本發(fā)明涉及鏡片加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光學(xué)鏡片拋光裝置及拋光工藝。
背景技術(shù)：
由于超薄激光光學(xué)鏡片非常容易變形，在進(jìn)行光學(xué)加工的過(guò)程中，經(jīng)常會(huì)因熱變化或者不均勻受力等原因造成鏡片的面型變化。
傳統(tǒng)的光學(xué)鏡片拋光工藝是通過(guò)粘結(jié)劑將鏡片粘結(jié)在底盤(pán)上，再將底盤(pán)放到拋光模上拋光，拋光結(jié)束后通過(guò)加熱熔化粘結(jié)劑，待粘結(jié)劑完全融化后取下鏡片完成鏡片的拋光。
傳統(tǒng)光學(xué)鏡片拋光工藝的缺點(diǎn)是，操作繁瑣，效率低，在上下盤(pán)的過(guò)程中容易導(dǎo)致鏡片變形，難以保證鏡片的面型和拋光精度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種光學(xué)鏡片拋光裝置及拋光工藝，能夠保證產(chǎn)品的加工面在同一平面上，受力均勻。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：
一種光學(xué)鏡片拋光裝置，包括：拋光墊、拋光墊基底、驅(qū)動(dòng)裝置、分離器、壓塊和拋光機(jī)；所述拋光墊設(shè)置在所述拋光墊基底上，所述拋光墊基底連接在所述驅(qū)動(dòng)裝置上；所述分離器設(shè)置在所述拋光墊上，所述分離器上設(shè)置有多個(gè)載物槽，所述壓塊設(shè)置在所述分離器的載物槽內(nèi)；所述分離器的中間設(shè)置有孔，所述分離器通過(guò)所述孔連接在所述拋光機(jī)上。
將產(chǎn)品放置在分離器的載物槽內(nèi)，產(chǎn)品受載物槽槽壁的驅(qū)動(dòng)力運(yùn)動(dòng)，通過(guò)壓塊對(duì)產(chǎn)品的垂直作用力使產(chǎn)品與拋光墊充分接觸，保證產(chǎn)品的加工面在同一平面上，受力均勻。產(chǎn)品可以在分離器的載物槽內(nèi)自由無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，采用分離器自轉(zhuǎn)和產(chǎn)品自轉(zhuǎn)的雙運(yùn)動(dòng)軌跡，提高拋光效果。壓塊為自由壓塊，便于調(diào)節(jié)壓力的大小，可以一定程度地糾正產(chǎn)品本身的面型誤差。
優(yōu)選的，所述載物槽以所述分離器上的孔為中心環(huán)狀陣列分布。
優(yōu)選的，所述載物槽以所述分離器的中心軸為軸線對(duì)稱分布。
優(yōu)選的，所述分離器與拋光墊接觸的一面設(shè)置有與鏡片材料相同的薄片，所述薄片的面型精度小于0.2波長(zhǎng)。
優(yōu)選的，所述拋光墊通過(guò)膠粘劑設(shè)置在所述拋光墊基底上。
優(yōu)選的，所述膠粘劑為熱固性膠粘劑。
一種采用上述光學(xué)鏡片拋光裝置進(jìn)行的拋光工藝，具體步驟如下：
修整修正模；
用修整后的修正模來(lái)修整拋光墊；
清洗所述拋光墊；
將所述拋光墊固定在所述拋光墊基底上；
配制拋光液；
將配制好的拋光液放置在所述拋光機(jī)的拋光液循環(huán)缸內(nèi)；
將鏡片放置在所述分離器的載物槽中；
將所述壓塊放置在鏡片上；
啟動(dòng)所述拋光機(jī)和所述驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行拋光。
優(yōu)選的，所述拋光液包括水、氧化鋁拋光粉和懸浮液，所述水、氧化鋁拋光粉和懸浮液的比例為1：5：0.5。
優(yōu)選的，所述氧化鋁拋光粉的粒度為0.2～0.8μm。
優(yōu)選的，所述懸浮液為弱堿性溶液，其ph值為7.5～8.5。
按照上述方法配制的拋光液可以使得拋光粉有良好的懸浮和均勻分布的效果。通過(guò)金剛石修整拋光墊，保證拋光墊表面具有一定的粗糙度，使得拋光粉可以保存于拋光墊表面更好地對(duì)鏡片起到研磨作用。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明一種光學(xué)鏡片拋光裝置一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖說(shuō)明：1拋光墊、2拋光墊基底、3驅(qū)動(dòng)裝置、4分離器、5壓塊、6拋光機(jī)、7載物槽
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
參閱附圖，在本發(fā)明的一種實(shí)施方式中：一種光學(xué)鏡片拋光裝置，包括：拋光墊1、拋光墊基底2、驅(qū)動(dòng)裝置3、分離器4、壓塊5和拋光機(jī)6；拋光墊1為聚氨酯材料，通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂或有機(jī)硅等熱固性膠粘劑粘結(jié)在拋光墊基底2上，拋光墊基底2在驅(qū)動(dòng)裝置3的帶動(dòng)下運(yùn)動(dòng)；分離器4放置在拋光墊1上，分離器4上設(shè)置有多個(gè)載物槽7，載物槽7可以為方形或圓形等任意形狀，載物槽7的內(nèi)壁上設(shè)置有保護(hù)套；壓塊5活動(dòng)放置在分離器4的載物槽內(nèi)；分離器4的中間設(shè)置有孔，拋光機(jī)6上的頂針插在分離器4的孔中。拋光墊基底2與拋光機(jī)6形成相反方向的運(yùn)動(dòng)軌跡，如：拋光機(jī)基底在驅(qū)動(dòng)裝置的帶動(dòng)下順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光機(jī)帶動(dòng)分離器逆時(shí)針運(yùn)動(dòng)。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：提供了一種光學(xué)鏡片拋光裝置，將產(chǎn)品放置在分離器的載物槽內(nèi)，產(chǎn)品受載物槽槽壁的驅(qū)動(dòng)力運(yùn)動(dòng)，通過(guò)壓塊對(duì)產(chǎn)品的垂直作用力使產(chǎn)品與拋光墊充分接觸，保證產(chǎn)品的加工面在同一平面上，受力均勻。產(chǎn)品可以在分離器的載物槽內(nèi)自由無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，采用分離器自轉(zhuǎn)和產(chǎn)品自轉(zhuǎn)的雙運(yùn)動(dòng)軌跡，提高拋光效果。壓塊為自由壓塊，便于調(diào)節(jié)壓力的大小，可以一定程度地糾正產(chǎn)品本身的面型誤差。
在本發(fā)明的一種實(shí)施方式中：載物槽以分離器上的孔為中心環(huán)狀陣列分布。在本發(fā)明的另一種實(shí)施方式中：載物槽以分離器的中心軸為軸線對(duì)稱分布。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：保證每個(gè)載物槽內(nèi)的產(chǎn)品都受理均勻。
在本發(fā)明的一種實(shí)施方式中：所述分離器與拋光墊接觸的一面設(shè)置有與鏡片材料相同的薄片，所述薄片的面型精度小于0.2波長(zhǎng)。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：在拋光過(guò)程中，分離器可以有效對(duì)拋光墊進(jìn)行實(shí)時(shí)修正，使產(chǎn)品的面型精度達(dá)到薄片的面型精度。
一種采用上述光學(xué)鏡片拋光裝置進(jìn)行的拋光工藝，具體步驟如下：
修整修正模，修正?？刹捎媒饎偸葓?jiān)硬材質(zhì)制成，用金剛砂將金剛石修正模表面修整到需要的面型，其中金剛石丸片采用270#的顆粒度；
用修整后的修正模來(lái)修整拋光墊；
將拋光墊清洗干凈；
將拋光墊通過(guò)粘結(jié)劑固定在拋光墊基底上；
以水、氧化鋁拋光粉和懸浮液為1：5：0.5的比例配制拋光液，其中，氧化鋁拋光粉為超細(xì)粉末，其粒度為0.2～0.8μm，懸浮液為弱堿性溶液，如氫氧化鈉溶液，其ph值為7.5～8.5，配制好的拋光液連續(xù)攪拌約2個(gè)小時(shí)；
將配制好的拋光液放置在拋光機(jī)的拋光液循環(huán)缸內(nèi)；
將鏡片放置在分離器的載物槽中；
選取合適的壓塊，將壓塊放置在鏡片上；
啟動(dòng)拋光機(jī)和驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行拋光。
采用上述拋光工藝技術(shù)方案的有益效果是：按照上述方法配制的拋光液可以使得拋光粉有良好的懸浮和均勻分布的效果。通過(guò)金剛石修整拋光墊，保證拋光墊表面具有一定的粗糙度，使得拋光粉可以保存于拋光墊表面更好地對(duì)鏡片起到研磨作用。
以上僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。