防塵薄膜組件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的為提供一種通氣孔開口部以及過濾器的大小由于防塵薄膜組件的高度而被限制，但是即使在防塵薄膜組件的高度被限制為低的場合，也會使過濾器的有效面積充分大，防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差得以很快地緩和的防塵薄膜組件。本發(fā)明防塵薄膜組件具有防塵薄膜組件框架21，所述防塵薄膜組件框架21上設(shè)置的使防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外通氣的通氣孔25以及在所述通氣孔25內(nèi)設(shè)置的至少將該通氣孔的一部分塞住的過濾器22，其特征在于：所述通氣孔25的在防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部以及防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部的至少任一方為向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置。再者，本發(fā)明的過濾器優(yōu)選使向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的通氣孔25的開口部被塞住。
【專利說明】
防塵薄膜組件
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置，IC封裝，印刷基板，液晶面板或者有機(jī)EL面板等的制造時的作為灰塵防止器使用的防塵薄膜組件。
【背景技術(shù)】
[0002]近年，LSI的設(shè)計正在向四分之一微米以下的細(xì)微化前進(jìn)，伴隨著這種變化，曝光光源的短波長化也在發(fā)展。即，曝光光源從水銀燈的g線(436nm)，;1線(365nm)向KrF準(zhǔn)分子激光(248nm)，ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)等轉(zhuǎn)變，進(jìn)一步，使用主波長13.5nm的EUV(ExtremeUltra V1let)光的EUV曝光也正在被研究。
[0003]在LSI，超LSI等的半導(dǎo)體制造或者液晶表不板的制造中，要向半導(dǎo)體晶片或者液晶用原板照射光以制造圖案，如果在該場合使用的光刻用掩模(以下簡稱“掩?！?以及中間掩模(以下，簡稱“曝光原版”)上有灰塵附著，所述灰塵就會將光吸收，或使光彎曲，轉(zhuǎn)印的圖案就會變形，尖端粗糙，基底變黑臟污，從而產(chǎn)生尺寸，品質(zhì)，外觀等受損的問題。
[0004]這些的作業(yè)，通常在無塵室中進(jìn)行，但是，即使如此，也難以使曝光原版經(jīng)常保持清潔。因此，一般采用在曝光原版表面上作為灰塵防止器將防塵薄膜組件貼附后再進(jìn)行曝光的方法。在該場合，異物不在曝光原版的表面上直接附著，而是附著于防塵薄膜組件上，在光刻時只要將焦點對準(zhǔn)曝光原版的圖案即可，防塵薄膜組件上的異物與轉(zhuǎn)印無關(guān)。
[0005]所述防塵薄膜組件的基本的構(gòu)成為，在防塵薄膜組件框架的上端面將曝光使用的光的透過率高的防塵膜為繃緊設(shè)置的同時，在下端面設(shè)置氣密用襯墊。氣密用襯墊一般使用粘著劑層。防塵膜由可以使曝光使用的光(水銀燈的g線(436nm)，i線(365nm)，KrF準(zhǔn)分子激光(248nm)，ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)等)良好透過的硝化纖維素，醋酸纖維素，氟系聚合物等構(gòu)成，在EUV曝光的場合，也正在研究防塵膜使用極薄的硅。
[0006]防塵薄膜組件為，防止在曝光原版上有灰塵附著而設(shè)置的，所述防塵薄膜組件的粘著劑層使用壓力將其貼附于曝光原版。此時，防塵薄膜組件，在曝光原版的表面上形成將圖案領(lǐng)域包圍。由此，曝光原版的圖案領(lǐng)域，由防塵薄膜組件使其與外部的塵埃隔離，使灰塵不能在圖案面上附著。再者，防塵膜，防塵薄膜組件框架以及曝光原版形成防塵薄膜組件封閉空間。
[0007]所述防塵薄膜組件封閉空間，由于未密封閉空間，所以外部的壓力變化時，防塵薄膜組件內(nèi)外的壓力差會對防塵膜形成壓力，氟聚合物等的樹脂膜的場合，防塵膜會膨起，凹陷會發(fā)生。另外，EUV曝光時，曝光環(huán)境為真空，在掩模進(jìn)出曝光裝置時，要吸引真空，由此在極薄硅膜的場合，只要少有壓力差，就有很大的可能使硅膜破壞。
[0008]因此，為了對上述那樣的密封閉空間的內(nèi)外的壓力差緩和，一般要設(shè)置連通防塵薄膜組件框架的內(nèi)外的通氣孔，通過所述通氣孔使空氣流通。例如，在專利文獻(xiàn)I中，記載了一種在設(shè)置防塵薄膜組件框架的側(cè)部設(shè)置氣壓調(diào)整用的通氣孔的同時，在所述防塵薄膜組件框架的外側(cè)面設(shè)置防止將所述通氣孔堵塞的粒子的侵入的過濾器的防塵薄膜組件。另夕卜，在專利文獻(xiàn)2中，記載了一種即使防塵薄膜組件在真空下使用的場合，也不會由于壓力差而伸縮從而被破損的EUV用防塵薄膜組件，該防塵薄膜組件具有，在外框部的內(nèi)側(cè)領(lǐng)域具有多孔部的支持部件，在所述支持部件的框部設(shè)置氣體可透過的過濾器以及由多孔部支持的單晶硅的防塵膜的防塵薄膜組件。
[0009]如上述，在以往的防塵薄膜組件中，設(shè)置有防止從氣壓調(diào)整用的通氣孔粒子侵入的過濾器。再者，所述防塵薄膜組件的通氣孔的開口部，在對與防塵薄膜組件框架的防塵膜接著面或者粘著劑層設(shè)置面垂直的二個面設(shè)置的同時，過濾器還要設(shè)置將防塵薄膜組件框架外側(cè)面的開口部塞住。另外，空氣在通過過濾器時，通氣速度(通氣量)小，所以，特別是EUV曝光的抽真空的場合以及防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的極小的壓力差就會成為問題的場合，有必要至少要將過濾器設(shè)置的側(cè)的通氣孔開口部的面積做大，從而使過濾器的有效面積變得充分大。
[0010]先行技術(shù)文獻(xiàn)
[0011]專利文獻(xiàn)
[0012]專利文獻(xiàn)I日本特開平10 —198021
[0013]專利文獻(xiàn)2日本特開2010 — 256434
[0014]但是，近年，防塵薄膜組件的高度有變低的傾向，由此，有防塵薄膜組件框架的外側(cè)面的高度也變低，由此，發(fā)生了通氣孔開口部，進(jìn)而過濾器的有效面積也不得不變小的問題。特別是，EUV用防塵薄膜組件，由于其高度被要求非常低，所以產(chǎn)生了在以往那樣的在防塵薄膜組件框架的外側(cè)面設(shè)置過濾器時，也不得不將過濾器的有效面積變得非常小的問題。
[0015]在大氣壓下使用的ArF用防塵薄膜組件中，防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力變化小，過濾器的通氣性大不會成為大問題，但是，由于A rF用的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框架的高度變低，所以對防塵薄膜組件框架的側(cè)面可以設(shè)置過濾器的尺寸，有相當(dāng)?shù)南拗啤?br>[0016]另一方面，EUV用防塵薄膜組件，由于在大氣壓下進(jìn)行掩模的安裝，在曝光裝置內(nèi)真空下使用，所以在將EUV用防塵薄膜組件裝入曝光裝置時，防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)的空氣有必要排出。再者，此時，如過濾器的有效面積不充分大，防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外會發(fā)生壓力差，有發(fā)生防塵膜破壞的等的可能。因此，在EUV用防塵薄膜組件中有必要設(shè)置充分大的通氣孔開口部，以及過濾器設(shè)置，如上述那樣，由于EUV用防塵薄膜組件的高度非常低，所以用以往的那樣的在防塵薄膜組件框架的外側(cè)面上設(shè)置過濾器的方法，要得到具有足夠大小的通氣孔開口部以及過濾器是困難的。
[0017]因此，本發(fā)明就是由于鑒于上述的原因而成的，本發(fā)明的目的，為即使防塵薄膜組件的高度低，也可以設(shè)置具有足夠大小的通氣孔開口部以及有效面積大的過濾器，從而提供一種防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差被充分緩和的防塵薄膜組件。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0018]本發(fā)明為一種防塵薄膜組件，包括防塵薄膜組件框架，在所述防塵薄膜組件框架設(shè)置的防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外通氣的通氣孔以及將所述通氣孔的至少一部分塞住的過濾器，其特征在于:通氣孔的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部以及防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部的至少任一方，為向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置。再者，本發(fā)明的過濾器優(yōu)選將向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的通氣孔的開口部塞住。
[0019]另外，本發(fā)明的過濾器的設(shè)置，更優(yōu)選將通氣孔的封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部或者所述通氣孔的封閉空間外側(cè)的開口部塞住，所述通氣孔的封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部或者所述通氣孔的封閉空間外側(cè)的開口部，優(yōu)選向著防塵薄膜組件上部設(shè)置。
[0020]進(jìn)一步，本發(fā)明的過濾器，可以在通氣孔內(nèi)或者通氣孔外的任一方設(shè)置，該場合，優(yōu)選孔曲折或者彎曲，在防塵薄膜組件框架的邊內(nèi)側(cè)或者邊外側(cè)形成鼓出部，所述通氣孔在所述鼓出部設(shè)置。再者，所述鼓出部，優(yōu)選沿著薄膜組件框架全周設(shè)置。
[0021]發(fā)明的效果
[0022]根據(jù)本發(fā)明，即使在通氣孔開口部以及過濾器的大小由于防塵薄膜組件的高度被限制得很低的場合，由于過濾器的有效面積充分大，防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差也可以很快地緩和，從而抑制了防塵膜的破壞等的問題。
【附圖說明】
[0023]圖1本發(fā)明的防塵薄膜組件的一實施方式的示意圖。
[0024]圖2圖1的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0025]圖3本發(fā)明的防塵薄膜組件的另一個實施方式的示意圖。
[0026]圖4圖3的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0027]圖5實施例1以及3中使用的防塵薄膜組件的示意圖。
[0028]圖6本發(fā)明的防塵薄膜組件的另一個實施方式的示意圖。
[0029]圖7圖6的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0030]圖8本發(fā)明的防塵薄膜組件的另一個實施方式的示意圖。
[0031 ]圖9圖8的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0032]圖10以往的防塵薄膜組件以及比較例I以及2的示意圖。
[0033]圖11圖10的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0034]圖12將鼓出部在防塵薄膜組件框架的外側(cè)全周設(shè)置的實施方式的示意圖。
[0035]圖13圖12的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0036]圖14將鼓出部在防塵薄膜組件框架的外側(cè)全周設(shè)置的另一個實施方式的示意圖。
[0037]圖15圖14的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
[0038]圖16將鼓出部在防塵薄膜組件框架的內(nèi)側(cè)全周設(shè)置的實施例5的示意圖。
[0039]圖17圖16的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面圖。
【具體實施方式】
[0040]以下，對本發(fā)明的一實施方式基于附圖進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明并不限于此。
[0041]圖1，3，6，8為本發(fā)明的防塵薄膜組件的一實施方式的示意圖，圖2，4，7，9為本發(fā)明的防塵薄膜組件的過濾器設(shè)置部的截面示意圖。另外，圖5為實施例1以及2使用的防塵薄膜組件的示意圖。
[0042]通常的防塵薄膜組件如圖10，11表示的那樣，由防塵薄膜組件框架11，防塵膜10，防塵膜接著層13，掩?；寤蛘咂毓庠娴恼持鴮?4(以下，稱掩模粘著層14)，通氣孔15以及過濾器12等構(gòu)成。另外，通常，為了對掩模粘著層14的表面進(jìn)行保護(hù)，要安裝分離片，該分離片在附圖中被省略。
[0043]在將所述防塵薄膜組件安裝于掩?；寤蛘咂毓庠鏁r，會出現(xiàn)防塵膜10，防塵薄膜組件框架11，掩?；蛘咂毓庠?未圖示)，防塵膜接著層13，掩模粘著層14包圍的封閉空間。在防塵薄膜組件沒有安裝于掩?；寤蛘咂毓庠娴臓顟B(tài)下，不會產(chǎn)生所述封閉空間，但是，為了敘述方便，假定存在掩?；寤蛘咂毓庠妫瑢⑺隹臻g定義防塵薄膜組件封閉空間。另外，以防塵薄膜組件框架11作為基準(zhǔn)，將防塵膜接著層13側(cè)作為防塵薄膜組件上部，將掩模粘著層14側(cè)作為防塵薄膜組件下部。
[0044]在以往的防塵薄膜組件中，如圖11表示的那樣，由于設(shè)置使與防塵薄膜組件框架11的防塵膜接著層13的面或者掩模粘著層14的面垂直的二個面貫通的通氣孔15，所以，所述通氣孔15的開口部的大小以及通氣孔15上設(shè)置的過濾器12的大小，會被防塵薄膜組件的高度限制。
[0045]對此，在本發(fā)明的防塵薄膜組件中，如圖2以及圖4表示的那樣，通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部27以及防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部28的至少任一方，向著防塵薄膜組件上部設(shè)置。另外，如圖7表示的那樣，通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部27也可以向著防塵薄膜組件下部設(shè)置。進(jìn)一步，雖然沒有圖示，由于也可以將圖4的防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部28向著防塵薄膜組件下部設(shè)置，所述通氣孔25的開口部的大小以及通氣孔25中設(shè)置的過濾器22的大小，不會被防塵薄膜組件的高度限制。
[0046]因此，在本發(fā)明的防塵薄膜組件中，過濾器22的有效面積，比以往的過濾器大，防塵薄膜組件內(nèi)空間被回路圖案使用，防塵薄膜組件外部被用于掩模處理，所以如使過濾器過大，這些的領(lǐng)域被過濾器占有，有可能發(fā)生運(yùn)用障礙。所以雖然過濾器的有效面積越大效果越大，但是由于在掩模上進(jìn)入另一個領(lǐng)域，所以要綜合考慮使其大小適度。
[0047]圖1，2表示的一實施方式為，防塵薄膜組件框架21上的通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)側(cè)的開口部27被設(shè)置為向著防塵薄膜組件上部的例子。另外，圖3，4表示的另一個實施方式為，防塵薄膜組件框架21上的通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間的外側(cè)的開口部28向著防塵薄膜組件上部設(shè)置的例子。本發(fā)明的防塵薄膜組件，也可以如圖7表示的另一個實施方式那樣，將所述開口部27向著防塵薄膜組件下部設(shè)置。
[0048]向著本發(fā)明的防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的開口部，并非一定要對防塵薄膜組件框架21的防塵膜接著層23的面或者掩模粘著層24的設(shè)置面進(jìn)行平行設(shè)置。但是，沿著開口部的防塵薄膜組件框架21的面和防塵薄膜組件框架21的防塵膜接著層23的面或者掩模粘著層24的設(shè)置面所成的角度越大，由于通氣孔25的開口部的大小以及通氣孔25上設(shè)置的過濾器22的大小被防塵薄膜組件的高度限制，所以以45度以下為優(yōu)選。
[0049]在本發(fā)明的防塵薄膜組件中，通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)側(cè)的開口部27以及防塵薄膜組件封閉空間的外側(cè)的開口部28的兩方也可以都向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置，但是，如考慮制造簡便以及成本，優(yōu)選僅至少任一方被向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置。
[0050]在防塵薄膜組件框架21的邊內(nèi)側(cè)或者邊的外側(cè)形成鼓出部29，用于使本發(fā)明的防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外通氣的通氣孔25優(yōu)選在所述鼓出部29上設(shè)置。另外，其形狀沒有限制，直線狀也可，曲折或者彎曲的形狀也可。但是，在通氣孔25被設(shè)置為直線狀的場合，在制造工程中簡便，但是，由于通氣孔25具有對防塵薄膜組件框架21的形狀以及通氣孔25的開口部的設(shè)置的位置進(jìn)行限制的可能性。因此，通氣孔25的形狀優(yōu)選為曲折或者彎曲的形狀，如果從其制造的簡便來考慮，以曲折的形狀為特別優(yōu)選。在該場合，曲折部為角也可，通過切角加工等使其成平滑曲折也可。另外，曲折部的角度沒有限制。
[0051]防塵薄膜組件框架21的寬比通常要大的場合，可以設(shè)置沒有防塵膜接著層23或者掩模粘著層24的部分，在其設(shè)置通氣孔25的開口部。圖12至圖15，表示了防塵薄膜組件框架21的外側(cè)全周上設(shè)置多個開口部的實施方式。再者，在這樣的實施方式的場合，鼓出部29，可以沿著防塵薄膜組件框架全周設(shè)置。如這樣，由于沒有突出于防塵薄膜組件框架21的部分，光掩模上形成的圖案領(lǐng)域就不會被限制，另外，也沒有對防塵薄膜組件的處理的阻礙，優(yōu)選。
[0052]本發(fā)明的過濾器22的設(shè)置要將通氣孔25的至少一部分塞住，但是，可以設(shè)置為埋入通氣孔25內(nèi)，也可以設(shè)置在通氣孔25外面，將通氣孔25的開口部覆蓋。另外，過濾器22的設(shè)置位置優(yōu)選，將向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的開口部塞住。本發(fā)明的防塵薄膜組件中，由于與向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的開口部與防塵薄膜組件的高度無關(guān)，可以設(shè)置為很大，將所述開口部設(shè)置為將過濾器22塞住，由此過濾器22的有效面積可以很大。
[0053]過濾器22的材質(zhì)以及構(gòu)造沒有限制，可以使用公知的過濾器。例如，樹脂，陶瓷，金屬等的多孔質(zhì)材料構(gòu)成的過濾器以及與纖維狀的材料組合的過濾器等都可以使用。
[0054]在本發(fā)明的防塵薄膜組件中，通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部27優(yōu)選向著防塵薄膜組件上部設(shè)置，過濾器22的設(shè)置優(yōu)選將向所述防塵薄膜組件上部設(shè)置的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部27塞住。這是為了在灰塵等進(jìn)入通氣孔25的場合，不使異物在掩?；寤蛘咂毓庠嫔现苯痈街?。另外，通氣孔25的防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)側(cè)的開口部27向著防塵薄膜組件下部，即向著掩?；寤蛘咂毓庠?zhèn)仍O(shè)置的場合，特別是進(jìn)行EUV曝光，從真空返回大氣壓時，如灰塵等通過通氣孔25侵入，就會被流入的空氣推壓，從而會在掩?；寤蛘咂毓庠娓街木壒省?br>[0055]各防塵薄膜組件構(gòu)成部件的大小可以與通常的防塵薄膜組件，例如半導(dǎo)體集積回路制造中的光刻用防塵薄膜組件以及大型液晶表示裝置制造中的光刻用防塵薄膜組件等同樣，可以根據(jù)需要變更。另外，對各防塵薄膜組件構(gòu)成部件的材質(zhì)，沒有特別的限制，可以使用公知的材料。
[0056]作為防塵膜20的材質(zhì)，沒有特別是限制，但是，優(yōu)選使用在曝光光源的波長中的透過率高，耐光性高之物。例如，以往在準(zhǔn)分子激光中使用的非晶質(zhì)氟聚合物等。非晶質(zhì)氟聚合物的例子，可以例舉CYT0P(旭硝子(株)制商品名)，特氟隆(注冊商標(biāo))，AF(杜邦公司制商品名)等。這些的聚合物，在制作防塵膜時，根據(jù)需要可以在溶媒中溶解來使用，例如可以在氟系溶媒等中適宜溶解。
[0057]另外，將防塵膜20在防塵薄膜組件框架21上繃緊設(shè)置的方法，沒有特別的限制，可以使用公知的方法。
[0058]作為將防塵膜20和防塵薄膜組件框架21結(jié)合用的接著劑，可以使用常用的材料。具體來說，例如，丙烯酸樹脂接著劑，酚醛樹脂接著劑，硅樹脂接著劑，含氟硅接著劑等的氟聚合物等。其中，氟系聚合物為適。作為氟系聚合物，具體可以例舉CYTOP(旭硝子(株)制商品名)等。接著劑，根據(jù)需要用溶媒稀釋，在防塵薄膜組件框架的上端面涂布。該場合的涂布方法，可以采用刷毛涂布，噴涂，自動分布器涂布等。
[0059]將防塵薄膜組件在掩?；迳习惭b的掩模粘著層24可以用兩面粘著帶，硅系粘著劑，丙烯酸系粘著劑等的公知的粘著劑來形成。通常，在防塵薄膜組件框架21的下端面形成掩模粘著層24，進(jìn)一步將分離片(未圖示)可剝離地貼附。
[0060]分離片的材質(zhì)沒有特別的限制，例如，可以使用聚對苯二酸乙烯基酯(PET)，聚四氟乙烯(PTFE)，四氟乙烯.全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)，聚乙烯(PE)，聚碳酸酯(PC)，聚氯代乙烯基(PV C)，聚丙烯(PP)等。另外，根據(jù)掩模粘著層24的粘著力，硅系離型劑以及氟系離型劑等的離型劑也可在分離片的表面上涂布。所述分離片，可以通過改良防塵薄膜組件收納容器或者防塵薄膜組件支持方法等，來將其省略。
[0061]作為本發(fā)明的防塵薄膜組件框架21的基材，只要作為防塵薄膜組件框架，其強(qiáng)度和剛性得以確保，就沒有特別的限制，例如，鋁，鋁合金(J IS5000系，6000系，7000系等)，鐵，鐵系合金，陶瓷(SiC，AlN，A1203等)，陶瓷金屬復(fù)合材料(Al — SiC，Al — A1N，A1 — A1203等)，碳鋼，工具鋼，不銹剛，工程塑料(PE，PA，PEEK等)，碳纖維復(fù)合材料(GFRP，CFRP等)等。其中鋁以及鋁合金在強(qiáng)度，剛性，輕量，成本的面上考慮，為優(yōu)選。
[0062]在防塵薄膜組件框架21的表面上，根據(jù)需要可以進(jìn)行陽極氧化處理，電鍍處理，聚合物涂布，涂裝等的處理。另外，從對曝光光的反射進(jìn)行抑制以及提高異物檢查中的觀察性的觀點，防塵薄膜組件框架21以黑色為優(yōu)選。特別是作為防塵薄膜組件框架21的基材，使用鋁合金的場合，優(yōu)選將其表面用不銹鋼珠，玻璃珠，碳硅石等粗化，進(jìn)一步進(jìn)行黑色氧化膜處理。
[0063]面對防塵薄膜組件框架21的防塵薄膜組件封閉空間的部分，也可以涂布捕捉異物的粘著劑。另外，根據(jù)需要也可以追加各種構(gòu)成部件，另外，只要能滿足作為防塵薄膜組件的機(jī)能，將構(gòu)成部件的一部分除去也可。
[0064]再者，在EUV用防塵薄膜組件的場合，作為防塵薄膜組件框架，可以使用與準(zhǔn)分子激光用防塵薄膜組件同樣的材料。另外，作為防塵膜可以使用具有多孔部的支持部件和該所述多孔部支持的單晶硅的防塵膜。在將單晶硅的防塵膜在防塵薄膜組件框架上繃緊設(shè)置時，可以使用硅樹脂接著劑，特別是以抑制發(fā)生氣體的硅樹脂為好。另一方面，將防塵薄膜組件安裝在曝光原版的粘著層可以使用硅系粘著劑，在該場合以使用抑制發(fā)生氣體的硅樹脂為好。
[0065]另外，過濾器，也可以使用與準(zhǔn)分子激光用防塵薄膜組件同樣的公知的過濾器。樹月旨，陶瓷，金屬等的多孔質(zhì)材料構(gòu)成的過濾器以及與纖維狀的材料的組合過濾器等也可以使用。
[0066]在EUV曝光時，將安裝了防塵薄膜組件的掩?；寤蛘咂毓庠娣湃肫毓庋b置，有必要將曝光裝置內(nèi)吸真空，另外，將曝光原版等從曝光裝置中取出時，相反，要將裝置內(nèi)從真空狀態(tài)還原為大氣壓。此時，防塵薄膜組件和曝光原版等包圍的防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)有空氣流出流入，由于有必要使防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外不產(chǎn)生氣壓差，所以EUV用防塵薄膜組件與以往的準(zhǔn)分子激光用防塵薄膜組件相比，必須確保高的通氣性。因此，通氣孔25的過濾器22設(shè)置側(cè)的開口部要大，從而使過濾器22的有效面積充分大。
[0067]以下，通過實施例以及比較例對本發(fā)明進(jìn)行具體說明。再者，實施例以及比較例中，將“掩?；濉弊鳛椤捌毓庠妗钡睦觼硎褂茫员景l(fā)明對曝光原版全部都可適用。
[0068]〈實施例1>
[0069]實施例1中，首先，準(zhǔn)備外尺寸149mm X 115mm X 2.5mm，內(nèi)尺寸145mm X 11 Imm X2.5mm的鋁合金制防塵薄膜組件框架21。再者，如圖5表示的那樣，在防塵薄膜組件框架21的四角，為了設(shè)置通氣孔25的開口部，要使厚度2_的鼓出部29在防塵薄膜組件框架21的邊內(nèi)側(cè)形成。再者，這些的鼓出部29中，如圖2表示的那樣，在將直徑1mm的開口部27相著防塵薄膜組件上部設(shè)置的同時，進(jìn)一步，通過在防塵薄膜組件框架21的外側(cè)面設(shè)置直徑Imm的開口部28，得到通氣孔25。
[0070]然后，將形成通氣孔25的防塵薄膜組件框架21用純水洗凈，在防塵薄膜組件框架21的下端面將硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)涂布，上端面，將CYTOP接著劑(旭硝子(株)制，CTX—A)涂布。其后，將防塵薄膜組件框架21加熱至1300C，使粘著劑以及接著劑硬化。
[0071]再者，在直徑Ilmm的PTFE過濾器22的外周部。進(jìn)行幅度為0.5mm的粘著劑涂布，設(shè)置PTFE過濾器22(有效過濾器面積78.5mm2)，將在防塵薄膜組件框架21的鼓出部29上設(shè)置的開口部塞住。其后，用CYT0P(旭硝子(株)制，CTX—S)制作厚度為0.28μπι的防塵膜20，在比防塵薄膜組件框架21還大的鋁框貼附。在將所述防塵膜20貼附于防塵薄膜組件框架21的接著層側(cè)貼附的同時，將防塵薄膜組件框架21外側(cè)的多余部分切除，得到實施例1的防塵薄膜組件
[0072]最后，所述防塵薄膜組件貼附于150mmX150mm的掩?；搴螅瑢⒃撗谀；逖b入減壓盒，用10秒進(jìn)行33kPa的減壓。此時，防塵膜20，由于防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差，在中央部有3mm膨脹，但是如原封不動地減壓，防塵膜20的膨起逐漸變小，5分后可以確認(rèn)到膨起消失。
[0073]〈實施例2>
[0074]實施例2，為向著防塵薄膜組件下部設(shè)置通氣孔25的場合。即，首先，準(zhǔn)備與實施例1相同的外尺寸149mmX 115mm X 2.5mm,內(nèi)尺寸145mmX I IlmmX 2.5mm的招合金制防塵薄膜組件框架21，如圖6，圖7表示的那樣，為了在防塵薄膜組件框架21的四角設(shè)置通氣孔25的開口部，形成厚度2mm的鼓出部29。再者，這些的鼓出部29中，如圖7表示的那樣，在將直徑1mm的開口部27向著防塵薄膜組件下部設(shè)置的同時，通過在防塵薄膜組件框架21的外側(cè)面設(shè)置直徑Imm的開口部28，使其作為通氣孔25。
[0075]然后，對上述那樣的通氣孔25形成的防塵薄膜組件框架21，進(jìn)行與實施例1同樣的處理，制作實施例2的防塵薄膜組件。再者，將所述防塵薄膜組件與實施例1同樣，貼附于150mm X 150mm的掩?；迳现?，將所述掩模基板放入減壓盒，與實施例1相同的10秒，33kPa的減壓，得到與向著防塵薄膜組件上部設(shè)置通氣孔25的實施例1的場合相同的結(jié)果。
[0076]〈實施例3>
[0077]實施例3中，準(zhǔn)備與實施例1相比，其高度低，外尺寸149.4m mX 116.6mmX 1.7mm,內(nèi)尺寸145.4mm X 112.6m mX 1.7mm的招合金制防塵薄膜組件框架21。再者，與實施例1同樣，在防塵薄膜組件框架21的四個角，設(shè)置通氣孔25的開口部，使厚度1.7mm的鼓出部29在防塵薄膜組件框架21的邊內(nèi)側(cè)形成。這些鼓出部29中，設(shè)置向著防塵薄膜組件上部的直徑1mm的開口部27，進(jìn)一步，在防塵薄膜組件框架21的外側(cè)面設(shè)置直徑Imm的開口部28，作為通氣孔25。
[0078]然后，將形成通氣孔25的防塵薄膜組件框架21用純水洗凈，在防塵薄膜組件框架21的下端面進(jìn)行硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)的涂布。其后，將直徑10mm，過濾精度0.3μm的SUS制過濾器22在防塵薄膜組件框架21的鼓出部29形成的通氣孔25內(nèi)設(shè)置。此時，過濾器22的外周部用硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制，KE — 101A/B)密封。
[0079]另外，在防塵薄膜組件框架21的上端面，進(jìn)行硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)的涂布，在由多孔部支持的單晶硅的防塵膜20貼附的同時，將防塵薄膜組件框架21外側(cè)的多余的防塵膜部分除去，得到實施例3的防塵薄膜組件。
[0080]最后，在將所述防塵薄膜組件在150mmX150mm的掩?；迳腺N附后，將所述掩?；宸湃霚p壓盒，徐徐減壓。此時，用不使防塵膜20破裂的減壓速度減壓到IkPa需要10分鐘。
[0081 ]〈實施例4>
[0082]實施例4，如圖8，9表示的那樣，將在防塵薄膜組件框架21的長邊外側(cè)形成的鼓出部29上使通氣孔25的開口部向著防塵薄膜組件上部設(shè)置。即，實施例4中，準(zhǔn)備與實施例3相同的外尺寸149.4mmX 116.6臟X 1.7臟，內(nèi)尺寸145.4mmX 112.6臟X 1.7mm的招合金制防塵薄膜組件框架21，為了在防塵薄膜組件框架21的長邊外側(cè)形成的鼓出部29上，將通氣孔25的開口部設(shè)置，使厚度1.7_的鼓出部29在防塵薄膜組件框架21的長邊外側(cè)形成。在該鼓出部29將長度30mm，幅1mm的開口部27向著防塵薄膜組件上部設(shè)置的同時，進(jìn)一步，在防塵薄膜組件框架21的內(nèi)側(cè)面設(shè)置直徑Imm的開口部28，作為通氣孔25。
[0083]然后，將形成了通氣孔25的防塵薄膜組件框架21用純水洗凈，在防塵薄膜組件框架21的下端面，進(jìn)行硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)的涂布。其后，將縱橫30mm，10mm，過濾精度0.3μπι的SU S制過濾器22在防塵薄膜組件框架21的鼓出部形成的通氣孔25內(nèi)設(shè)置。此時，過濾器22的外周部用硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制，KE — 101Α/Β)封閉。
[0084]再者，在在防塵薄膜組件框架21的上端面涂布硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)，在將由多孔部支持的單晶硅的防塵膜20貼附的同時，將防塵薄膜組件框架21外側(cè)的部分除去，得到實施例4的防塵薄膜組件。
[0085]最后，在所述防塵薄膜組件在150mmX150mm的掩?；迳腺N附后，將該掩模基板放入減壓盒，徐徐減壓。此時，在以不使防塵膜20破裂的減壓速度減壓到IkPa需要5分鐘。
[0086]〈實施例5>
[0087]實施例5，為將鼓出部29在沿著防塵薄膜組件框架的內(nèi)側(cè)全周設(shè)置的場合。實施例5中，準(zhǔn)備外尺寸151mmX 118.5mmX 1.5m m，內(nèi)尺寸143mmX 110.5mmX 1.5mm的超級不脹鋼制防塵薄膜組件框架21。在此，如圖16以及圖17表示的那樣，防塵薄膜組件框架21的內(nèi)側(cè)的部分相當(dāng)于鼓出部29，在此設(shè)置通氣孔25的開口部。即，在防塵薄膜組件框架21中設(shè)置16個向著防塵薄膜組件上部的長度10.2mm，幅度2.7mm的開口部的同時，進(jìn)一步，在防塵薄膜組件框架21的外側(cè)面，對著各開口部各設(shè)置2個直徑0.8mm的開口部，作為通氣孔25。
[0088]然后，將形成了通氣孔25的防塵薄膜組件框架21用純水超聲波洗凈，在防塵薄膜組件框架21的下端面進(jìn)行硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制，X-40 — 3264)的涂布。其后，將縱橫10mm，2.5_，過濾精度0.3μπι的SUS制過濾器22設(shè)置在在防塵薄膜組件框架21的鼓出部29形成的通氣孔25內(nèi)。
[0089]另外，將防塵薄膜組件框架21的上端面，將硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制，KE—101)涂布，貼附作為防塵膜20的聚硅薄膜，制得實施例5的防塵薄膜組件。
[0090]最后，在所述防塵薄膜組件在152mmX152mm的掩?；迳腺N附后，將該掩模基板放入減壓盒，徐徐減壓。此時，在以防塵膜20不破裂的減壓速度減壓至lkPa，需要5分鐘。
[0091]〈比較例1>
[0092]比較例I中，首先，準(zhǔn)備與實施例1相同的外尺寸149mmX 115mm X 2.5mm,內(nèi)尺寸145mmXlllmmX2.5mm的鋁合金制防塵薄膜組件框架。再者，與圖11表示的那樣，設(shè)置4個與防塵薄膜組件框架11的防塵膜接著層13的面或者掩模粘著層14的設(shè)置面垂直的二面貫通的，直徑Imm的通氣孔15。
[0093]然后，將形成了所述通氣孔15的防塵薄膜組件框架11用純水洗凈，在防塵薄膜組件框架11的下端面，進(jìn)行硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)的涂布，上端面進(jìn)行CYTOP接著劑(旭硝子(株)制，CTX—A)的涂布。其后，防塵薄膜組件框架11加熱至130 °C，使粘著劑以及接著劑硬化。
[0094]再者，在外尺寸1mm X 2mm的PTFE過濾器12的外周部進(jìn)行幅度的0.5mm的粘著劑的涂布，設(shè)置PTFE過濾器12(有效過濾器面積9mm2)，使防塵薄膜組件框架11的外側(cè)面的開口部18被塞住。其后，用CYT0P(旭硝子(株)制，CTX—S)制作厚度0.28μπι的防塵膜10，將其在比防塵薄膜組件框架11還大的鋁框貼附。在將所述防塵膜10在防塵薄膜組件框架11的接著層側(cè)貼附的同時，將防塵薄膜組件框架11外側(cè)的多余部分除去，制得比較例I的防塵薄膜組件。
[0095]最后，在將所述防塵薄膜組件在150mmX150mm的掩?；迳腺N附后，將該掩?；宸湃霚p壓盒，用10秒鐘減壓至33kPa。此時，防塵膜10，由于防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差，中央部鼓出3_，原封不動地減壓，防塵膜10的膨起徐徐變小，但是為了使膨起完全解消，用了40分鐘。
[0096]〈比較例2>
[0097]比較例2中，首先，準(zhǔn)備與實施例2相同的外尺寸149.4mmX 116.6mmX 1.7mm,內(nèi)尺寸145.4mm X 112.6mm X I.7mm的鋁合金制防塵薄膜組件框架11。再者，與比較例I同樣，設(shè)置4個直徑Imm的通氣孔15，使與防塵薄膜組件框架11的防塵膜接著層13的面或者掩模粘著層14的設(shè)置面垂直的二面貫通。
[0098]然后，將該通氣孔15形成了的防塵薄膜組件框架11用純水洗凈，在防塵薄膜組件框架11的下端面進(jìn)行硅粘著劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)的涂布。其后，設(shè)置直徑1.7mm，過濾精度0.3μπι的SUS制過濾器12，將防塵薄膜組件框架11的外側(cè)面的開口部18塞住。此時，將過濾器12的外周部用硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制，KE — 1IΑ/Β)密封。
[0099]另外，在防塵薄膜組件框架11的上端面，將硅涂布劑(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)涂布，將與實施例2相同的由多孔部支持的單晶硅的防塵膜10貼附的同時，將防塵薄膜組件框架11外側(cè)的多余部分除掉，得到比較例2的防塵薄膜組件。
[0100]最后，在將所述防塵薄膜組件在150mmX150mm的掩模基板上貼附后，將該所述掩?；宸湃霚p壓盒，進(jìn)行減壓。再者，如果用與實施例2同樣的速度減壓，防塵膜10破裂。因此，如用防塵膜10不破的減壓速度減壓，減壓到IkPa需要2小時。
[0101]從以上的結(jié)果得知，本發(fā)明的防塵薄膜組件，由于可以將通氣孔的開口部進(jìn)而過濾器的有效面積做大，將防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外的壓力差快速緩和，可以對防塵膜的破壞等的問題加以抑制。
[0102]符號的說明
[0103]10防塵膜
[0104]11防塵薄膜組件框架
[0105]12過濾器
[0106]13防塵膜接著層
[0107]14掩模粘著層
[0108]15通氣孔
[0109]16防塵薄膜組件封閉空間
[0110]17防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部
[0111]18防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部
[0112]20防塵膜
[0113]21防塵薄膜組件框架
[0114]22過濾器
[0115]23防塵膜接著層
[0116]24掩模粘著層
[0117]25通氣孔
[0118]26防塵薄膜組件封閉空間
[0119]27防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部
[0120]28防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部
[0121]29鼓出部
【主權(quán)項】
1.一種防塵薄膜組件，具有防塵薄膜組件框架，在所述防塵薄膜組件框架上設(shè)置的使防塵薄膜組件封閉空間的內(nèi)外通氣的通氣孔以及在所述通氣孔內(nèi)設(shè)置的將該通氣孔的至少一部分塞住的過濾器，其特征在于:所述通氣孔的在防塵薄膜組件封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部以及防塵薄膜組件封閉空間外側(cè)的開口部中的至少任一個向著防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1的防塵薄膜組件，其特征為在于:所述過濾器將向著所述防塵薄膜組件上部或者防塵薄膜組件下部設(shè)置的所述通氣孔的開口部塞住。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的防塵薄膜組件，其特征在于:所述過濾器將所述通氣孔的封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部或者所述通氣孔的封閉空間外側(cè)的開口部塞住。4.根據(jù)權(quán)利要求3的防塵薄膜組件，其特征在于:所述通氣孔的封閉空間內(nèi)側(cè)的開口部或者所述通氣孔的封閉空間外側(cè)的開口部為向著所述防塵薄膜組件上部設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項的防塵薄膜組件，其特征在于:所述過濾器為在所述通氣孔內(nèi)或者所述通氣孔外設(shè)置的。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5的任一項的防塵薄膜組件，其特征在于:所述通氣孔為曲折或者彎曲。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6的任一項的防塵薄膜組件，其特征在于:所述通氣孔為在所述防塵薄膜組件框架的邊內(nèi)側(cè)或者邊外側(cè)形成的鼓出部設(shè)置的。8.根據(jù)權(quán)利要求7的防塵薄膜組件，其特征在于:所述鼓出部是沿著所述防塵薄膜組件框架全周設(shè)置的。
【文檔編號】G03F1/64GK106019818SQ201610169089
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年3月23日
【發(fā)明人】白崎享
【申請人】信越化學(xué)工業(yè)株式會社