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      用于蒸發(fā)的掩模以及用于制造該掩模的方法和裝置的制作方法

      文檔序號(hào):3176506閱讀:182來源:國知局
      專利名稱:用于蒸發(fā)的掩模以及用于制造該掩模的方法和裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明的方面涉及一種包括第一分離掩模和第二分離掩模的用于蒸發(fā)的掩模以 及一種用于制造該掩模的方法和裝置。
      背景技術(shù)
      通常,有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)包括設(shè)置在第一電極(即,陽極)和第二電極(即, 陰極)之間的有機(jī)層。第一電極是由例如氧化銦錫(ITO)形成的透明電極,第二電極由具 有低逸出功的金屬(例如,Ca、Li或Al)形成。當(dāng)向OLED施加正向電壓時(shí),從陽極發(fā)射的 空穴與從陰極發(fā)射的電子組合,以形成激子,在激子從激發(fā)態(tài)躍遷至基態(tài)的同時(shí),發(fā)射光。第二電極通常形成為反射光的反射電極,而第一電極通常形成為透射光的透射電 極。因此,可以制造出將從有機(jī)層發(fā)射的光發(fā)射到第二電極的0LED。這里,有機(jī)層可以通過各種方法來形成。方法之一是蒸發(fā)方法。為了通過蒸發(fā)方 法制造OLED顯示裝置,將具有與要形成的薄膜相同的圖案的掩模附著到其上將形成有薄 膜的表面,將用于薄膜的材料蒸發(fā),以形成具有預(yù)定圖案的薄膜。同時(shí),隨著平板顯示器變得更大,這樣的掩模也變得更大。例如,在掩模的當(dāng)前制 造中,不能制造出與5. 5G基底(1320mmX 1500mm)的尺寸對(duì)應(yīng)的掩模,因此,應(yīng)當(dāng)使用分離 掩模。通常,這樣的分離掩模如下形成將掩??蚣芩牡确殖筛褡宇愋偷淖涌蚣?;并通 過焊接來結(jié)合被設(shè)置為與分離的開口對(duì)應(yīng)的掩模。然而,將掩??蚣艿确譃樽涌蚣懿⑼ㄟ^焊接將掩模結(jié)合到分離的開口的方法由于 子框架而導(dǎo)致陰影效應(yīng)。因此,難以執(zhí)行均勻的蒸發(fā)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的各方面提供了一種用于蒸發(fā)的掩模,該掩模不會(huì)由于子框架而具有陰影 效應(yīng),從而可以制造更大的掩模。根據(jù)本發(fā)明的一方面,一種用于蒸發(fā)的掩模包括第一分離掩模、第二分離掩模以 及形成在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間的焊接部分。所述第一分離掩模和所 述第二分離掩模通過所述焊接部分彼此結(jié)合。所述焊接部分可以在所述焊接部分與所述第一分離掩模之間的界面周圍以及在 所述焊接部分與第二分離掩模之間的界面周圍具有毛刺。所述毛刺的高度可以為大約 10 μ m或更小。所述第一分離掩模與所述第二分離掩模之間的間隙可以為掩模的厚度的大約 10%或更小。根據(jù)本發(fā)明的另一方面,一種制造用于蒸發(fā)的掩模的方法包括將第一分離掩模 和第二分離掩模設(shè)置在工作臺(tái)的頂表面上;使用夾具將所述第一分離掩模和所述第二分離 掩模固定到所述工作臺(tái);將壓板設(shè)置在將被焊接的所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區(qū)域上;使用激光焊接部分將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模。設(shè)置第一分離掩模和第二分離掩模的步驟可以包括將主基底設(shè)置在所述工作臺(tái) 的所述頂表面上;將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模與所述主基底對(duì)準(zhǔn)??梢栽谒龅谝环蛛x掩模和所述第二分離掩模之間形成間隙,所述間隙可以為所 述第一分離掩模的厚度的大約10%或更小。所述方法還可以包括在朝向焊接方向移動(dòng)的同時(shí),利用第一輥將所述第一分離 掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上。所述第一輥可以弓I導(dǎo)所述激光焊接部分。在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模之后,可以在所述第一分離掩模 和所述第二分離掩模之間形成焊接部分。所述方法還可以包括在朝向焊接方向移動(dòng)的同 時(shí),利用第二輥使所述焊接部分的頂表面平坦化。所述第二輥可以跟隨所述激光焊接部分。從所述激光焊接部分產(chǎn)生的激光束輪廓可以具有多個(gè)最大峰。根據(jù)本發(fā)明的又一方面,一種用于制造用于蒸發(fā)的掩模的裝置包括工作臺(tái);夾 具,設(shè)置在所述工作臺(tái)上;壓板,設(shè)置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區(qū)域 上;激光焊接部分,設(shè)置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模上方。所述夾具將第一分 離掩模和第二分離掩模固定到所述工作臺(tái)的頂表面。所述壓板將所述第一分離掩模和所述 第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上。所述激光焊接部分將所述第一分離掩模焊接到所述第二 分離掩模。所述裝置還可以包括設(shè)置在所述工作臺(tái)與所述第一分離掩模及所述第二分離掩 模之間的主基底。從所述激光焊接部分產(chǎn)生的激光束輪廓可以具有多個(gè)最大峰。沒有一個(gè)最大峰會(huì) 處于所述激光束輪廓的中心周圍。所述裝置還可以包括定位在所述激光焊接部分的前面的第一輥和定位在所述激 光焊接部分的后面的第二輥。所述第一輥和所述第二輥設(shè)置在所述第一分離掩模和所述第 二分離掩模上。所述裝置還可以包括支撐件。所述激光焊接部分以及所述第一輥和所述第二輥可 以安裝在所述支撐件中。在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模的同時(shí),所述支 撐件可以沿焊接方向移動(dòng)。所述第一輥可以引導(dǎo)所述激光焊接部分,并可以將所述第一分 離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上。在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分 離掩模期間,所述第二輥可以跟隨所述激光焊接部分,并可以將形成在所述第一分離掩模 和所述第二分離掩模之間的焊接部分的表面平坦化。本發(fā)明的附加方面和/或優(yōu)點(diǎn)將部分地在下面的描述中進(jìn)行說明,并部分地根據(jù) 描述將是明顯的,或者可以由本發(fā)明的實(shí)施而明了。


      因?yàn)橥ㄟ^參考結(jié)合附圖考慮的以下詳細(xì)描述,本發(fā)明變得更益于理解,所以本發(fā) 明的更充分的認(rèn)識(shí)和本發(fā)明的許多伴隨的優(yōu)點(diǎn)將更加顯而易見,在附圖中相同的標(biāo)號(hào)指示 相同的或類似的組件,其中圖IA是根據(jù)實(shí)施例的用于制造用于蒸發(fā)的掩模的裝置的示意性透視圖;圖IB是沿圖IA的剖視線A-A截取的剖視圖2是支撐件的示意性透視圖,其中安裝了根據(jù)實(shí)施例的用于制造用于蒸發(fā)的掩 模的裝置的激光焊接部分;圖3A示出傳統(tǒng)的激光束輪廓;圖;3B是示出通過圖3A的激光束焊接的部分的照片;圖3C是沿圖;3B的剖視線B-B截取的剖視圖;圖4A示出根據(jù)實(shí)施例的激光束輪廓;圖4B是示出通過圖4A的激光束焊接的部分的照片;圖4C是沿圖4B的剖視線C-C截取的剖視圖;圖5A是根據(jù)實(shí)施例的用于蒸發(fā)的掩模的示意性平面圖;圖5B是沿圖5A的剖視線D-D截取的剖視圖;圖5C是圖5A的區(qū)域E的放大照片;圖6是包括用于蒸發(fā)的掩模的蒸發(fā)裝置的示意性剖視圖。
      具體實(shí)施例方式通常,有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)包括設(shè)置在第一電極(即,陽極)和第二電極(即, 陰極)之間的有機(jī)層。第一電極是由例如氧化銦錫(ITO)形成的透明電極,第二電極由具有 低逸出功的金屬(例如,Ca、Li或Al)形成。當(dāng)向OLED施加正向電壓時(shí),從陽極發(fā)射的空 穴與從陰極發(fā)射的電子組合,以形成激子,在激子從激發(fā)態(tài)躍遷至基態(tài)的同時(shí),發(fā)射光。第 一電極通常形成為反射光的反射電極,而第二電極通常形成為透射光的透射電極。因此,可 以制造出將從有機(jī)層發(fā)射的光發(fā)射到第二電極的0LED。這里,有機(jī)層可以通過各種方法來 形成。方法之一是蒸發(fā)方法。為了通過使用蒸發(fā)方法制造OLED顯示裝置,將具有與要形成 的薄膜相同的圖案的掩模附著到其上將形成有薄膜的表面,并將用于薄膜的材料蒸發(fā),以 形成具有預(yù)定圖案的薄膜。現(xiàn)在,在下文中將參照附圖更充分地描述本發(fā)明,在附圖中示出了本發(fā)明的示例 性實(shí)施例。相同的標(biāo)號(hào)貫穿說明書指示相同的元件,當(dāng)一個(gè)部件與另一個(gè)部件連接時(shí),這些 部件可以彼此“直接連接”,或者在它們之間具有第三裝置的情況下彼此“電連接”。此外, 在附圖中,為了清楚起見,夸大了層和區(qū)域的厚度。圖6是示意性地示出在蒸發(fā)方法中使用的包括掩模的蒸發(fā)裝置2的剖視圖。蒸發(fā) 裝置2設(shè)置在真空室內(nèi)部。參照?qǐng)D6,為了蒸發(fā),為了使用掩模1蒸發(fā)用于OLED顯示裝置的包括薄膜的有機(jī) 層(即,發(fā)射層)的材料,結(jié)合到掩模1的框架4安裝在坩堝3的前面,坩堝3包含用于薄 膜的材料。其上將形成薄膜的對(duì)象5設(shè)置在框架4的后面。磁體單元6設(shè)置在對(duì)象5的后 面。磁體單元6支撐對(duì)象5,并朝向結(jié)合到框架4的掩模1驅(qū)動(dòng)對(duì)象5。此時(shí),通過用于蒸 發(fā)薄膜的坩堝3的操作,包含在坩堝3中的材料被蒸發(fā)到對(duì)象5上。圖IA是根據(jù)實(shí)施例的用于制造用于蒸發(fā)的掩模(稱作“蒸發(fā)掩?!?的裝置的示 意性透視圖,圖IB是沿圖IA的剖視線A-A截取的剖視圖。參照?qǐng)DIA和圖1B,根據(jù)實(shí)施例的用于制造蒸發(fā)掩模的裝置100包括設(shè)置在工作臺(tái) 110上的主基底120、激光焊接部分160和CXD相機(jī)150。根據(jù)實(shí)施例的用于制造蒸發(fā)掩模的第一分離掩模170a和第二分離掩模170b設(shè)置在主基底120上。在附圖中,示出兩個(gè)分離掩模,但是分離掩模的數(shù)量可根據(jù)掩模的尺寸改變。同時(shí),夾具130設(shè)置在工作臺(tái)110上,以將第一分離掩模和第二分離掩模固定到工 作臺(tái)110。即,夾具130是用于在焊接操作期間防止分離掩模移動(dòng)的固定構(gòu)件。在附圖中, 示出一對(duì)夾具,但是如果需要,則可以包括多個(gè)夾具。因此,本發(fā)明不限于在圖IA中示出的 夾具的數(shù)量或其位置。根據(jù)實(shí)施例的用于制造蒸發(fā)掩模的裝置包括設(shè)置在工作臺(tái)110上的壓板140。具 體地說,壓板140設(shè)置在第一分離掩模170a和第二分離掩模170b的外圍區(qū)域上,并將第一 分離掩模和第二分離掩模壓到工作臺(tái)上。第一分離掩模和第二分離掩模的外圍區(qū)域是將要 結(jié)合在一起的第一分離掩模和第二分離掩模的邊緣部分。S卩,壓板140通過將分離掩模170a和170b的外圍區(qū)域彼此緊密焊接來提供精密 焊接。每個(gè)壓板設(shè)置在第一分離掩模區(qū)域或第二分離掩模區(qū)域上。同時(shí),如上所述,當(dāng)有多 個(gè)分離掩模時(shí),可以將多個(gè)焊接部分壓板設(shè)置在將要焊接的相應(yīng)分離掩模的外圍區(qū)域上。圖2是支撐件的示意性透視圖,其中安裝了根據(jù)實(shí)施例的用于制造用于蒸發(fā)的掩 模的裝置的激光焊接部分。根據(jù)實(shí)施例的激光焊接部分160和CXD相機(jī)150安裝在支撐件191中。此外,第 一輥180a和第二輥180b安裝在支撐件191中。第一輥180a定位在激光焊接部分160的 前面,第二輥180b定位在激光焊接部分160的后面。這里,激光焊接部分的前面和后面基 于支撐件191移動(dòng)所沿著的方向。導(dǎo)向桿190引導(dǎo)支撐件191的移動(dòng)。元件170是第一分 離掩模170a或第二分離掩模170b。如圖2所示,當(dāng)支撐件191沿導(dǎo)向桿190在X方向上移動(dòng)時(shí),第一輥180a被描述為 設(shè)置在激光焊接部分160的前面,第二輥180b被描述為設(shè)置在激光焊接部分160的后面。 在這種情況下,第一輥180a引導(dǎo)激光焊接部分160,第二輥180b跟隨激光焊接部分160。 可選地,當(dāng)支撐件191沿導(dǎo)向桿190在Y方向上移動(dòng)時(shí),第二輥180b被描述為設(shè)置在激光 焊接部分160的前面,第一輥180a被描述為設(shè)置在激光焊接部分160的后面。在這種情況 下,第一輥180a跟隨激光焊接部分160,第二輥180b引導(dǎo)激光焊接部分160。因?yàn)榈谝惠?和第二輥的參考是相對(duì)的,所以可以轉(zhuǎn)換第一輥和第二輥的參考,通常會(huì)描述第一輥引導(dǎo) 激光焊接部分,第二輥跟隨激光焊接部分。隨后將描述第一輥180a和第二輥180b的效用。 這里,因?yàn)樵诩す夂附硬糠?60沿焊接方向移動(dòng)的同時(shí)執(zhí)行焊接操作,所以將X方向或Y方 向稱作焊接方向。同時(shí),雖然在附圖中未示出,但是根據(jù)實(shí)施例的用于制造蒸發(fā)掩模的裝置還可以 包括用于沿垂直方向驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)110的垂直臺(tái)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件。由于垂直臺(tái)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件,工作臺(tái)可 以向上或向下移動(dòng),從而有助于工作構(gòu)件(即,分離掩模)的裝載或卸載操作。另外,激光 焊接部分160還可以包括在分離掩模的焊接位點(diǎn)提供氮?dú)獾臍怏w供給器。然而,這樣的驅(qū) 動(dòng)構(gòu)件或氣體供給器在本領(lǐng)域中是眾所周知的,所以將省略其詳細(xì)描述。在下文中,將描述根據(jù)實(shí)施例的使用用于制造蒸發(fā)掩模的裝置來制造蒸發(fā)掩模的 方法。將要被焊接的分離掩模(即,第一分離掩模170a和第二分離掩模170b)在工作臺(tái) 110的頂表面上對(duì)準(zhǔn)。這里,第一分離掩模170a和第二分離掩模170b的精密對(duì)準(zhǔn)可以使用
      7C⑶相機(jī)150來執(zhí)行。為了對(duì)準(zhǔn)第一分離掩模170a和第二分離掩模170b,工作臺(tái)110由上 面描述的臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置來驅(qū)動(dòng),由此將第一分離掩模170a和第二分離掩模170b裝載到適當(dāng) 的焊接位置。第一分離掩模170a和第二分離掩模170b可以在設(shè)置于工作臺(tái)110上的主基底 120上對(duì)準(zhǔn)。當(dāng)分離掩模設(shè)置在工作臺(tái)的頂表面上時(shí),主基底120提供精密對(duì)準(zhǔn)的參考點(diǎn)。 然而,可以不包括主基底120。另外,主基底可以不設(shè)置在工作臺(tái)110上,而是插到工作臺(tái) 中。第一分離掩模和第二分離掩??梢栽诰哂虚g隙的情況下對(duì)準(zhǔn)。換句話說,在第一 分離掩模170a和第二分離掩模170b之間存在間隙,間隙的尺寸為分離掩模的厚度的大約 10%或更少。在圖5B中示出間隙G。換句話說,為了對(duì)準(zhǔn),第一分離掩模和第二分離掩模的側(cè)面可以彼此接觸,但是由 于制造裝置和對(duì)準(zhǔn)技術(shù)的限制而產(chǎn)生特定間隙。因此,將第一分離掩模和第二分離掩模之 間的間隙調(diào)節(jié)為分離掩模的厚度的大約10%或更少,由此確保良好的焊接質(zhì)量。隨后,布置設(shè)置在工作臺(tái)110上的夾具130,以將第一分離掩模固定到工作臺(tái)110, 布置另一夾具,以將第二分離掩模固定到工作臺(tái)110。然后,布置壓板140,以保持將要彼此緊密焊接的分離掩模的外圍區(qū)域,由此對(duì)分 離掩模的將要焊接的區(qū)域執(zhí)行更精密的焊接。這里,可以使用諸如馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)構(gòu)件使夾具130和壓板140移動(dòng)并布置到適當(dāng)?shù)?位置,但是移動(dòng)夾具和壓板的順序不受限制。然后,驅(qū)動(dòng)激光焊接部分160,以執(zhí)行焊接操作。如在圖2中所示,焊接操作可以沿 X方向或Y方向執(zhí)行。如上所述,第一輥180a和第二輥180b分別定位在激光焊接部分160的前面和后 面,從而可以在焊接操作期間提高分離掩模170a和170b與工作臺(tái)110之間的緊密附著。在 焊接操作期間,可以將在分離掩模的頂表面上產(chǎn)生的毛刺平坦化,由此進(jìn)一步提高了焊接 部分的平坦度。也就是說,如在圖2中所示,當(dāng)支撐件191沿導(dǎo)向桿190在X方向上移動(dòng)時(shí),可以 通過定位在激光焊接部分160的前面的第一輥180a來提高分離掩模和工作臺(tái)之間的緊密 附著??梢酝ㄟ^定位在激光焊接部分160的后面的第二輥180b使得在焊接操作期間在分 離掩模的頂表面上產(chǎn)生的毛刺平坦化,由此進(jìn)一步提高焊接部分的平坦度。換言之,引導(dǎo)激 光焊接部分160的第一輥180a將第一分離掩模170a和第二分離掩模170b壓到工作臺(tái)110 上,跟隨激光焊接部分160的第二輥180b使第一分離掩模170a和第二分離掩模170b的表 面平坦化。可選地,當(dāng)支撐件191沿導(dǎo)向桿190在Y方向上移動(dòng)時(shí),可以通過定位在激光焊接 部分160的前面的第二輥180b來提高分離掩模和工作臺(tái)之間的緊密附著。可以通過定位 在激光焊接部分160的后面的第一輥180a使得在焊接操作期間在分離掩模的頂表面上產(chǎn) 生的毛刺平坦化,由此進(jìn)一步提高焊接部分的平坦度。這里,第一輥180a和第二輥180b可以與具有激光焊接部分160的支撐件191 一 起形成,因此,第一輥180a和第二輥180b與激光焊接部分一起沿導(dǎo)向桿190移動(dòng)。如上所述,在驅(qū)動(dòng)激光焊接部分160以執(zhí)行焊接操作之后,可以將夾具130和壓板140移開,可以將蒸發(fā)掩模(S卩,焊接的第一分離掩模和第二分離掩模)從工作臺(tái)110卸載, 由此完成根據(jù)實(shí)施例的蒸發(fā)掩模。在下文中,將描述從激光焊接部分產(chǎn)生的激光束輪廓和毛刺之間的關(guān)系。圖3A示出傳統(tǒng)的激光束輪廓,其示出激光束的強(qiáng)度作為激光束的剖面位置的函 數(shù),圖3B是示出通過圖3A的激光束焊接的部分的照片,圖3C是沿圖;3B的剖視線B-B截取 的剖視圖。圖4A示出根據(jù)實(shí)施例的激光束輪廓,其示出激光束的強(qiáng)度作為激光束的剖面位 置的函數(shù),圖4B是示出通過圖4A的激光束焊接的部分的照片,圖4C是沿圖4B的剖視線 C-C截取的剖視圖。如在本領(lǐng)域中已知的是,激光束的強(qiáng)度依賴于激光束的剖視位置而改變。將示出 激光束的強(qiáng)度與剖視位置之間的關(guān)系的曲線稱作激光束輪廓。圖3A示出用于焊接操作的 傳統(tǒng)激光的激光束輪廓。在傳統(tǒng)的激光中,激光束強(qiáng)度的最大峰I1的位置P1對(duì)應(yīng)于激光束 的剖視位置的中心隊(duì)。在焊接操作期間,會(huì)在分離掩模的焊接部分的表面上產(chǎn)生毛刺。圖:3B示出圍繞中 心區(qū)域(較亮的區(qū)域)的環(huán)形黑暗區(qū)域。較亮的中心區(qū)域?qū)?yīng)于激光束的剖視位置的中心 隊(duì)。毛刺200a形成在黑暗區(qū)域中,被毛刺圍繞的凹槽200b會(huì)形成在中心區(qū)域中。圖3C示 出沿圖:3B的剖視線B-B截取的焊接部分的剖視輪廓。如在圖;3B和圖3C中所示,圍繞位置 R1形成焊接深度D1 (即,被毛刺圍繞的凹槽的深度),在這種情況下,位置R1與具有激光束 強(qiáng)度的最大峰I1的位置P1相同。產(chǎn)生具有高度H1的毛刺。用于定義在圖3C中示出的深 度D1和高度H1的基線是分離掩模的頂表面,如在圖5B中所示。通過實(shí)驗(yàn)觀察到,隨著激光 束強(qiáng)度增大,凹槽的焊接深度D1和毛刺的高度H1增大。 參照?qǐng)D4A,在根據(jù)實(shí)施例的激光束輪廓中,位置P2 (其中,激光束強(qiáng)度具有最大峰 I2)不與激光束的中心&對(duì)應(yīng)??梢杂屑す馐鴱?qiáng)度具有最大峰I2的多個(gè)位置P2。如在圖4A 中所示,沒有一個(gè)最大峰會(huì)位于激光束輪廓的中心&周圍。在這種情況下,當(dāng)施加相同輸出的激光時(shí),根據(jù)本發(fā)明的激光束輪廓的最大峰I2 處的激光束強(qiáng)度比根據(jù)在圖3A中示出的傳統(tǒng)激光束輪廓的最大峰I1處的激光束強(qiáng)度低。 也就是說,在實(shí)施例中,由于激光束強(qiáng)度具有最大峰I2的多個(gè)位置P2,減小了最大峰處的激 光束強(qiáng)度,由此與在傳統(tǒng)的情況下相比形成較淺的焊接深度。參照?qǐng)D4B和圖4C,焊接深度込比傳統(tǒng)的深度淺,因此,毛刺的高度H2變低。與圖 3B中的照片相比,圖4B示出沒有明顯的毛刺和凹槽。這里,毛刺的高度H2可以為大約IOym或更小。當(dāng)毛刺的高度大于10 μ m時(shí),陰 影效應(yīng)產(chǎn)生,從而難以執(zhí)行均勻的蒸發(fā)。隨著毛刺的高度增大,焊接深度變大,進(jìn)而導(dǎo)致第 一分離掩模和第二分離掩模之間的焊接部分較小。因此,還降低了焊接強(qiáng)度。同時(shí),激光的輸出不受限制,因此可以根據(jù)將被焊接的分離掩模的厚度隨機(jī)地調(diào) 節(jié)激光的輸出。然而,重要的是在分離掩模的頂表面上形成高度為大約10 μ m或更小的毛 刺。為此,產(chǎn)生激光束強(qiáng)度具有最大峰I2的多個(gè)位置P2,由此控制施加到分離掩模的激光 束的強(qiáng)度。圖5A是根據(jù)實(shí)施例的蒸發(fā)掩模的示意性平面圖,圖5B是沿圖5A的剖視線D-D截 取的剖視圖,圖5C是圖5A的區(qū)域E的放大照片。
      參照?qǐng)D5A至圖5C,通過經(jīng)由焊接將兩個(gè)分離掩模170a和170b直接結(jié)合來形成單 個(gè)蒸發(fā)掩模。雖然在附圖中示出兩個(gè)分離掩模,但可以通過焊接將至少兩個(gè)分離掩模直接 結(jié)合。即,在本發(fā)明中,分離掩模的數(shù)量不受限制。這里,在傳統(tǒng)的方法中,掩模框架可以四等分為格子類型的子框架,分離掩模設(shè)置 為與子框架的每個(gè)分離的開口對(duì)應(yīng)。因此,當(dāng)通過焊接將分離掩模結(jié)合到子框架時(shí),子框架 的頂表面面對(duì)分離掩模的頂表面,使得在子框架的頂表面和分離掩模的頂表面之間產(chǎn)生焊 接表面。然而,在實(shí)施例中,焊接表面是分離掩模的側(cè)表面,因?yàn)槎鄠€(gè)分離掩模設(shè)置在工作 臺(tái)110上,所以分離掩模的側(cè)表面彼此面對(duì)并通過焊接直接結(jié)合,而不是使用這樣的子框 架通過焊接結(jié)合。因此,在傳統(tǒng)的技術(shù)中,即便通過經(jīng)由焊接將多個(gè)分離掩模結(jié)合來制造大尺寸的 蒸發(fā)掩模,但是由于子框架的厚度,蒸發(fā)掩模的平坦化效果較差,并且發(fā)生由子框架引起的 陰影效應(yīng),由此導(dǎo)致難以確保均勻的蒸發(fā)。然而,在實(shí)施例中,因?yàn)樵跊]有使用子框架的情況下通過焊接將分離掩模直接結(jié) 合,所以沒有發(fā)生陰影效應(yīng)。雖然在焊接操作期間在分離掩模的頂表面上產(chǎn)生毛刺,但是當(dāng) 將毛刺的高度調(diào)節(jié)至大約IOym或更小時(shí),可以防止由毛刺引起的陰影效應(yīng)。這里,根據(jù)實(shí)施例的第一分離掩模和第二分離掩模通過焊接結(jié)合,間隙G為分離 掩模的厚度t的大約10%或更小。如上所述,將第一分離掩模和第二分離掩模的側(cè)表面對(duì)準(zhǔn)為彼此接觸,但是不可 避免的是,由于制造裝置和對(duì)準(zhǔn)技術(shù)的局限性,在分離掩模的側(cè)表面之間產(chǎn)生特定尺寸的 間隙。另外,隨著分離掩模之間的間隙變大,變得更加難以通過焊接將分離掩模直接結(jié)合, 并且焊接強(qiáng)度降低。因此,在實(shí)施例中,將第一分離掩模和第二分離掩模之間的間隙G設(shè)計(jì)成是分離 掩模的厚度t的大約10%或更小,因此可以確保良好的焊接質(zhì)量。隨后,參照?qǐng)D5B,如在圖5B的放大圖中所示,根據(jù)實(shí)施例的蒸發(fā)掩模具有在第一 分離掩模170a的側(cè)表面和第二分離掩模170b的側(cè)表面之間形成的焊接部分F。第一分離 掩模170a和第二分離掩模170b通過焊接部分F結(jié)合在一起。焊接部分F會(huì)具有毛刺201a 和被毛刺201a圍繞的凹槽201b。毛刺201a會(huì)在焊接部分與第一分離掩模170a之間的界 面周圍以及在焊接部分與第二分離掩模170b之間的界面周圍形成。毛刺201a會(huì)從分離掩 模的頂表面突出高度H2,凹槽201b會(huì)通過距離分離掩模的頂表面的焊接深度&形成。圖5C示出在焊接操作之后從分離掩模170a和170b的頂部觀看的放大區(qū)域E的 照片。在焊接操作之后,焊接部分F形成在第一分離掩模170a和第二分離掩模170b之間。 在該照片中,焊接部分F具有平坦的頂表面,平坦的頂表面指示出很好地將毛刺控制在期 望的高度以下。測(cè)量在焊接操作之后蒸發(fā)掩模的斷裂強(qiáng)度為39. Wcgf/mm2,遠(yuǎn)高于可允許的 強(qiáng)度 6. 34kgf/mm2。因此,根據(jù)實(shí)施例的沉積掩模不使用子框架,并且通過焊接彼此直接結(jié)合,從而不 發(fā)生在傳統(tǒng)技術(shù)中發(fā)生的陰影效應(yīng),并且就斷裂強(qiáng)度而言,可以確保非常好的焊接質(zhì)量。雖然已經(jīng)參照本發(fā)明的預(yù)定示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明,但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng) 理解,在不脫離在權(quán)利要求書及其等價(jià)物中限定的本發(fā)明的精神或范圍的情況下,可以對(duì)本發(fā)明做出各種修改和改變。
      權(quán)利要求
      1.一種用于蒸發(fā)的掩模,所述掩模包括 第一分離掩模;第二分離掩模;焊接部分,形成在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間,所述第一分離掩模和 所述第二分離掩模通過所述焊接部分彼此結(jié)合。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模,其中,所述焊接部分在所述焊接部分與所述第一分離 掩模之間的界面周圍以及在所述焊接部分與第二分離掩模之間的界面周圍具有毛刺,所述 毛刺的高度為10 μ m或更小。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模,其中,所述第一分離掩模與所述第二分離掩模之間的 間隙為掩模的厚度的10%或更小。
      4.一種制造用于蒸發(fā)的掩模的方法,所述方法包括將第一分離掩模和第二分離掩模設(shè)置在工作臺(tái)的頂表面上; 使用夾具將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模固定到所述工作臺(tái); 將壓板設(shè)置在將被焊接的所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區(qū)域上; 使用激光焊接部分將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,將第一分離掩模和第二分離掩模設(shè)置在工作臺(tái) 的頂表面上的步驟包括將主基底設(shè)置在所述工作臺(tái)的所述頂表面上;將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模與所述主基底對(duì)準(zhǔn)。
      6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間 形成間隙,所述間隙為所述第一分離掩模的厚度的10%或更小。
      7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,所述方法還包括在朝向焊接方向移動(dòng)的同時(shí),利用第 一輥將所述第一分離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上,所述第一輥引導(dǎo)所述激 光焊接部分。
      8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩 模之后,在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模之間形成焊接部分,所述方法還包括在 朝向焊接方向移動(dòng)的同時(shí),利用第二輥使所述焊接部分的頂表面平坦化,所述第二輥跟隨 所述激光焊接部分。
      9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,從所述激光焊接部分產(chǎn)生的激光的束輪廓具有 多個(gè)最大峰。
      10.一種用于制造用于蒸發(fā)的掩模的裝置,所述裝置包括 工作臺(tái);夾具,設(shè)置在所述工作臺(tái)上,所述夾具將第一分離掩模和第二分離掩模固定到所述工 作臺(tái)的頂表面;壓板,設(shè)置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模的外圍區(qū)域上,所述壓板將所述 第一分離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上;激光焊接部分,設(shè)置在所述第一分離掩模和所述第二分離掩模上方,所述激光焊接部 分將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離掩模。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,所述裝置還包括主基底,設(shè)置在所述工作臺(tái)與所述第一分離掩模及所述第二分離掩模之間。
      12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中,從所述激光焊接部分產(chǎn)生的激光束輪廓具有 多個(gè)最大峰。
      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其中,沒有一個(gè)最大峰處于所述激光束輪廓的中心周圍。
      14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,所述裝置還包括定位在所述激光焊接部分的前面的 第一輥和定位在所述激光焊接部分的后面的第二輥,所述第一輥和所述第二輥設(shè)置在所述 第一分離掩模和所述第二分離掩模上。
      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,所述裝置還包括支撐件,所述激光焊接部分以及所 述第一輥和所述第二輥安裝在所述支撐件中。
      16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置,其中,在將所述第一分離掩模焊接到所述第二分離 掩模的同時(shí),所述支撐件沿焊接方向移動(dòng),所述第一輥引導(dǎo)所述激光焊接部分,并將所述第 一分離掩模和所述第二分離掩模壓到所述工作臺(tái)上,在將所述第一分離掩模焊接到所述第 二分離掩模期間,所述第二輥跟隨所述激光焊接部分,并將形成在所述第一分離掩模和所 述第二分離掩模之間的焊接部分的表面平坦化。
      全文摘要
      本發(fā)明提供了一種用于蒸發(fā)的掩模以及一種用于制造該掩模的方法和裝置。該掩模包括第一分離掩模和第二分離掩模。第一分離掩模和第二分離掩模通過焊接彼此直接結(jié)合,由此在第一分離掩模和第二分離掩模之間形成焊接部分。根據(jù)實(shí)施例的分離掩模不使用子框架,并且通過焊接彼此直接結(jié)合,從而不發(fā)生陰影效應(yīng)。用于制造用于蒸發(fā)的掩模的裝置包括工作臺(tái);夾具,將第一分離掩模和第二分離掩模固定到工作臺(tái);激光焊接部分,將第一分離掩模焊接到第二分離掩模。所述裝置還可以包括引導(dǎo)激光焊接部分的第一輥和跟隨激光焊接部分的第二輥。
      文檔編號(hào)B23K26/24GK102094167SQ20101058919
      公開日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月14日
      發(fā)明者盧喆來, 崔丞鎬, 曹昌睦, 曹永根, 樸宰奭, 申義信, 金俊亨, 金鐘憲 申請(qǐng)人:三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社
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