在區(qū)域則重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板還包含一掃描線扇入?yún)^(qū)域以容置掃描線，該平坦層的所在區(qū)域則重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該掃描線扇入?yún)^(qū)域。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板還包含一測(cè)試電路區(qū)域，該平坦層的所在區(qū)域則與該測(cè)試電路區(qū)域重疊。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包含一一前端層壓顯示面板，設(shè)置于該平坦層之上，以形成一電泳顯示裝置。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示裝置結(jié)構(gòu)，其特征在于，是以樹(shù)脂、壓克力光阻，或苯環(huán)丁烯聚合物制作該平坦層及氮化硅制作該第二絕緣層。
20.一種電泳顯示器的顯示面板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含一基板，具有一主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于該主動(dòng)區(qū)域的一數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；一第一金屬層，位于該基板之上；一第一絕緣層，位于該主動(dòng)區(qū)域的該第一金屬層之上；一非晶硅層，位于該第一絕緣層之上；一第二金屬層，位于該主動(dòng)區(qū)域內(nèi)的該第一絕緣層或該非晶硅層之上；一第二絕緣層，設(shè)置于該第二金屬層上；一平坦層，設(shè)置于該第二絕緣層之上，其中該平坦層所在區(qū)域是重疊于一前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該數(shù)據(jù)線扇入?yún)^(qū)域；以及一第三金屬層，設(shè)置于該平坦層上。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的顯示面板結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板還包含一掃描線扇入?yún)^(qū)域以容置掃描線，該平坦層的所在區(qū)域則重疊于該前端層壓顯示面板區(qū)域覆蓋下的該掃描線扇入?yún)^(qū)域。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的顯示面板結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包含一前端層壓顯示面板， 設(shè)置于該平坦層之上，以形成一電泳顯示裝置。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的顯示面板結(jié)構(gòu)，其特征在于，是以樹(shù)脂、壓克力光阻，或苯環(huán)丁烯聚合物制作該平坦層及氮化硅制作該第二絕緣層。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種顯示裝置結(jié)構(gòu)，其基板含主動(dòng)區(qū)域以及相鄰于主動(dòng)區(qū)域的靜電保護(hù)電路區(qū)域，第一金屬層、第一絕緣層與非晶硅層依序設(shè)置于基板之上。第一開(kāi)口穿鑿閘第一絕緣層，以暴露出部分的第一金屬層，第二金屬層則位于第一絕緣層或是非晶硅層之上，其中第二金屬層是填滿(mǎn)第一開(kāi)口以與第一金屬層接觸，第二絕緣層和平坦層依續(xù)設(shè)置于第二金屬層上，其中平坦層所在區(qū)域是重疊于靜電保護(hù)電路區(qū)域。第二開(kāi)口穿鑿第二絕緣層和平坦層以曝露第二金屬層，其中第三金屬層是填滿(mǎn)第二開(kāi)口以與第二金屬層接觸。
文檔編號(hào)G02F1/167GK102566188SQ20111003827
公開(kāi)日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年2月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月15日
發(fā)明者劉全豐 申請(qǐng)人:元太科技工業(yè)股份有限公司