1.一種改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：在氣體氛圍下對(duì)氧化銦透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行退火處理，所述的氣體氛圍選自高純氫氣、水蒸氣、氮?dú)鈿錃饣旌蠚?、一氧化碳、水蒸氣空氣混合氣中的一種或多種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：在所述的氮?dú)鈿錃饣旌蠚庵?，氮?dú)馀c氫氣的體積比為99∶1至1∶99。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：在所述的水蒸氣空氣混合氣中，水蒸氣與空氣的體積比為99∶1至1∶99。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述退火處理的退火溫度為250~600℃，退火時(shí)間為3min~5h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜通過薄膜沉積技術(shù)在柔性塑料基底或硬性基底上進(jìn)行制備，沉積速率為0.1至100埃每秒，襯底溫度為25至200 ℃，制備所得的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜厚度為50至1000nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的薄膜沉積技術(shù)為濺射法、化學(xué)反應(yīng)熱蒸發(fā)法、離子束沉積法、離子束增強(qiáng)沉積法、化學(xué)氣相沉積法或激光消融沉積法。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的柔性塑料基底為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、萘二甲酸聚乙烯酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚砜、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、芳香族聚酯、聚酰亞胺、聚醚酯、聚醚酰胺、乙酸纖維素、脂肪族聚氨酯、聚丙烯晴、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯或脂肪族或聚(二(環(huán)戊二烯))。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的硬性基底為單晶硅、多晶硅、非晶硅或玻璃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的氣體氛圍為高純氫氣。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改良的氧化銦透明導(dǎo)電薄膜退火方法，其特征在于：所述的氣體氛圍為水蒸氣。