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      包含消氣劑的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器及其制造工藝的制作方法

      文檔序號(hào):2962218閱讀:244來(lái)源:國(guó)知局

      專利名稱::包含消氣劑的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器及其制造工藝的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      :本發(fā)明涉及一種具有內(nèi)部真空空間的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器。這種顯示器經(jīng)常被稱作FEDS(場(chǎng)發(fā)射顯示器),它屬于平面控制板顯示器(FPDS)大類。所述的FEDS,正像大家所熟知的,除了一組微陰極外,還包括一些電引線和大量熒光粉。詳細(xì)地說(shuō),一個(gè)FED包括大量用來(lái)發(fā)射電子的尖狀微陰極(微尖)和大量網(wǎng)狀電極,電極放在離所述陰極很近的位置,以產(chǎn)生一個(gè)很高的電場(chǎng);在陰極和熒光粉之間是一個(gè)真空空間,在某些情況下,它有幾十微米到幾百微米厚。陰極也可以是一個(gè)菱形發(fā)射極。由于消氣材料的存在,真空空間的真空度通常保持在10-5mbar以下。就像HenryF.Gray在“信息顯示”(3/93,P11)中所描述的一樣,有時(shí)微陰極的尖端,網(wǎng)狀電極和熒光粉被調(diào)整在同一個(gè)平面上。專利文獻(xiàn)EP-A-0443865描述了一種制備FED的工藝,其中用來(lái)支撐微陰極,同時(shí)還可能用來(lái)支撐網(wǎng)狀電極和附屬的加速陽(yáng)極的非導(dǎo)電襯底,例如石英,在其獨(dú)立于陰極和其它電極的部分被覆上一薄層基于鋇的蒸發(fā)性的消氣劑合金,例如BaAl4。然而這樣獲得的FEDS,表現(xiàn)出了一些缺點(diǎn);實(shí)際上,為了使這種消氣劑起作用需要起激活作用的熱處理(>800℃),它通常用由FED外部的感應(yīng)線圈發(fā)射的無(wú)線電頻率來(lái)實(shí)現(xiàn),當(dāng)使用的是一種蒸發(fā)性消氣劑材料,熱處理會(huì)在FED內(nèi)表面確定的局部區(qū)域上沉淀一層金屬膜(例如鋇,一種最常用的蒸發(fā)性消氣劑)。因?yàn)殇^是一種電的良導(dǎo)體,它的淀積,特別是在像FEDS這么小的空間內(nèi),可能會(huì)造成短路或者絕緣表面的電擊穿。更進(jìn)一步說(shuō),所說(shuō)熱處理可能會(huì)導(dǎo)致局部熱沖擊而嚴(yán)重?fù)p傷FEDS的機(jī)械阻力。通常,這很小的空間阻礙了有足夠氣體吸收能力的消氣劑的插入。過(guò)去,有人建議在顯示器上加一個(gè)附加物或“尾巴”C,如圖6所示,用來(lái)容納消氣劑G而不影響微尖MT和屏幕SCH之間的真空空間的厚度。然而,這樣一種技術(shù)極大地增加了顯示器的厚度從而增大了顯示器的體積。所說(shuō)的不便和所說(shuō)的附加物在根據(jù)本發(fā)明制造的顯示器中都不存在了,如圖7示意。最近,專利申請(qǐng)EP-A一572170提出用另外一些屬于非蒸發(fā)性消氣劑(NEG)類的特殊消氣劑,例如鋯,來(lái)替代蒸發(fā)性消氣劑,這種消氣劑最好由,例如微陰極(微尖),來(lái)大量提供。然而,這個(gè)建議也未避免不良結(jié)果;事實(shí)上,假如暴露在氧化性氣體中,那么由于鋇的氧化產(chǎn)物可能會(huì)改變微尖尖端的電子發(fā)射。另一個(gè)缺點(diǎn)是由于制造微尖時(shí)的困難而引起,這種微尖通常是通過(guò)對(duì)預(yù)成形層的化學(xué)腐蝕形成。事實(shí)上,這種技術(shù)在微尖上留下了雜質(zhì),從而失去了大部分消氣能力。最后,如上面提及的,當(dāng)微尖用作消氣劑時(shí)產(chǎn)生的微尖的氧化改變了微尖的電子發(fā)射特性。因此,本發(fā)明的目的是提供一種至少能克服上述現(xiàn)有技術(shù)缺點(diǎn)之一的FED。本發(fā)明的另外目的是減少消氣劑材料或其他材料在FEDS內(nèi)部不希望的區(qū)域上的淀積,并將消氣劑集中到FEDS的有限空間中去,從而同時(shí)也使制造變得容易。根據(jù)接下來(lái)的描述,另外的目的將會(huì)變得清楚。由于本發(fā)明,申請(qǐng)人已經(jīng)成功地克服了上述缺點(diǎn)。所述發(fā)明,包括一個(gè)內(nèi)部存在真空空間的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器,真空空間中包含有a)一層活性(excitable)熒光粉和在高電場(chǎng)作用下發(fā)射電子的大量微陰極;b)大量電引線和一個(gè)真空穩(wěn)定器,其特征在于所說(shuō)的真空穩(wěn)定器基本上是由非揮發(fā)性消氣材料的多孔被支撐層組成,有20到180μm(更佳值20到150)厚,所述的層被放置在一個(gè)基本上是獨(dú)立于微陰極,熒光粉和引線的區(qū)域內(nèi)。直到現(xiàn)在,在FEDS的領(lǐng)域內(nèi)關(guān)于如何選擇消氣劑材料和如何制造FEDS的問(wèn)題還沒(méi)有明確的解決辦法;更確切地說(shuō),考慮到正常工作所必需的真空的生產(chǎn)和保持,F(xiàn)EDS的特殊特性提出了緊迫而又細(xì)致的關(guān)于大小、質(zhì)量和制造的方便等問(wèn)題。根據(jù)本發(fā)明的顯示器是一個(gè)成功的選擇,它極其令人滿意地解決了上面提及的問(wèn)題。如圖7所示,根據(jù)本發(fā)明的FED的內(nèi)部空間被很好地限定,它是用兩塊基本上平行的、用絕緣材料制成的薄板,沿著周邊密封起來(lái),中間用厚度為幾十或幾百到幾千微米的高真空空間隔開(kāi)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。第一塊板(SCH)上附著熒光粉,第二塊板(S)支撐著(例如用鉬制成的)微陰極,可能還支撐著(例如用鈮制成的)網(wǎng)狀電極,及一層或多層非蒸發(fā)性消氣劑材料的多孔狀層。這樣的層被放在所說(shuō)兩個(gè)薄板之間,這樣這些層(或薄帶)就成為顯示器(FED)的一個(gè)完整部分。出現(xiàn)在本發(fā)明的顯示器中的被支撐著的多孔狀層,是用在一定的條件下有很低的激活(activation)溫度(≤500℃甚至≤450℃)的消氣劑材料制成,該多孔狀層可以用不同的方法在薄的金屬或非金屬的襯底上得到,根據(jù)本發(fā)明,它可能還有一個(gè)進(jìn)行較長(zhǎng)的熱壓處理的優(yōu)點(diǎn);所說(shuō)的處理增強(qiáng)了所說(shuō)的消氣劑材料,從而防止它散出對(duì)上述目的極其有害的微粒。特別適合本發(fā)明目標(biāo)的消氣劑材料是由下列成份通過(guò)燒結(jié)組成A)鋯和/或鈦和/或釷和/或相關(guān)的氫化物和/或它們的組合物;B)基于鋯和/或鈦的消氣劑合金可以從如下組合中選擇i)根據(jù)USP3.203.901的Zr-Al合金和/或根據(jù)USP4.071.335和USP4.306.887的Zr-Ni和Zr-Fe合金;ii)根據(jù)USP4.69.624的Zr-M1-M2合金(其中M1從V和Nb中選,M2從Fe和Ni中選)和根據(jù)USP4.907.948的Zr-Ti-Fe合金。iii)包含鋯和釩的合金,根據(jù)EP-A-93/830411,特別是Zr-V-Fe合金。iv)它們的組合物。由申請(qǐng)人制造并出售的、為大家所熟知的復(fù)合物(Compositions)St121和/或St122,基本上由下列兩組成分組成H)鈦的氫化物;k)消氣劑合金從下列合金中選擇a)根據(jù)前面B/i)項(xiàng)中所述的Zr-Al合金,特別是按重量包含84%鋯的合金(St121)b)根據(jù)前面B/iii)項(xiàng)中所述的Zr-V或Zr-V-Fe合金(用于St122);C)它們的組合物,證明對(duì)上述目標(biāo)特別有利。根據(jù)本發(fā)明的顯示器可以用不同的方法獲得。根據(jù)一個(gè)典型的實(shí)施例,所述顯示器可用下列過(guò)程得到a)所述的多孔狀層通過(guò)在襯底上淀積一種非蒸發(fā)性消氣材料并在一個(gè)合適的真空爐中燒結(jié)淀積的材料而得到。b)這樣獲得的支撐層與顯示器另外的內(nèi)部部件一起被置于所述的內(nèi)部空間中。c)將所述的內(nèi)部空間用真空泵抽空并在抽氣過(guò)程中將四周密封起來(lái);其特征是在所述襯底上淀積所述消氣材料是通過(guò)電泳現(xiàn)象或通過(guò)人工或機(jī)械方法,更好的是通過(guò)噴涂在懸浮裝置(Suspendingmeans)中的所述消氣材料顆粒的懸浮物來(lái)實(shí)現(xiàn)的。機(jī)械的方法不同于噴涂法,例如所述懸浮物(Suspension)的擴(kuò)散可以用一個(gè)或多個(gè)控制板,或者利用一種帶有刮口的擴(kuò)散設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)。關(guān)于電泳方法請(qǐng)參考以前的專利GB-B-2.157.486和EP-B-0275844。此專利已經(jīng)授與給專利申請(qǐng)者。為了使顯示器的內(nèi)部空間很好密封,通常在抽真空的情況下進(jìn)行玻璃料焊接,在此之前需要有一從內(nèi)部空間和周圍壁的高排氣過(guò)程,當(dāng)然也是在抽真空的條件下進(jìn)行的。玻璃料焊接和排氣過(guò)程都是在高溫下進(jìn)行的,該高溫能被利用來(lái)完成消氣材料必需的熱激活(thermalactivation)(沒(méi)有熱激活消氣劑不可能完成其功能);所有這些不需用令人討厭的單獨(dú)的熱激活實(shí)現(xiàn),例如過(guò)去使用的感應(yīng)線圈。順便說(shuō)一下,應(yīng)當(dāng)注意,這種可能是歸功于專利申請(qǐng)人所選的特有的具有低激活溫度的消氣材料。前述工藝的一種更可取的實(shí)施例可提供用來(lái)準(zhǔn)備非蒸發(fā)消氣材料的多孔被支撐層,它包括下述步驟a)在懸浮裝置上準(zhǔn)備一種非蒸發(fā)消氣材料的懸浮物;b)用所述懸浮物覆蓋襯底并采用噴涂技術(shù)。c)燒結(jié)。上述的微粒最好用下列顆粒混合而成H)鈦氫化物微粒,平均大小在1~10(最好在3~5)μm之間,表面積為1~8.5(最好取7~8)m2/g;K)消氣劑合金微粒,平均大小為5~15(最好取8~10)μm,表面積為0.5~2.5m2/g;這里所說(shuō)的消氣劑合金在Zr-Al合金、Zr-V-Fe合金以及它們的組合物中選擇。這里所述的H微粒和K微粒的重量比為1∶10到10∶1,最好采用1∶1到3∶1。通過(guò)使用具有前面所述大小和表面積的消氣材料的粉末,可以肯定對(duì)FEDS制造過(guò)程中及其整個(gè)使用壽命中發(fā)出的氣體有很強(qiáng)的吸附能力。這里所說(shuō)的氣體一般指H2和含氧氣體(例如CO,CO2,H2O,O2),這些氣體對(duì)微陰極尖端是非常有害的;對(duì)于CO氣體來(lái)說(shuō),消氣材料的吸氣能力大約可以達(dá)到0.5×10-3mbar×L/cm2。在前述專利GB-B-2.157.486中提到的分散裝置或者其它的一些類似裝置可能可以用作懸浮裝置。多孔的消氣層可被金屬襯底、導(dǎo)電的非金屬襯底(如硅)或者絕緣襯底支撐。在金屬襯底的情況下,其厚度通常很薄,例如只有5~50μm厚;而且如專利EP-B-0275844中所說(shuō)襯底可能是單金屬的或者是多金屬的。專利EP-B-0274844中一個(gè)金屬襯底的例子,正是一層由鈦、鉬、鋯、鎳、鉻鎳合金或鐵基合金組成,也可能與一層鋁結(jié)合在一起;這種襯底最好是一薄的帶狀,并且上面包含有許多各種形狀的孔或窄縫,如圓的,四邊形的,正方形的,多邊形的,橢圓形的,圓裂形的等等。另外一種特別的襯底是一種基于鐵和錳的非磁性合金,如在專利E-A-0577898中所介紹。如果襯底基本上是絕緣的或者是非金屬的,NEG的懸浮物可以直接淀積在這樣的絕緣或者非金屬襯底上,或者,完全類似于前面所述的金屬襯底,一層單一金屬或多金屬固定層可以插入到它們之間。按照另外一種方法,NEG的懸浮物可以單獨(dú)地沉積在金屬條上,而金屬條可以機(jī)械地位于絕緣襯底的微型槽中。為了進(jìn)行噴涂,采用“多周期”技術(shù)是比較有利的。這種技術(shù)是這樣的先在非常短時(shí)間內(nèi)噴射懸浮物到表面上,例如在幾秒內(nèi)或甚至少于1秒內(nèi),然后中斷噴射,中斷的時(shí)間長(zhǎng)于前面的噴射時(shí)間,大約有10~50秒,以讓揮發(fā)性液體蒸發(fā)掉,然后再重復(fù)噴射步驟、蒸發(fā)步驟……等等,直到滿足要求為止。這種多步噴涂工藝可以用單個(gè)噴嘴來(lái)實(shí)現(xiàn),也可以用單步噴嘴來(lái)替代實(shí)現(xiàn),這些噴嘴以適當(dāng)?shù)拈g隔放在運(yùn)動(dòng)的支撐條上。第二種替代方法使用固定窄帶噴射方法,它是利用一系列均勻運(yùn)動(dòng)的噴射嘴來(lái)實(shí)現(xiàn)的。在每一周期內(nèi)使用的懸浮物可以是相同的或者相互不同,在一些情況下,可以是在一個(gè)或多個(gè)周期內(nèi)只使用A微粒(或者H,例如鈦氫化物)然后在接下來(lái)的一個(gè)或多個(gè)周期內(nèi)只使用B微粒(或者K,例如Zr-V-Fe合金中的Zr-V),另一種情況,也可以使用兩種逐漸變化濃度的微粒。這樣就有利于獲得由具有相同或不同成分的初步交疊層組成的消氣層。那些在襯底一側(cè)有一層或多層僅僅由鈦微粒組成的一組基本層被證明是非常有利于附著在襯底上。在噴涂淀積結(jié)束時(shí),隨后被鍍襯底用合適的溫度空氣加熱,例如70~80℃,從而使之干燥。隨后進(jìn)行真空燒結(jié)處理,條件是低于10-5mbar,溫度在650~1200℃之間。這里“燒結(jié)”指的是消氣材料層的熱處理過(guò)程,即在一定的溫度下和足夠的時(shí)間內(nèi)使得相鄰微粒之間進(jìn)行物質(zhì)傳送而并不過(guò)分減少消氣材料的表面面積。所述的這種物質(zhì)傳送把各種微粒都束縛在一起,增加消氣層的機(jī)械強(qiáng)度,并且使微粒粘附于支撐層;這種過(guò)程在較低溫下需要較長(zhǎng)時(shí)間。按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,溫度是這樣選擇的等于或稍稍高于H成份的燒結(jié)溫度,稍低于K成分的燒結(jié)溫度。在本說(shuō)明書(shū)中,用來(lái)描述其中一個(gè)可能的襯底的術(shù)語(yǔ)“絕緣”指的是在工作溫度下不導(dǎo)電的任何材料,例如洛派塞拉姆鋼化玻璃,石英玻璃、石英,硅石,通常情況下的耐熔金屬氧化物特別是氧化鋁。下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更為詳細(xì)的但并不僅限于此的描述,其中圖1和2是被支撐的多孔層的顯微照片;圖3是關(guān)于CO吸附測(cè)試結(jié)果的報(bào)告圖;圖4是鍍有厚度為d的薄消氣帶的FED絕緣襯底(“背面板”)的透視圖。消氣帶由一個(gè)薄的固定的帶層支撐,這個(gè)帶沒(méi)有在圖上畫(huà)出,圖中也沒(méi)有表示出微陰極(微尖)。圖5是鍍著兩條帶而非一條的另一“背面板”的透視圖。圖6是帶有一個(gè)″尾巴″的根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的FED的橫截面圖。圖7是本發(fā)明FED的簡(jiǎn)單的橫截面圖?,F(xiàn)在參見(jiàn)圖1,圖1是根據(jù)實(shí)施例1獲得的層的可見(jiàn)表面部分放大1000倍后的顯微照片,它清楚地顯示出樣品中高的多孔性(highporosity)和好的燒結(jié)水平。圖2,是與實(shí)施例1相同層的橫截面的一部分的(圖4中的A-A截面)放大1860倍的顯微照片(通過(guò)背散射分析),該圖顯示出,消氣層不僅有很好的多孔性,而且能很好地固定在Ni-Cr襯底上,有令人滿意的被燒結(jié)的混合成分的分布一致性。圖3是關(guān)于根據(jù)實(shí)施例1獲得樣品的CO吸附測(cè)試結(jié)果的圖示,有關(guān)X軸(Q)、Y軸(G)的含義參照以前的國(guó)際專利申請(qǐng)WO94/02957,所不同的是,在這一例子中是關(guān)于每cm2暴露表面的吸附能力。詳細(xì)地說(shuō),應(yīng)當(dāng)注意,根據(jù)本發(fā)明和實(shí)施例1提供的樣品顯示出-CO初始的吸附速率G1大約等于3l/s×cm2;-當(dāng)速率G減少到0.1l/s×cm2時(shí),吸附CO的質(zhì)量Q1大約等于0.5×10-3mbar×1/cm2。進(jìn)行吸附測(cè)試所需條件如下-吸附溫度500℃-激活溫度500℃(用10min)-測(cè)試壓力3×10-5mbar。圖4示出了一種沒(méi)有熒光屏幕的場(chǎng)發(fā)射顯示器,其中四邊形的支撐體上有一多孔NEG層的短形條,NEG層的厚度為d,并且與支撐體的某一邊平行。這種多孔消氣條可以用與FED相同制造工藝進(jìn)行熱激活,特別是叫作玻璃料焊接的工序或前排氣的工序,其中溫度可以達(dá)到300~450℃,有關(guān)“玻璃料焊接(fritsealing)”詳細(xì)的說(shuō)明參看意大利專利申請(qǐng)MI93A002422。而且,多孔消氣條可以方便地與一條或多條電引線P連接,這也是為后續(xù)的激活作準(zhǔn)備(如果需要有后續(xù)步驟的話)。圖5顯示的FED與圖4類似,它沒(méi)有畫(huà)出引線,它提供了兩個(gè)相互垂直的消氣條,其中一個(gè)比另一個(gè)長(zhǎng)一些。圖6已經(jīng)在說(shuō)明書(shū)的另一部分闡述過(guò)。圖7是根據(jù)本發(fā)明的場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)的橫截面圖,它沒(méi)有帶“尾巴”,其中絕緣襯底S和多孔NEG層(G)之間隔著金屬固定條NS。下面的實(shí)施例主要是進(jìn)行解釋說(shuō)明,并不在任何方面限制本發(fā)明的思想和使用范圍。在一不空的球形粉碎器的鋼容器中倒入微粒尺寸小于60μm的150g的鈦氫化物和50cc不含礦物質(zhì)的水。經(jīng)過(guò)水的自然蒸發(fā)之后,通過(guò)調(diào)整時(shí)間(大約4個(gè)小時(shí)),粉碎速度和在固定好容器中球的合適數(shù)量和大小后,可以得到顆粒大小小于20μm(平均大小為3~5μm),表面積為8.35m2/g的鈦氫化物粉末。顆粒大小小于53μm的150gSt101合金(84%為Zr,16%為Al),在與粉碎鈦氫化物相同的條件和參數(shù)下進(jìn)行粉碎,獲得的粉末顆粒大小小于30μm(平均大小為8~19μm),表面積為2.06m2/g。然后,在一塑料瓶子里,把70g所述的粉碎過(guò)的鈦化合物和30g所述的被精細(xì)粉碎的St101合金混合在一起。上述比例是構(gòu)成消氣合成材料St121的典型比例。然后再把通過(guò)混合300cc醋酸異丁烯(isobutyacetate),420cc乙醇異丁烯(isobutyalcohol),5.3g珂珞酊脫脂棉(Collodioncotton)(硝化纖維素)得到的150cc的懸浮態(tài)物質(zhì)加入瓶子中,最后把瓶子密封并機(jī)械搖動(dòng)4個(gè)小時(shí)以上。這時(shí)就可以得到一種同質(zhì)懸浮物,假如它被貯存過(guò)一段時(shí)間,那么使用之前還必須再搖動(dòng)大約2個(gè)小時(shí)。這時(shí)通過(guò)一噴涂系統(tǒng)就可以把懸浮物淀積在金屬支撐體的表面,噴射系統(tǒng)由以下幾個(gè)部分組成一個(gè)塑料罐、一個(gè)調(diào)整壓力的針形閥(EFD公司的7803型噴涂閥)和一個(gè)控制單元(EFD公司的7040型閥配件(Valvemate))。本實(shí)施例使用的金屬支撐體由Ni-Cr材料制成,條形,0.05mm厚,4mm寬(在其它測(cè)試中,也用到過(guò)0.02mm厚的支撐塊)。閥門由一個(gè)支點(diǎn)支撐,因此噴嘴遠(yuǎn)離支撐體水平表面30cm,淀積過(guò)程由幾個(gè)步驟(周期)組成,其特點(diǎn)是閥門打開(kāi)大約1秒鐘時(shí)間,使得懸浮物流成為細(xì)滴,然后關(guān)掉閥門大約15秒鐘,這時(shí)懸浮物將能蒸發(fā)。為了加快后面的過(guò)程,通過(guò)用一加熱支撐板使得支撐體保持在30℃左右。淀積的消氣材料的厚度正比于噴射周期數(shù)。把僅僅在一面鍍有St121粉末的樣品放進(jìn)一真空爐中,將其中的壓力減少到低于10-5mbar,溫度升高到大約450℃,并且持續(xù)15分鐘。然后將爐溫升到900℃(燒結(jié)溫度),并持續(xù)30分鐘。最后系統(tǒng)冷卻到室溫,把被鍍的支撐體從爐中取出,燒結(jié)的淀積粉末在金屬支撐體的表面有150~180μm厚。圖1和圖2是從SEM(掃描電鏡照相)分析中得到的燒結(jié)后的消氣材料淀積可視表面的顯微照片。圖1是從實(shí)施例1中獲得的放大1000倍的消氣材料層可視表面部分的顯微照片,圖中很清楚地反映了樣品的高的多孔性和很好的燒結(jié)水平。圖2是本實(shí)施例的相同消氣材料層橫截面部分放大1860倍的顯微照片(圖4中的A-A截面),照片中可看出消氣層不僅有很好的多孔性,而且能夠很好地固定在Ni-Cr襯底上,以及具有令人滿意的燒結(jié)混合成分的分布一致性。圖3(曲線1)報(bào)告了一氧化碳的吸附測(cè)試情況。權(quán)利要求1.一種帶有一內(nèi)部真空空間的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器,其中包括有a)一層活性熒光粉和大量在高電場(chǎng)作用下發(fā)射電子的微陰極(MT);b)一組電引線(P)和一真空穩(wěn)定器(G);其特征是所述真空穩(wěn)定器(G)基本上是由不揮發(fā)消氣材料的被支撐的多孔層組成,多孔層有20到180μm厚(最好為20~150μm),所述層被安置在一個(gè)基本上獨(dú)立于微陰極,熒光粉和引線的區(qū)域中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示器,其特征是所述內(nèi)部空間由兩塊由絕緣材料和(或)非金屬導(dǎo)電材料組成的薄板(SCH,S)來(lái)限定,兩塊板基本上相互平行,沿著周邊被密封,并且被一個(gè)厚度有幾十到幾百微米的高真空空間隔開(kāi),其中第一塊板(SCH)支撐著所述熒光粉,第二塊板(S)除了支撐作為顯示器一個(gè)整體部分的一層或多層所述不揮發(fā)消氣材料的多孔層,還支撐所述微陰極(MT),還可能支撐著產(chǎn)生所述高電場(chǎng)的大量網(wǎng)狀電極。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示器,其特征是所述消氣材料(G)基本上由從下面兩組中選擇得到的微粒的燒結(jié)混合物組成A)鋯和/或鈦和/或釷和/或相關(guān)的氫化物和/或它們的組合;B)基于鋯和/或鈦的消氣合金從下面選擇i)Zr-Al合金和/或Zr-Ni和/或Zr-Fe合金;ii)Zr-M1-M2合金(這里M1從V和Nb中選,M2從Fe和Ni中選擇)和/或Zr-Ti-Fe合金;iii)包含鋯和釩的合金,特別是Zr-V-Fe合金;iv)它們的組合物。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示器,其特征是不揮發(fā)消氣材料的多孔層由一基本上是由單一金屬或多金屬薄條(NS)組成的襯底來(lái)支撐,該襯底最好有5~50μm厚。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示器,其特征是所述條(NS)基本上由從鎳、鈦、鉬、鋯、鎳鉻合金和基于鐵的合金中選出的一種或多種金屬制成。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示器,其特征是所述條(NS)包含有孔或窄縫。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示器,其特征是不揮發(fā)消氣材料(G)的多孔層被支撐在基本上由電絕緣材料組成的襯底或非金屬導(dǎo)電襯底上,該襯底最好是通過(guò)在多孔層與襯底之間插入一單金屬或多金屬的固定層與所述消氣材料(G)隔離,此金屬層與權(quán)利要求4所述的條(NS)完全類似。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示器,其特征是所述絕緣襯底是正方形的、矩形的或至少部分是多邊形的,它支撐著至少一層不揮發(fā)消氣材料(G)的多孔層,所述層至少有一矩形表面,它的邊與襯底的一邊基本平行。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示器,其特征是所述襯底(S)是正方形的或是矩形的,并支撐著兩個(gè)相互垂直的層,這兩層的長(zhǎng)度可相同,也可不同。10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示器,其特征是消氣材料的多孔層是由一系列交疊的有相同或不同成分的初始層組成。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示器,其特征是一層或多層靠近支撐襯底一側(cè)最初的初始層基本上只能由鈦微粒構(gòu)成。12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示器,制造工藝是這樣的a)所述多孔層是通過(guò)在襯底上(Si;NS)淀積不揮發(fā)消氣材料(G),并且通過(guò)在合適的真空爐中燒結(jié)淀積材料而得到的;b)由此所獲支撐層同其它內(nèi)部元件一起被放置在顯示器的所述內(nèi)部空間中;和c)所述內(nèi)部空間是通過(guò)真空泵被抽成真空,并在抽真空的過(guò)程中被密封,其特征是在所述襯底上淀積所述消氣材料是通過(guò)電泳現(xiàn)象或是通過(guò)人工或機(jī)械的方法更好是通過(guò)噴涂在懸浮裝置上的消氣材料微粒的懸浮物來(lái)完成。13.按照權(quán)利要求12所述的工藝,其特征是不揮發(fā)消氣材料(G)的多孔層是通過(guò)將層連接到一條或多條電引線上并通過(guò)利用層本身的電阻率來(lái)進(jìn)行熱激活的。14.按照權(quán)利要求12所述的工藝,其特征是所述內(nèi)部空間是在抽真空的過(guò)程中利用玻璃料焊接操作來(lái)進(jìn)行密封焊接的,并且在此之前需要進(jìn)行排氣操作,當(dāng)然這也是在抽真空的過(guò)程中進(jìn)行的,所述操作都是在高溫下進(jìn)行的,該高溫?zé)峒せ钕麣獠牧稀?5.按照權(quán)利要求12所述的工藝,其特征是被支撐的消氣材料多孔層是這樣獲得的a)在一懸浮裝置中準(zhǔn)備好非揮發(fā)性消氣材料微粒的懸浮物。b)通過(guò)噴涂技術(shù)用所述懸浮物覆蓋支撐襯底。c)燒結(jié)所述的覆蓋層。16.按照權(quán)利要求14所述的工藝,其特征是所述微?;旧鲜怯上铝谐煞纸M成的混合物H)鈦氫化物微粒,平均尺寸在1到15μm(最好是3~5μm)之間,表面積為1~8.5m2/g(最好是7~8m2/g)。k)消氣合金微粒,平均尺寸在5-15μm之間(最好為8~10μm),表面積為0.5~2.5m2/g。這里所述的消氣合金在下列材料中選擇Zr-Al合金,Zr-V合金,Zr-V-Fe合金和它們的組合物,這里H微粒和K微粒之間的重量比為1∶10到10∶11,最好在1∶1到3∶1之間。17.按照權(quán)利要求15所述的工藝,其特征是在預(yù)定的時(shí)間內(nèi)在襯底的表面進(jìn)行一次或多次(周期)噴射,并且在每次噴射之后都有一中斷時(shí)間,這是為了滿足懸浮裝置成分的蒸發(fā),每次中斷時(shí)間都比前頭的噴射時(shí)間長(zhǎng)。18.按照權(quán)利要求17所述的工藝,其特征是每一周期內(nèi)的懸浮物至少是部分相互不同的。19.按照權(quán)利要求18所述的工藝,其特征是在第一個(gè)噴射周期(或頭2~3周期里)里噴射的懸浮物只含有鈦氫化物微粒。全文摘要具有一內(nèi)部真空空間的場(chǎng)發(fā)射平板顯示器,真空空間內(nèi)有a)一層活性熒光粉和大量可在高電場(chǎng)作用下發(fā)射電子的微陰極(MT)b)大量電極引線(P)和一真空穩(wěn)定器(G)。所述真空穩(wěn)定器基本上是由一多孔不揮發(fā)消氣材料的多孔被支撐層組成,有20~180μm厚,放置在一個(gè)基本上獨(dú)立于微陰極、熒光粉和引線的區(qū)域中。文檔編號(hào)H01J9/39GK1136364SQ95190982公開(kāi)日1996年11月20日申請(qǐng)日期1995年2月27日優(yōu)先權(quán)日1994年2月28日發(fā)明者塞吉奧·卡爾拉,克羅蒂奧·博菲托申請(qǐng)人:工程吸氣公司
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