1.一種處理銅渣的系統(tǒng)，其特征在于，包括：球團(tuán)成型裝置(S100)、轉(zhuǎn)底爐直接還原系統(tǒng)(S200)、熔分裝置(S300)和制備微晶玻璃裝置(S400)；其中，球團(tuán)成型裝置(S100)的出料口與轉(zhuǎn)底爐直接還原系統(tǒng)(S200)的給料口相通，轉(zhuǎn)底爐直接還原系統(tǒng)(S200)的出料口與熔分裝置(S300)的入料口相通，熔分裝置(S300)的出料口與制備微晶玻璃裝置(S400)的入料口相通；
所述轉(zhuǎn)底爐直接還原系統(tǒng)(S200)包括環(huán)形爐體和可轉(zhuǎn)動(dòng)的環(huán)形爐底，在所述轉(zhuǎn)底爐的環(huán)形爐膛內(nèi)沿圓周依次設(shè)置有布料區(qū)(1)、預(yù)熱區(qū)(2)、中溫區(qū)(3)、高溫區(qū)(4)和冷卻區(qū)(5)，且冷卻區(qū)(5)和布料區(qū)(1)相鄰，布料區(qū)(1)和預(yù)熱區(qū)(2)之間、高溫區(qū)(4)和冷卻區(qū)(5)之間用徑向的擋墻(18)分隔，在該擋墻(18)的下端與環(huán)形爐底之間留有能夠至少通過(guò)一層物料的間隔；在該預(yù)熱區(qū)(2)、中溫區(qū)(3)和高溫區(qū)(4)的內(nèi)、外周爐壁上裝有燒嘴，在該布料區(qū)(1)和冷卻區(qū)(5)之上橫向設(shè)置溜槽布料器，該布料器橫斷面兩端位于擋墻(18)之間，在溜槽布料器上方的爐頂對(duì)應(yīng)于冷卻區(qū)(5)的一側(cè)設(shè)有給料口(20)；在冷卻區(qū)(5)和布料區(qū)(1)之間的爐底上設(shè)有出料裝置(10)；在所述的冷卻區(qū)(5)靠近環(huán)形爐底處的內(nèi)、外周爐壁上設(shè)有氣體噴吹裝置(7)；在對(duì)應(yīng)于溜槽布料器上方的轉(zhuǎn)底爐爐頂設(shè)有回收揮發(fā)金屬元素的回收裝置(19)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述溜槽布料器包括多段與水平面有一定角度的傾斜式溜槽、固定裝置(16)和下料擋板(9)構(gòu)成，各段傾斜式溜槽首尾依次相連且在圓周方向相互交替錯(cuò)排列構(gòu)成連續(xù)的物料下降通道；固定裝置將各段傾斜式溜槽固定在一起并與設(shè)在爐頂給料口附近的振動(dòng)器(15)相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于：各段傾斜式溜槽各由多個(gè)隔板(6)以及圍在隔板內(nèi)的溜槽跑道(11)組成；溜槽跑道的底部均勻分布有氣孔(8)；首段傾斜式溜槽(12)的溜槽跑道位于給料口(20)的正下方；末段傾斜式溜槽的溜槽跑道的末端與相鄰擋墻形成下料通道，該下料通道位于布料區(qū)(1)的上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的系統(tǒng)，其特征在于：每?jī)啥蝺A斜式溜槽之間沿轉(zhuǎn)底爐徑向方向均勻設(shè)置一層輻射管(21)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：設(shè)在內(nèi)、外周爐壁上的氣體噴吹裝置(7)的位置高于進(jìn)入冷卻區(qū)(5)物料的料層之上；所述擋墻(18a，18b)與爐底之間的距離為60～150mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述出料裝置(10)是螺旋出料器；所述溜槽布料器距轉(zhuǎn)底爐兩側(cè)爐壁的距離為100～200mm。
7.一種利用權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)處理銅渣的方法，其特征在于，包括：
(1)將銅渣、添加劑、還原劑和粘結(jié)劑混合均勻后在球團(tuán)成型裝置(S100)制成含水的生球團(tuán)；
(2)含水的生球團(tuán)通過(guò)轉(zhuǎn)底爐直接還原系統(tǒng)(S200)的給料口布入到溜槽布料器，通過(guò)溜槽布料器的溜槽跑道(11)逐步下降最后通過(guò)下料通道布入到布料區(qū)(1)；其中，氣體噴吹裝置(7)噴吹的還原性氣體與進(jìn)入到冷卻區(qū)(5)的高溫還原產(chǎn)物進(jìn)行熱交換產(chǎn)生預(yù)熱氣體，上行的預(yù)熱氣體以及設(shè)置在溜槽布料器中的輻射管(21)產(chǎn)生的輻射熱量共同對(duì)在溜槽跑道(11)逐步下降的生球團(tuán)進(jìn)行加熱烘干使球團(tuán)得到預(yù)熱，同時(shí)原料中的鉛鋅元素被還原揮發(fā)，通過(guò)回收裝置(19)回收；
預(yù)熱的球團(tuán)通過(guò)溜槽布料器的最末段的下料通道到達(dá)轉(zhuǎn)底爐布料區(qū)(1)，依次經(jīng)過(guò)轉(zhuǎn)底爐預(yù)熱區(qū)(2)、中溫區(qū)(3)、高溫區(qū)(4)發(fā)生還原反應(yīng)，得到高溫的還原產(chǎn)物；高溫的還原產(chǎn)物進(jìn)入冷卻區(qū)(5)與氣體噴吹裝置(7)噴吹的氣體接觸，將高溫的還原產(chǎn)物冷卻，同時(shí)還原性氣體對(duì)球團(tuán)中的鐵氧化物進(jìn)行還原，冷卻后的還原產(chǎn)物球團(tuán)通過(guò)出料裝置(10)排出爐外；產(chǎn)生的預(yù)熱氣體在擋墻(18)的作用下上行至布料裝置中用于烘干含水生球；
(3)將排出爐外的還原產(chǎn)物球團(tuán)送入熔化分離裝置(S300)進(jìn)行熔分，得到鐵水和液態(tài)渣；
(4)液態(tài)渣送入制備微晶玻璃裝置(S400)，得到微晶玻璃產(chǎn)品。
8.按照權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟(1)中所述的添加劑為含氯化鈣溶液、氯化鈉溶液或含氯化鈉、氯化鈣的工業(yè)廢液。
9.按照權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟(2)中所述含水生球團(tuán)中的水分含量≤15％；所述含水生球團(tuán)粒徑為8～16mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟(3)中氣體噴吹裝置(7)噴吹的還原氣體為煤制氣、高爐煤氣和焦?fàn)t煤氣中的一種或幾種；所述輻射管(21)的輻射溫度為900～1100℃。