金屬掩膜版的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及有機發(fā)光顯示領(lǐng)域，特別是涉及一種AMOLED蒸鍍時的金屬掩膜版。
【背景技術(shù)】
[0002]AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Display，有源矩陣有機發(fā)光顯示裝置)具有自動發(fā)光功耗低、反應(yīng)速度快、對比度更高、視角較廣等特點。
[0003]在制造AMOLED的過程中，需要對像素RGB分別進行蒸鍍。如圖1所述，在蒸鍍時運用到掩膜版，該掩膜版包括基板10，所述基板10上設(shè)有開口 11，從而開口 11暴露出的區(qū)域被蒸鍍，而其他區(qū)域被遮擋。而開口 11的大小制約著PPI (Pixels Per Inch，像素密度)。高PPI是AMOLED的發(fā)展趨勢，目前主流AMOLED屏體的PPI在300-400之間。如何進一步提高PPI，業(yè)內(nèi)有著如下幾種方法:
[0004]1、通過巧妙的像素排布來提高PPI，這樣提升的分辨率并不是真正意義上的分辨率，只是提升了分辨率的數(shù)值，人眼還是能夠分辨出顆粒感。
[0005]2、通過提高基板的精度來提高PPI，但要實現(xiàn)這一的高精度，需要提升掩膜版制作的能力，但目前已較難實現(xiàn)。
[0006]因此，如何提高PPI，已是亟待解決的問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0007]本實用新型的目的在于，提供一種金屬掩膜版，使得PPI得以提高。
[0008]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種金屬掩膜版，用于蒸鍍工藝，所述金屬掩膜版包括第一基板和第二基板，所述第一基板具有至少一個第一開口，所述第二基板具有至少一個第二開口，所述第二基板層疊于所述第一基板上，且所述第一基板上的第一開口與所述第二基板上相對應(yīng)的第二開口部分重疊。
[0009]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板和第二基板固定連接。
[0010]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板和第二基板通過焊接固定。
[0011]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板和第二基板活動連接。
[0012]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板和第二基板通過一固定裝置固定。
[0013]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板或第二基板設(shè)置有微調(diào)旋鈕。
[0014]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一基板或第二基板在一側(cè)設(shè)置有一彈性裝置，在另一側(cè)設(shè)置有兩個間隔分布的控制件及插塞，所述兩個控制件之間的間隔上寬下窄，所述插塞置于所述間隔中。
[0015]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一開口和第二開口的形狀相同。
[0016]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一開口和第二開口的形狀不同。
[0017]可選的，對于所述的金屬掩膜版，所述第一開口的形狀為正方形，所述第二開口的形狀為長方形。
[0018]在本實用新型提供的金屬掩膜版中，包括第一基板和第二基板，所述第一基板具有至少一個第一開口，所述第二基板具有至少一個第二開口，所述第二基板層疊于所述第一基板上，且所述第一基板上的第一開口與所述第二基板上相對應(yīng)的第二開口部分重疊。相比現(xiàn)有技術(shù)，通過第一開口和第二開口的部分重疊，使得開口彼此之間有著阻擋，這樣就使得實際進行蒸鍍時的缺口變小，從而提高了制作精度，有利于PPI的提高。
【附圖說明】
[0019]圖1為現(xiàn)有技術(shù)掩膜版中基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為本實用新型掩膜版中基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖3為本實用新型掩膜版中一種微調(diào)裝置的示意圖；
[0022]圖4為本實用新型掩膜版中另一種微調(diào)裝置的示意圖。
【具體實施方式】
[0023]下面將結(jié)合示意圖對本實用新型的金屬掩膜版進行更詳細(xì)的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選實施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實用新型，而仍然實現(xiàn)本實用新型的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本實用新型的限制。
[0024]在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本實用新型。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實用新型的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
[0025]本實用新型的主要思想是，提供一種金屬掩膜版，用于蒸鍍工藝，所述金屬掩膜版包括第一基板和第二基板，所述第一基板具有至少一個第一開口，所述第二基板具有至少一個第二開口，所述第二基板層疊于所述第一基板上，且所述第一基板上的第一開口與所述第二基板上相對應(yīng)的第二開口部分重疊。如此便可使得蒸鍍時的缺口變小，從而提高了制作精度，有利于PPI的提尚。
[0026]以下列舉所述金屬掩膜版的較優(yōu)實施例，以清楚的說明本實用新型的內(nèi)容，應(yīng)當(dāng)明確的是，本實用新型的內(nèi)容并不限制于以下實施例，其他通過本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的常規(guī)技術(shù)手段的改進亦在本實用新型的思想范圍之內(nèi)。
[0027]請參考圖2所示的結(jié)構(gòu)示意圖，所述金屬掩膜版包括第一基板21和第二基板22，所述第一基板21具有至少一個第一開口 211，所述第二基板22具有至少一個開口 221，其中第二基板22層疊于第一基板21上，且所述第一基板21上的第一開口 211與所述第二基板22上相對應(yīng)的第二開口 221部分重疊。由圖2可知，在第一開口 211和第二開口 221產(chǎn)生部分重疊后，所形成的實際開口，也即蒸鍍時的缺口 223小于第一開口 211或第二開口221。從而有利于高PPI的形成。
[0028]優(yōu)選的，所述第一基板21和第二基板22完全相同(即第一開口 211和第二開口221也相同)，便于批量生產(chǎn)。圖2中示出的即為第一基板21和第二基板22完全相同的情況，第一開口 211和第二開口 221皆為長方形。當(dāng)然，考慮到也可以利用現(xiàn)有的基板，因此，第一基板21和第二基板22也可以是不同，例如第一開口