一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，屬于非晶合金制造【技術(shù)領(lǐng)域】。本實用新型的技術(shù)方案是：包括冶煉機構(gòu)、噴流機構(gòu)、冷卻機構(gòu)和修磨器，其特征是所述冶煉機構(gòu)上設(shè)置有泄流口，泄流口下方設(shè)置有噴流機構(gòu)，所述噴流機構(gòu)頂部設(shè)置有進液口，噴流機構(gòu)內(nèi)設(shè)置有流道，噴流機構(gòu)底部設(shè)置有四塊氮化硼陶瓷片，噴流機構(gòu)下方設(shè)置有冷卻機構(gòu)，所述冷卻機構(gòu)的兩側(cè)均設(shè)置有一修磨器，所述修磨器緊靠冷卻機構(gòu)。本實用新型在冷卻機構(gòu)兩側(cè)設(shè)置了修磨器，在冷卻機構(gòu)被金屬液沖刷的同時，對其柱形工作面進行打磨，修正柱形工作面的光潔度，從而使其光潔度始終保持在合理的范圍內(nèi)，使制造出的非晶薄帶保持前后一致。
【專利說明】一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及非晶合金制造【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]金屬在熔化后，內(nèi)部原子處于活躍狀態(tài)。一旦金屬開始冷卻，原子就會隨著溫度的下降，而慢慢地按照一定的晶態(tài)規(guī)律有序地排列起來，形成晶體。但如果冷卻過程很快，原子還來不及重新排列就被凝固住了，由此就產(chǎn)生了非晶態(tài)合金。制備非晶態(tài)合金采用的正是一種快速凝固的工藝，將處于熔融狀態(tài)的高溫鋼水噴射到高速旋轉(zhuǎn)的冷卻輥上，鋼水以每秒百萬度的速度迅速冷卻，僅用千分之一秒的時間就將1300°C的鋼水降到200°C以下，形成非晶帶材。
[0003]非晶態(tài)合金與晶態(tài)合金相比，在物理性能、化學(xué)性能和機械性能方面都發(fā)生了顯著的變化。以鐵元素為主的非晶態(tài)合金為例，它具有高飽和磁感應(yīng)強度和低損耗的特點。由于這樣的特性，非晶態(tài)合金材料在電子、航空、航天、機械、微電子等眾多領(lǐng)域中具備了廣闊的應(yīng)用空間。正是因為非晶材料這樣一系列優(yōu)良特性，國內(nèi)外均對其開展了系統(tǒng)性的理論與應(yīng)用研究，國內(nèi)對非晶合金的研究從1976年開始，國家科委一直將非晶合金的研究、開發(fā)、產(chǎn)業(yè)化列入重大科技攻關(guān)項目。在國際上，美日等西方發(fā)達國家也開展了大量的基礎(chǔ)性研究。經(jīng)過幾十年的科研攻關(guān)，非晶材料的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用取得了長足的進步。
[0004]由于在制作非晶帶材時，鋼水與高速旋轉(zhuǎn)的冷卻輥輥面長時間接觸，冷卻輥表面的光潔度經(jīng)過鋼水的沖刷及熱腐蝕后，光潔度明顯下降，并且使冷卻輥表面層的品粒逐步長大，從而增加了鋼水與輥面的熱阻，并使得緊貼輥面的帶材表觀質(zhì)量惡化，使得產(chǎn)品質(zhì)量性能下降。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，該實用新型能夠優(yōu)化冷卻輥的表面光潔度，保證非晶薄帶的質(zhì)量。
[0006]本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，包括冶煉機構(gòu)、噴流機構(gòu)、冷卻機構(gòu)和修磨器，所述冶煉機構(gòu)上設(shè)置有泄流口，泄流口下方設(shè)置有噴流機構(gòu)，所述噴流機構(gòu)頂部設(shè)置有進液口，噴流機構(gòu)內(nèi)設(shè)置有流道，噴流機構(gòu)底部設(shè)置有四塊氮化硼陶瓷片，噴流機構(gòu)下方設(shè)置有冷卻機構(gòu)，所述冷卻機構(gòu)的兩側(cè)均設(shè)置有一修磨器，所述修磨器緊靠冷卻機構(gòu)。
[0007]優(yōu)選的，所述四塊氮化硼陶瓷片圍成0.lmm-1.0mm的噴縫，四塊氮化硼陶瓷片外圍通過耐火泥或高溫膠與噴流機構(gòu)固定連接，氮化硼陶瓷片連接螺桿。
[0008]優(yōu)選的，所述冷卻機構(gòu)具有柱形工作面，所述修磨器為輪形，修磨器的外表面與柱形工作面接觸。
[0009]本實用新型的有益效果是:本實用新型在冷卻機構(gòu)兩側(cè)設(shè)置了修磨器，在冷卻機構(gòu)被金屬液沖刷的同時，對其柱形工作面進行打磨，修正柱形工作面的光潔度，從而使其光潔度始終保持在合理的范圍內(nèi)，使制造出的非晶薄帶保持前后一致。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2為本實用新型噴流機構(gòu)的放大結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖3為圖2的仰視圖；
[0013]其中，I一冶煉機構(gòu)；2—泄流口 ；3—噴流機構(gòu)；4一進液口 ；5—流道；6—氮化硼陶瓷片；7—冷卻機構(gòu)；8—修磨器；9—噴縫；10—耐火泥；11一螺桿。
【具體實施方式】
[0014]為能清楚說明本方案的技術(shù)特點，下面通過一個【具體實施方式】，并結(jié)合其附圖，對本方案進行闡述。
[0015]通過附圖可以看出，本方案的具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，包括冶煉機構(gòu)1、噴流機構(gòu)3、冷卻機構(gòu)7和修磨器8，所述冶煉機構(gòu)I上設(shè)置有泄流口 2，泄流口 2下方設(shè)置有噴流機構(gòu)3,所述噴流機構(gòu)3頂部設(shè)置有進液口 4,噴流機構(gòu)3內(nèi)設(shè)置有流道5,噴流機構(gòu)3底部設(shè)置有四塊氮化硼陶瓷片6，噴流機構(gòu)3下方設(shè)置有冷卻機構(gòu)7，所述冷卻機構(gòu)7的兩側(cè)均設(shè)置有一修磨器8，所述修磨器8緊靠冷卻機構(gòu)7。
[0016]進一步的，所述四塊氮化硼陶瓷片6圍成0.lmm-1.0mm的噴縫9，四塊氮化硼陶瓷片6外圍通過耐火泥10與噴流機構(gòu)3固定連接，氮化硼陶瓷片6連接螺桿11。
[0017]進一步的，所述冷卻機構(gòu)7具有柱形工作面，所述修磨器8為輪形，修磨器8的外表面與柱形工作面接觸。
[0018]本實用新型在冷卻機構(gòu)7兩側(cè)設(shè)置了修磨器8，在冷卻機構(gòu)7被金屬液沖刷的同時，對其柱形工作面進行打磨，修正柱形工作面的光潔度，從而使其光潔度始終保持在合理的范圍內(nèi)，使制造出的非晶薄帶保持前后一致。
[0019]以上公開的僅為本實用新型的一個較佳實施例，但并不用于限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的修改、潤色、等同替換等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)，此外，本實用新型未詳述之處，均為本【技術(shù)領(lǐng)域】技術(shù)人員的公知技術(shù)。
【權(quán)利要求】
1.一種具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，包括冶煉機構(gòu)(I)、噴流機構(gòu)(3)、冷卻機構(gòu)(7)和修磨器(8)，其特征在于:所述冶煉機構(gòu)(I)上設(shè)置有泄流口(2)，泄流口(2)下方設(shè)置有噴流機構(gòu)(3),所述噴流機構(gòu)(3)頂部設(shè)置有進液口(4),噴流機構(gòu)(3)內(nèi)設(shè)置有流道(5 )，噴流機構(gòu)(3 )底部設(shè)置有四塊氮化硼陶瓷片(6 )，噴流機構(gòu)(3 )下方設(shè)置有冷卻機構(gòu)(7)，所述冷卻機構(gòu)(7)的兩側(cè)均設(shè)置有一修磨器(8)，所述修磨器(8)緊靠冷卻機構(gòu)(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，其特征在于:所述四塊氮化硼陶瓷片(6)圍成0.lmm-1.0mm的噴縫(9)，四塊氮化硼陶瓷片(6)外圍通過耐火泥(10 )或高溫膠與噴流機構(gòu)(3 )固定連接，氮化硼陶瓷片(6 )連接螺桿(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有在位打磨裝置的非晶薄帶制取裝置，其特征在于:所述冷卻機構(gòu)(7)具有柱形工作面，所述修磨器(8)為輪形，修磨器(8)的外表面與柱形工作面接觸。
【文檔編號】B22D11/128GK203459648SQ201320463624
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月31日
【發(fā)明者】劉東俊 申請人:臨沂飛宏電子科技有限公司