專利名稱：等離子顯示器及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及等離子顯示器及其制造方法。
背景技術：
一般情況下，對于等離子顯示器(Plasma Display Panel以下簡稱“PDP”。)，它是一種對畫面進行顯示的裝置。在由堿石灰(Soda-lime)玻璃構成的前面玻璃和背面玻璃之間形成的間隔壁構成一個單位的單元，然后，將各個單元內(nèi)的氖(Ne)、氦(He)或者是氦氖(Ne+He)作為周期性放電的氣體，并加入少量的氙(Xe)等惰性氣體，通過高頻電壓產(chǎn)生放電。在這種情況下，就會產(chǎn)生真空紫外線(VacuumUltraviolet rays)，從而使在間隔壁之間形成的熒光體發(fā)光，這樣，就可以進行畫面顯示了。等離子顯示器就是這樣一種具有上述結構和特征的畫面顯示裝置。
圖1是依據(jù)現(xiàn)有技術的等離子顯示器的結構示意圖。如圖所示等離子顯示器(PDP)由顯示畫像的前面玻璃基板10和后面玻璃基板20平行結合而成，前后基板間留有一定的縫隙。
在前面玻璃基板10的下方有維持電極對11，12，該電極對由通過一個像素內(nèi)的相互放電維持單元發(fā)光的維持電極11，12，即由透明的ITO(Indium Thin Oxide氧化銦錫)材料形成的透明電極11a，12a和由金屬材料制成的總線電極11b，12b構成。
維持電極對由掃描電極11及維持電極12構成，掃描電極11中主要提供模板注射的注射信號和維持放電的維持信號，維持電極12主要提供維持信號。
維持電極11，12抑制放電電流，上面涂抹有保持電極對間絕緣的電介質層13a，在電介質層13a上涂抹有由氧化鎂(MgO)制成的保護層14，保證電子可以順利釋放出來。
在后面玻璃基板20上，為形成一個以上的放電空間，即條狀(或井狀)的間隔壁21平行排列形成放電單元，在與維持電極11，12交差的部分有多個尋址電極22與間隔壁21平行排列在后面玻璃基板20的上面，尋址電極22可以進行尋址放電，產(chǎn)生真空紫外線。
在上述尋址電極22上面涂抹有下部電介質層13，在下部電介質層13的上面涂抹有釋放尋址放電時顯示畫像所需的可視光線的R，G，B熒光層23。
在前面玻璃基板10和后面玻璃基板20上通過貼涂工序將密封材料玻璃料(Frit Glass)進行可塑化后貼涂抹在基板上后，然后進入排氣工序將板內(nèi)部的不純物質除去。
排氣工序結束后為了提高等離子顯示器的放電時的放電效率將氦(He)，氖(Ne)，氙(Xe)等惰性氣體注入等離子顯示器內(nèi)部(PDP)。
具有上述結構的現(xiàn)有的等離子顯示器的放電過程如下在后面玻璃基板20上的尋址電極22和前面玻璃基板10上的維持電極11，12間發(fā)生尋址放電后，再對選定的單元進行連續(xù)的顯示放電。
在放電時產(chǎn)生的真空紫外線使熒光體放射出可視光線，產(chǎn)生畫像。
現(xiàn)有的等離子顯示器的制造過程大致由制造玻璃基板的步驟；制造前面板的步驟；制造后面板的步驟及組裝步驟構成。等離子顯示器的板制造過程如下。
圖2是依據(jù)現(xiàn)在技術的等離子顯示器的制造工序流程圖。如圖所示，a步驟中在后面玻璃基板的上部20形成具有一定寬度和高度的尋址電極22；b步驟中在尋址電極22上部形成電介質層13b。
c步驟中，在電介質層13b的上部形成白色間隔壁12a；d步驟中在白間隔壁12a的上部形成黑間隔壁21b；e步驟中黑間隔壁21b的上部涂抹上光致抗蝕劑30；f步驟中將形成特定的模板的光掩膜涂抹在光致抗蝕劑30的上部，經(jīng)過光的照射使光致抗蝕劑30硬化，這個過程叫曝光過程。
經(jīng)過曝光過程后，g步驟中通過顯影過程將沒有硬化的光致抗蝕劑洗滌去后；在h步驟中經(jīng)過蝕刻過程形成白間隔壁21a和黑間隔壁21b。
然后進行干燥，塑形后，形成可以防止各放電單元間的串擾(Crosstalk)的白間隔壁21a和黑間隔壁21b。
然后，i步驟中在白間隔壁21a和黑間隔壁21b間形成熒光層，然后經(jīng)過塑形形成后面玻璃基板20。
但是經(jīng)過上述過程制造出的等離子顯示器的黑間隔壁21b結構具有以下缺點。
首先，因為黑間隔壁21b直接暴露在發(fā)射可視光的單元內(nèi)，與白間隔壁相反，黑間隔壁21b吸收可視光，起到了降低發(fā)光效率的負作用。
其次，由普通材料制造成的黑間隔壁21b電介質常數(shù)高，增加了間隔壁的電容(Capacitance)值，從而造成不必要的電力浪費。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是為解決上述問題而提出的，本發(fā)明的目的是提供一種等離子顯示器，它的白間隔壁比黑間隔壁要窄，通過減小暴露在產(chǎn)生可視光的單元內(nèi)的黑間隔壁的大小，減少可視光的吸收，從而最大程度地避免因黑間隔壁引起的發(fā)光效率降低現(xiàn)象的出現(xiàn)。
而且由于減少了電介質常數(shù)大的黑間隔壁的面積，減小了電介質的常數(shù)，從而抑制了電容的增加。這樣可以減少驅動時電容充電用變位電流造成的電力損失，提高驅動的效率。
為了實現(xiàn)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器的制造方法由以下步驟構成在電介質層上涂抹上第1間隔壁材料的步驟；在第1間隔壁上涂抹上第2間隔壁材料的步驟；在第2間隔壁上涂抹上光致抗蝕劑的步驟；利用光致抗蝕劑上的掩膜進行曝光的步驟；對曝光后的模板進行顯影的步驟，對第2間隔壁進行有選擇的蝕刻的第1蝕刻步驟；對第1間隔壁進行有選擇的蝕刻的第2蝕刻步驟及對第2間隔壁進行有選擇的蝕刻的第3蝕刻步驟。
依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器，其特征在于制造黑間隔壁的材料的反射率在50％以下，不具有導電性。
依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器，其特征在于黑間隔壁利用薄膜法形成，形成過程中使用濺射(Sputter)、電子束(E-beam)、化學氣相沉積(CVD)等設備。
依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器，其特征在于在第1，3蝕刻步驟使用種類不同的蝕刻劑(Etchant)。
依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器，其特征在于第1蝕刻步驟可以使用反應性離子蝕刻(Reactive Ion Etching)法。
依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器，其特征在于黑間隔壁上面的寬度比白間隔壁的寬度小10μm。
依據(jù)本發(fā)明，白間隔壁比黑間隔壁要窄，通過減小暴露在產(chǎn)生可視光的單元內(nèi)的黑間隔壁的大小，減少可視光的吸收，從而最大程度地避免因黑間隔壁引起的發(fā)光效率降低現(xiàn)象的出現(xiàn)。
而且由于減少了電介質常數(shù)大的黑間隔壁的面積，減小了電介質的常數(shù)，從而抑制了電容的增加。這樣可以減少驅動時電容充電用變位電流造成的電力損失，提高驅動的效率。


圖1是依據(jù)現(xiàn)有技術的等離子顯示器的結構示意圖；圖2是依據(jù)現(xiàn)在技術的等離子顯示器的制造工序流程圖；圖3是依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器制造工序流程圖。
具體實施例方式
為進一步說明本發(fā)明的上述目的、結構特點和效果，以下將結合附圖對本發(fā)明進行詳細的描述。
下面將參照附圖對本發(fā)明的實施例進行詳細說明。
圖3是依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器制造工序流程圖。如圖所示，形成白間隔壁21a和黑間隔壁21b的工序如下。a步驟中在后面玻璃基板的上部20形成具有一定寬度和高度的尋址電極22；b步驟中在尋址電極22上部形成電介質層13b。
c步驟中，在電介質層13b的上部形成白色間隔壁12a；白間隔壁12a的材質要與黑間隔壁21b的材質具有不同的蝕刻率。
d步驟中在白間隔壁21a的上部形成黑間隔壁21b，制造黑間隔壁的材料的反射率在50％以下，并且不具有導電性。
黑間隔壁利用薄膜法形成，形成過程中使用濺射(Sputter)、電子束(E-beam)、化學氣相沉積(CVD)等設備。
e步驟中黑間隔壁21b的上部涂抹上光致抗蝕劑30；f步驟中將形成特定模板的光掩膜涂抹在光致抗蝕劑30的上部，經(jīng)過光的照射使光致抗蝕劑30硬化，這個過程叫曝光過程。經(jīng)過曝光過程后，g步驟中通過顯影過程將沒有硬化的光致抗蝕劑洗滌去后；在h步驟中利用蝕刻劑，只對黑間隔壁21b進行蝕刻。
第1蝕刻步驟可以使用反應性離子蝕刻(Reactive Ion Etching)法。
i步驟為第2蝕刻步驟，使用與第1蝕刻步驟不同的蝕刻劑只對白間隔壁21a進行蝕刻。
J步驟為第3蝕刻步驟，為了將黑間隔壁21b的上面寬度制造成比白間隔壁21a上面的寬度小，使用與第1蝕刻步驟中相同的蝕刻劑只對黑間隔壁21b進行蝕刻。
這時使用的是濕式蝕刻，理由是濕式蝕刻在不同的材料同時存在時，可以比較容易選擇與蝕刻劑成份和條件相吻合的材料，從而只選擇需要蝕刻的材料進行蝕刻。
通過第1、2、3蝕刻步驟，黑間隔壁21b上面的寬度比白間隔壁21a的寬度小10μm。
然后進行干燥，塑形后，形成可以防止各放電單元間的串擾(Crosstalk)的白間隔壁21a和黑間隔壁21b。
依據(jù)現(xiàn)有技術制造的等離子顯示器具有以下缺點首先，因為黑間隔壁21b直接暴露在發(fā)射可視光的單元內(nèi)，與白間隔壁相反，黑間隔壁21b吸收可視光，起到了降低發(fā)光效率的負作用。
其次，由普通材質的黑間隔壁21b電介質常數(shù)高，增加了間隔壁的電容值，從而造成不必要的電力浪費。
但是，依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器的白間隔壁比黑間隔壁要窄，通過減小暴露在產(chǎn)生可視光的單元內(nèi)的黑間隔壁21b的大小，減少可視光的吸收，從而最大程度地避免因黑間隔壁21b引起的發(fā)光效率降低現(xiàn)象的出現(xiàn)。
而且由于減少了電介質常數(shù)大的黑間隔壁的面積，減小了電介質的常數(shù)，從而抑制了電容的增加。這樣可以減少驅動時電容充電用變位電流造成的電力損失，提高驅動的效率。
本發(fā)明所屬技術領域的技術人員完全可以在不偏離本項發(fā)明技術思想和必要特點，對本發(fā)明的實施例進行其它具體形式的變更。
因此，以上所述的實施例是在所有方面以示例的目的而展開，并沒有局限性，比起上述詳細說明，本發(fā)明的范圍更體現(xiàn)在下述的權利要求范圍，權利要求范圍的思想和范圍及其等價概念導出的所有變更或變化的形式應屬于本發(fā)明的范圍。
權利要求
1.一種在后面玻璃基板上涂抹有電介質的等離子顯示器的制造方法，包括在電介質層上涂抹上第一間隔壁材料的步驟；在第一間隔壁上涂抹上第二間隔壁材料的步驟；在第二間隔壁上涂抹上光致抗蝕劑的步驟；利用光致抗蝕劑上的掩膜進行曝光的步驟；對曝光后的模板進行顯影的步驟，對第二間隔壁進行有選擇的蝕刻的第一蝕刻步驟；對第二間隔壁進行有選擇的蝕刻的第二蝕刻步驟；對第二間隔壁進行有選擇的蝕刻的第三蝕刻步驟。
2.如權利要求1所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于第一間隔壁為白間隔壁，第二間隔壁為黑間隔壁。
3.如權利要求2所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的黑間隔壁制造材料的反射率低于50％。
4.如權利要求2所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的黑間隔壁制造材料不具有導電性。
5.如權利要求2所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的黑間隔壁利用薄膜法形成。
6.如權利要求5所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的薄膜法包括使用濺射、電子束、化學氣相沉積。
7.如權利要求1所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于在所述的第一，三蝕刻步驟使用種類不同的蝕刻劑。
8.如權利要求2所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的第一蝕刻步驟可以使用反應性離子蝕刻法。
9.如權利要求2所述的等離子顯示器的制造方法，其特征在于所述的黑間隔壁上面的寬度比白間隔壁上面的寬度小10μm。
全文摘要
本發(fā)明涉及等離子顯示器及其制造方法，在其后面玻璃基板上涂抹有電介質。其制造方法，包括步驟在電介質層上涂抹上第一間隔壁材料；在第一間隔壁上涂抹上第二間隔壁材料；在第二間隔壁上涂抹上光致抗蝕劑；利用光致抗蝕劑上的掩膜進行曝光的模板進行顯影，對第一、二間隔壁分別進行有選擇的蝕刻。依據(jù)本發(fā)明，白間隔壁比黑間隔壁要窄，通過減小暴露在產(chǎn)生可視光的單元內(nèi)的黑間隔壁，最大程度地減少可視光的吸收，從而有效地避免因黑間隔壁引起的發(fā)光效率降低。而且，由于減少了電介質常數(shù)大的黑間隔壁的面積，減小了電介質的常數(shù)，抑制了電容的增加。這樣可以減少驅動時的電容充電用變位電流造成的電力損失，提高驅動效率。
文檔編號H01J17/49GK1979717SQ20051012285
公開日2007年6月13日 申請日期2005年12月6日 優(yōu)先權日2005年12月6日
發(fā)明者李勇翰 申請人:樂金電子(南京)等離子有限公司