本發(fā)明涉及oled顯示器制造技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種掩膜版清潔裝置。

背景技術(shù)：

oled顯示器件按照驅(qū)動類型可分為pm-oled(無源oled)和am-oled(有源oled)；下面主要解析am-oled的工藝；am-oled工藝可分為三大流程，第一段為陣列基板的工藝，第二段為oled蒸鍍封裝工藝；第三段則為邦定老化的顯示模塊工藝。其中，oled蒸鍍封裝工藝中包含多個基板與掩膜版對位的蒸鍍工藝，分別蒸鍍制作oled的多個有機(jī)層及無機(jī)層。

在基板與掩膜版對位的工藝過程中，必須注意到掩膜版開孔處是否鏤空，如果在掩膜版開孔處存在雜質(zhì)異物，制作出的oled會出現(xiàn)像素不良而導(dǎo)致不良。掩膜版上大多數(shù)雜質(zhì)異物都可以通過清洗、laserrepair清除，但是掩膜版上類毛線異物與掩膜版粘性很大，而且對laser的吸收低，是很難被清除的；

掩膜版上的類毛線雜質(zhì)異物通常包括微塵粒子和發(fā)絲、棉線、毛線和纖維等類毛線異物，對于微塵粒子，通常使用吹氣或吸氣裝置可以清潔去除，而對于類毛線異物，傳統(tǒng)的吹氣或吸氣裝置清楚效果不佳，容易再次附著在不同的位置。針對類毛線異物，現(xiàn)有技術(shù)中使用針頭吸管吸附去除，但是針頭吸管的吸附力較難控制，若針頭的吸力太弱，則吸附能力低，達(dá)不到有效的類毛線異物的吸附效果；若針頭的吸力太強(qiáng)，可能會使掩膜版變形。并且，類毛線異物可能并非簡單的附著在掩膜版上，而是粘連在掩膜版上，二者間可能會存在較大的粘力，此時使用針頭吸管強(qiáng)力吸除，很容易使掩膜版受力，導(dǎo)致掩膜版變形，對掩膜版造成破壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供了一種掩膜版清潔裝置，該裝置可以有效地清除掩膜版上粘連的發(fā)絲、棉線、毛線和纖維等類毛線異物，避免掩膜版發(fā)生變形，在清潔的過程中有效地保護(hù)掩膜版。

為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案：

一種掩膜版清潔裝置，包括吸附筒體，所述吸附筒體的第一端設(shè)置有吸嘴，所述吸附筒體通過氣管與吸氣裝置流體連通，其中，所述吸附筒體中設(shè)置有旋轉(zhuǎn)電機(jī)和刀片，所述刀片連接在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸上，所述刀片位于所述吸附筒體中且鄰近于所述吸嘴。

具體地，所述刀片與所述吸嘴所在的端面的垂直距離為0～2mm。

具體地，所述刀片的數(shù)量為多個，多個所述刀片呈圓周對稱地連接在所述旋轉(zhuǎn)軸上。

具體地，所述刀片的數(shù)量為2個或3個。

具體地，所述吸附筒體為圓筒狀結(jié)構(gòu)，所述吸附筒體的直徑為5～10mm。

具體地，所述吸氣裝置為真空泵。

具體地，所述掩膜版清潔裝置還包括固定基座和相對位于所述固定基座上方的支撐架，所述固定基座用于承載待清潔的掩膜版，所述吸附筒體通過一限位機(jī)構(gòu)連接到所述支撐架上；所述限位機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述吸附筒體在所述固定基座的上方沿高度方向移動并限制移動行程，以使所述吸嘴與所述掩膜版之間的間距不小于預(yù)設(shè)的安全距離。

具體地，所述安全距離為1～2mm。

具體地，所述掩膜版清潔裝置還包括控制模塊和高度傳感器，所述高度傳感器連接在所述吸附筒體的第一端，所述高度傳感器用于實(shí)時檢測所述吸嘴與所述掩膜版之間的間距并將檢測值反饋至所述控制模塊；其中，若實(shí)時檢測的間距小于所述安全距離，所述控制模塊分別向所述吸氣裝置和所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)發(fā)出控制信號，控制所述吸氣裝置停止吸氣，控制所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)停止轉(zhuǎn)動。

具體地，所述高度傳感器的數(shù)量為兩個，兩個所述高度傳感器位于所述吸嘴的相對兩側(cè)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版清潔裝置，在吸附筒體中設(shè)置有刀片，針對粘連在掩膜版上的類毛線異物，首先通過吸附作用將類毛線異物的主體吸入到吸附筒體的吸嘴中，然后通過刀片旋轉(zhuǎn)切割將類毛線異物從掩膜版上切斷，最后將切斷的異物吸附去除，由此可以有效地清除掩膜版上粘連的發(fā)絲、棉線、毛線和纖維等類毛線異物，在清潔的過程中，可以避免掩膜版發(fā)生變形，有效地保護(hù)掩膜版。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是如圖1中a部分的放大示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。這些優(yōu)選實(shí)施方式的示例在附圖中進(jìn)行了例示。附圖中所示和根據(jù)附圖描述的本發(fā)明的實(shí)施方式僅僅是示例性的，并且本發(fā)明并不限于這些實(shí)施方式。

在此，還需要說明的是，為了避免因不必要的細(xì)節(jié)而模糊了本發(fā)明，在附圖中僅僅示出了與根據(jù)本發(fā)明的方案密切相關(guān)的結(jié)構(gòu)和/或處理步驟，而省略了與本發(fā)明關(guān)系不大的其他細(xì)節(jié)。

本實(shí)施例提供了一種掩膜版清潔裝置，如圖1和圖2所示，所述掩膜版清潔裝置包括固定基座1、相對位于所述固定基座1上方的支撐架2、吸附筒體3。所述固定基座1用于承載待清潔的掩膜版4，所述吸附筒體3連接到所述支撐架2上，所述支撐架2將所述吸附筒體3支撐在所述固定基座1的上方。

其中，所述吸附筒體3的朝向所述掩膜版4的第一端設(shè)置有吸嘴31，所述吸附筒體3通過氣管51與吸氣裝置5流體連通。當(dāng)所述掩膜版4上附著有雜質(zhì)異物時，將所述吸附筒體3吸嘴31對準(zhǔn)雜質(zhì)異物，然后控制吸氣裝置5吸氣，此時若雜質(zhì)異物是簡單的附著(非粘連)在掩膜版4上，則雜質(zhì)異物被吸入到所述吸附筒體3中，到達(dá)清潔所述掩膜版4的效果。在本實(shí)施例中，所述吸氣裝置5為真空泵。

進(jìn)一步地，所述吸附筒體3中設(shè)置有旋轉(zhuǎn)電機(jī)6和刀片7，所述刀片7連接在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)6的旋轉(zhuǎn)軸61上，所述刀片7位于所述吸附筒體3中且鄰近于所述吸嘴31。針對粘連在掩膜版4上的類毛線異物，例如，發(fā)絲、棉線、毛線和纖維等類毛線異物，首先通過吸氣裝置5的吸附作用將類毛線異物的主體吸入到吸附筒體3的吸嘴31中，然后通過刀片7旋轉(zhuǎn)切割將類毛線異物從掩膜版4上切斷，最后再由吸氣裝置5的吸附作用將切斷的異物吸附去除。

針對粘連在掩膜版4上的類毛線異物，如上實(shí)施例提供的掩膜版清潔裝置，不是通過吸氣裝置5提供強(qiáng)力吸附脫離，而是選擇使用較小的吸附力使得類毛線異物自由部分(非粘連部分)伸入到吸附筒體3的吸嘴31中，然后在通過刀片7將伸入到吸嘴31中的類毛線異物切割脫離掩膜版4。由此，可以有效地清除掩膜版4上粘連的類毛線異物，并且在清潔的過程中，避免使用強(qiáng)力吸附脫離導(dǎo)致掩膜版4發(fā)生變形，有效地保護(hù)掩膜版4。

在本實(shí)施例中，所述吸附筒體3為圓筒狀結(jié)構(gòu)，由此更加方便地裝配旋轉(zhuǎn)電機(jī)6和刀片7。具體地，所述吸附筒體3的直徑可以設(shè)置在5～10mm的范圍內(nèi)，所述刀片7的尺寸可以根據(jù)所述吸附筒體3的直徑大小相應(yīng)具體選擇。

其中，所述刀片7的數(shù)量可以為多個，多個所述刀片7呈圓周對稱地連接在所述旋轉(zhuǎn)軸61上。具體地，在本實(shí)施例中，所述刀片7的數(shù)量為2個，在另外的優(yōu)選實(shí)施例中，所述刀片7的數(shù)量也可以設(shè)置為3個。

其中，為了避免所述刀片7接觸到所述掩膜版4而刮傷所述掩膜版4，所述刀片7不可從所述吸嘴31伸出，所述刀片7可以是與所述吸嘴31所在的端面平齊或者是收容在所述吸嘴31之內(nèi)，但是又要避免所述刀片7與所述吸嘴31所在的端面距離過大。如圖2所示，優(yōu)選的是，所述刀片7與所述吸嘴31所在的端面的垂直距離h可以設(shè)置為0～2mm，當(dāng)h＝0時，即所述刀片7與所述吸嘴31所在的端面平齊。

在本實(shí)施例中，參閱圖1和圖2，所述吸附筒體3通過一限位機(jī)構(gòu)8連接到所述支撐架2上。所述限位機(jī)構(gòu)8用于驅(qū)動所述吸附筒體3在所述固定基座1的上方沿高度方向移動并限制其移動行程，以使所述吸嘴31與所述掩膜版4之間的間距l(xiāng)不小于預(yù)設(shè)的安全距離。其中，所述安全距離可以設(shè)置為1～2mm。

進(jìn)一步地，參閱圖1和圖2，本實(shí)施例中的掩膜版清潔裝置還包括控制模塊9和高度傳感器10，所述高度傳感器10連接在所述吸附筒體3的第一端，所述高度傳感器10用于實(shí)時檢測所述吸嘴31與所述掩膜版4之間的間距l(xiāng)并將檢測值反饋至所述控制模塊9。其中，所述控制模塊9還與所述吸氣裝置5和所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)6建立信號連接，若從所述高度傳感器10反饋的實(shí)時檢測的間距l(xiāng)小于所述安全距離，則所述控制模塊10分別向所述吸氣裝置5和所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)6發(fā)出控制信號，控制所述吸氣裝置5停止吸氣，控制所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)6停止轉(zhuǎn)動。由此防止在所述吸嘴31與所述掩膜版4之間的間距l(xiāng)小于安全距離時，吸氣動作和旋轉(zhuǎn)切割動作對掩膜版4造成破壞。在通過所述限位機(jī)構(gòu)8調(diào)整使得間距l(xiāng)恢復(fù)到安全距離之后，再重新控制所述吸氣裝置5和所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)6啟動相應(yīng)的動作。

具體地，本實(shí)施例中，如圖1所示，所述高度傳感器10的數(shù)量為兩個，兩個所述高度傳感器10位于所述吸嘴31的相對兩側(cè)。

如上實(shí)施例提供的掩膜版清潔裝置，在吸附筒體中設(shè)置有刀片，針對粘連在掩膜版上的類毛線異物，首先通過吸附作用將類毛線異物的主體吸入到吸附筒體的吸嘴中，然后通過刀片旋轉(zhuǎn)切割將類毛線異物從掩膜版上切斷，最后將切斷的異物吸附去除，由此可以有效地清除掩膜版上粘連的發(fā)絲、棉線、毛線和纖維等類毛線異物，在清潔的過程中，可以避免掩膜版發(fā)生變形，有效地保護(hù)掩膜版。

需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個實(shí)體或者操作與另一個實(shí)體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上所述僅是本申請的具體實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本申請?jiān)淼那疤嵯?，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本申請的保護(hù)范圍。