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      一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入的制造方法

      文檔序號:2855118閱讀:430來源:國知局
      一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入的制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī),包括晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體,所述晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體三者依次互連,所述傳送腔體為長方形腔體,在所述傳送腔體底部設(shè)有兩個機(jī)械手臂,在所述傳送腔體底部平滑板上設(shè)有金屬板,所述金屬板上設(shè)有多個通孔。在所述傳送腔的腔體底部除機(jī)械手臂外的平滑板上裝上帶有通孔的金屬板,在有害微粒移動的過程中,有害微粒容易掉進(jìn)帶有通孔的金屬板的通孔中,而不至于滑動到晶圓上,能有效降低離子注入機(jī)中有害微粒,減少葡萄球狀缺陷的產(chǎn)生,同時也降低設(shè)備工程師的負(fù)擔(dān),機(jī)臺維護(hù)保養(yǎng)周期拉長,生產(chǎn)效率得到顯著提高。
      【專利說明】—種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種離子注入機(jī),尤其涉及一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]晶圓在離子注入去完光阻后,會遺留葡萄球狀的細(xì)小微粒,經(jīng)檢查它產(chǎn)生的根源是在離子注入過程中,有大尺寸的微粒掉落在晶圓表面形成,而這種微粒在去光阻過程中不能被完全清除。大尺寸的微粒主要是由離子注入機(jī)離子束運(yùn)動通道內(nèi)的石墨板產(chǎn)生,它被離子束帶到制程腔體和傳送腔體,最后會在晶圓裝載腔體大量積累,隨著裝載腔體的充、抽氣,這種微粒會掉在晶圓表面,最后造成晶圓產(chǎn)生葡萄球狀的缺陷。產(chǎn)品在離子注入過程中會產(chǎn)生葡萄球狀的缺陷,為了減少這種缺陷,設(shè)備工程師每次在離子注入機(jī)保養(yǎng)過程中,必須花費(fèi)較多的時間來清潔制程腔體、傳送腔體及晶圓裝載腔體,而這種維護(hù)保養(yǎng)需要每兩周進(jìn)行一次,離子注入機(jī)的微粒數(shù)量曲線圖顯示,微粒數(shù)量一直徘徊在控制線附近,勢必會造成注入機(jī)生產(chǎn)效率的降低。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)。
      [0004]本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下:包括晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體,所述晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體三者依次互連,所述傳送腔體為長方形腔體,在所述傳送腔體底部設(shè)有兩個機(jī)械手臂,在所述傳送腔體底部平滑板上設(shè)有金屬板,所述金屬板上設(shè)有多個通孔。
      [0005]本發(fā)明的有益效果是:在所述傳送腔體底部平滑板上裝上帶有通孔的金屬板,在有害微粒移動的過程中,有害微粒容易掉進(jìn)帶有通孔的金屬板的通孔中,而不至于滑動到晶圓上,能有效降低離子注入機(jī)中有害微粒,產(chǎn)品葡萄球狀缺陷的到有效控制,同時也降低設(shè)備工程師的負(fù)擔(dān),機(jī)臺維護(hù)保養(yǎng)周期拉長;另外離子注入機(jī)維護(hù)保養(yǎng)耗費(fèi)時間縮短,生產(chǎn)效率得到顯著提高。
      [0006]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本發(fā)明還可以做如下改進(jìn)。
      [0007]進(jìn)一步,所述帶有通孔的金屬板的材質(zhì)與所述離子注入機(jī)的傳送腔體材質(zhì)相同。
      [0008]采用上述進(jìn)一步方案的有益效果是:所述帶有通孔的金屬板的材質(zhì)與所述離子注入機(jī)的傳送腔體材質(zhì)相同,防止產(chǎn)生金屬污染。
      [0009]進(jìn)一步,所述帶有通孔的金屬板的厚度為20mm,所述帶有通孔的金屬板中的通孔直徑為5mm,兩個通孔之間的間距為3mm。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0010]圖1為本發(fā)明一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)的傳送腔體的結(jié)構(gòu)示意圖;[0011]圖2為本發(fā)明一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)的傳送腔體的底部的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0012]圖3為本發(fā)明一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)的傳送腔中帶有通孔金屬板的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0013]附圖中,各標(biāo)號所代表的部件列表如下:
      [0014]1、傳送腔體,2、機(jī)械手臂,3、金屬板。
      【具體實施方式】
      [0015]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述,所舉實例只用于解釋本發(fā)明,并非用于限定本發(fā)明的范圍。
      [0016]如圖1、圖2所示,一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī),包括傳送腔體1,所述傳送腔體I為長方形腔體,在所述傳送腔體I的底部設(shè)有兩個機(jī)械手臂2,在所述傳送腔體I底部平滑板上設(shè)有金屬板3,所述金屬板3上設(shè)有多個通孔。
      [0017]圖3為本發(fā)明一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)的傳送腔體中帶有通孔金屬板的結(jié)構(gòu)示意圖,所述帶有通孔的金屬板3的材質(zhì)與所述離子注入機(jī)的傳送腔體I的材質(zhì)相同。所述帶有通孔的金屬板3的厚度為20_,所述帶有通孔的金屬板3中的通孔直徑為5mm,兩個通孔之間的間距為3mm。
      [0018]在本發(fā)明一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī)正常工作時,首先晶圓由晶圓預(yù)裝載腔體進(jìn)入,然后進(jìn)入傳送腔體I中,經(jīng)由傳送腔體I中的機(jī)械手臂2傳送至制程腔體進(jìn)行離子注入。當(dāng)晶圓經(jīng)過傳送腔體I中時,晶圓上的有害顆粒會掉落在傳送腔體I底部的金屬板3上的通孔中,不讓其在傳送腔體I中移動,從而得到有效固定,能有效減少晶圓上葡萄球球狀缺陷的產(chǎn)生。
      [0019]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī),包括晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體,所述晶圓預(yù)裝載腔體、傳送腔體、制程腔體三者依次互連,所述傳送腔體為長方形腔體,在所述傳送腔體底部設(shè)有兩個機(jī)械手臂,其特征在于:在所述傳送腔體底部平滑板上設(shè)有金屬板,所述金屬板上設(shè)有多個通孔。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī),其特征在于:所述帶有通孔的金屬板的材質(zhì)與所述離子注入機(jī)的傳送腔體材質(zhì)相同。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種減少晶圓葡萄球狀缺陷的離子注入機(jī),其特征在于:所述帶有通孔的金屬板的厚度為20_,所述帶有通孔的金屬板中的通孔直徑為5_,兩個通孔之間的間距為3mm。
      【文檔編號】H01J37/317GK103474319SQ201310415543
      【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月12日
      【發(fā)明者】陶濤, 張全飛, 張偉光, 李冠男, 彭侃 申請人:武漢新芯集成電路制造有限公司
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