技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于在基板(6)上沉積尤其含碳的結(jié)構(gòu)、例如納米管或石墨形式的層的設(shè)備，所述基板由被安置在處理室殼體(19)內(nèi)的基板支架(1)支承，其中，通過安置在處理室殼體(19)內(nèi)的進氣機構(gòu)(24、25)的排氣口(39)能夠朝著至少一個基板(6)的方向供給處理氣體。為了有利應(yīng)用的改進而建議，所述處理室殼體(19)具有兩個相對置的具備固持槽(34、35、36、37、38)的壁件(48、48’)，并且至少一個板狀構(gòu)件(24、25、26、30、31)布置在處理室殼體(19)內(nèi)，所述板狀構(gòu)件的兩個相互背離指向的邊緣段分別插在兩個壁件(48、48’)之一的固持槽(34至38)內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員：A.朱弗雷;D.E.里平頓;K.B.K.特奧;N.L.魯普辛赫
受保護的技術(shù)使用者：艾克斯特朗歐洲公司
文檔號碼：201580025233
技術(shù)研發(fā)日：2015.03.19
技術(shù)公布日：2017.02.22