一種azo導(dǎo)電玻璃及其制造方法以及觸控裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于導(dǎo)電玻璃技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種AZO導(dǎo)電玻璃及其制造方法以及觸控裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]AZO玻璃，即摻雜鋁的氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃，是TCO玻璃的一種，和ITO等TCO玻璃一樣也具有透明和導(dǎo)電的特點，可用于生產(chǎn)觸摸屏器件。傳統(tǒng)的AZO玻璃在與ITO具有相同導(dǎo)電性的情況下，刻蝕紋明顯，顯示效果欠佳。并且在大尺寸觸摸屏的應(yīng)用中，由AZO膜層形成的觸控結(jié)構(gòu)層容易受到液晶顯示結(jié)構(gòu)層的電磁干擾，影響觸摸檢測精度和響應(yīng)速度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種AZO導(dǎo)電玻璃，旨在消除刻蝕紋并提高其抗電磁干擾能力。
[0004]本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種AZO導(dǎo)電玻璃，包括玻璃基片、鍍制于所述玻璃基片一表面的消影層以及鍍制在所述消影層表面的第一 AZO導(dǎo)電層，還包括鍍制于所述玻璃基片的另一表面并用于屏蔽電磁干擾的第二 AZO導(dǎo)電層。
[0005]本發(fā)明的另一目的在于提供一種觸控裝置，包括觸控模塊和顯示模塊，所述觸控模塊包括所述的AZO導(dǎo)電玻璃，所述第一 AZO導(dǎo)電層和第二 AZO導(dǎo)電層蝕刻成觸控電極，所述第二 AZO導(dǎo)電層還用于屏蔽所述顯示模塊對所述觸控模塊的電磁干擾。
[0006]本發(fā)明的另一目的在于提供一種AZO導(dǎo)電玻璃的制造方法，包括下述步驟:
[0007]選取玻璃原片并對其進行鍍膜前處理，獲得玻璃基片；
[0008]通過中頻交流磁控濺射法在所述玻璃基片的一表面鍍制消影層；
[0009]通過直流磁控濺射法在所述消影層的表面鍍制第一 AZO導(dǎo)電層；
[0010]通過直流磁控濺射法在所述玻璃基片的另一表面鍍制第二 AZO導(dǎo)電層，獲得AZO導(dǎo)電玻璃。
[0011]本發(fā)明所述的AZO導(dǎo)電玻璃中，第二 AZO導(dǎo)電層與消影層和第一 AZO導(dǎo)電層設(shè)置于玻璃基片的異側(cè)，在觸控裝置的應(yīng)用中，第二 AZO導(dǎo)電層下方通常設(shè)有液晶顯示模塊，由于其顯示驅(qū)動電極的存在，通常對上方的觸控結(jié)構(gòu)產(chǎn)生電磁干擾，本實施例中的第二 AZO導(dǎo)電層可作為液晶顯示結(jié)構(gòu)與觸控結(jié)構(gòu)之間的屏蔽層，防止觸控結(jié)構(gòu)受到電磁干擾，提高下游顯示產(chǎn)品的顯示效果。并且通過對AZO材料的應(yīng)用，使在電子顯示領(lǐng)域替代ITO應(yīng)用成為可能，可以解決ITO儲量有限，價格昂貴等問題。
【附圖說明】
[0012]圖1是本發(fā)明實施例提供的AZO導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是本發(fā)明實施例提供的AZO導(dǎo)電玻璃的制作流程圖。
【具體實施方式】
[0014]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0015]以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明的具體實現(xiàn)進行詳細描述:
[0016]請參考圖1，本發(fā)明實施例提供一種AZO導(dǎo)電玻璃，包括玻璃基片01、鍍制于玻璃基片01 —表面的消影層02以及鍍制在所述消影層02表面的第一 AZO導(dǎo)電層03，還包括鍍制于所述玻璃基片01的另一表面并用于屏蔽電磁干擾的第二 AZO導(dǎo)電層04。該AZO導(dǎo)電玻璃可用于觸控顯示裝置中作為觸控電極結(jié)構(gòu)層，其中的第一 AZO導(dǎo)電層03和第二 AZO導(dǎo)電層04蝕刻成觸控電極。其中，消影層02位于第一 AZO導(dǎo)電層03和玻璃基片01之間，可見光在第一 AZO導(dǎo)電層03表面和未被第一 AZO導(dǎo)電層03覆蓋的基材表面上發(fā)生相消干涉從而可以消除刻蝕紋，可以大幅減輕刻蝕紋的干擾，顯示清晰細膩的畫面。第二 AZO導(dǎo)電層04則可以在起到觸控功能的同時提高觸摸屏的抗干擾能力。
[0017]本實施例所述的AZO導(dǎo)電玻璃中，第二 AZO導(dǎo)電層04與消影層02和第一 AZO導(dǎo)電層03設(shè)置于玻璃基片01的異側(cè)，在觸控裝置的應(yīng)用中，第二 AZO導(dǎo)電層04下方通常設(shè)有液晶顯示模塊，由于其顯示驅(qū)動電極的存在，通常對上方的觸控結(jié)構(gòu)產(chǎn)生電磁干擾，本實施例中的第二 AZO導(dǎo)電層04可作為液晶顯示結(jié)構(gòu)與觸控結(jié)構(gòu)之間的屏蔽層，防止觸控結(jié)構(gòu)受到電磁干擾，提高下游顯示產(chǎn)品的顯示效果。并且通過對AZO材料的應(yīng)用，使在電子顯示領(lǐng)域替代ITO應(yīng)用成為可能，可以解決ITO儲量有限，價格昂貴等問題。
[0018]在本實施例中，第一 AZO導(dǎo)電層03和第二 AZO導(dǎo)電層04的材料均為2 %摻雜的氧化鋅鋁。第一 AZO導(dǎo)電層03和第二 AZO導(dǎo)電層04的厚度各為50?300nm，對550nm的折射率為1.80?1.95，電阻率為5X10 4 Ω/cm。
[0019]在本實施例中，消影層02包括自所述玻璃基片01表面依次層疊的五氧化二鈮膜層021和二氧化娃膜層022，所述五氧化二銀膜層021的厚度為5?50nm，所述二氧化娃膜層022的厚度為10?60nm ;五氧化二鈮膜層021對550nm的折射率為2.20?2.40，二氧化硅膜層022對550nm的折射率為1.40?1.50。僅采用該消影層02時對可見光的反射率和消影層02表面設(shè)有第一 AZO導(dǎo)電層03時對可見光的反射率之差可低于2 %，可以很好的消除刻蝕紋。
[0020]該AZO導(dǎo)電玻璃可通過下述方式制作，具體步驟如下:
[0021]在步驟SlOl中，選取玻璃原片并對其進行鍍膜前處理，獲得玻璃基片01 ;
[0022]具體的，可以采用厚度為0.5?2.0mm的鈉鈣硅玻璃、硼硅玻璃或鋁硅玻璃，具體厚度可以為0.5mm, 0.7mm, 1.1mm等。再將所需厚度的電子玻璃原片經(jīng)切割成所需尺寸，再經(jīng)磨邊、研磨、清洗得到鍍膜所需的玻璃基片01。
[0023]在步驟S102中，通過中頻交流磁控濺射法在所述玻璃基片01的一表面鍍制消影層02 ;
[0024]在步驟S103中，通過直流磁控濺射法在所述消影層02的表面鍍制第一 AZO導(dǎo)電層03 ;
[0025]在步驟S104中，通過直流磁控濺射法在所述玻璃基片01的另一表面鍍制第二 AZO導(dǎo)電層04，獲得AZO導(dǎo)電玻璃。
[0026]在上述步驟S102中，將準備好的玻璃基片01放在傳動小車上，設(shè)定傳動小車走速，進入真空鍍膜機，經(jīng)過腔體的加熱段加熱到150°C左右步入五氧化二鈮靶位，優(yōu)選Ar氣量在200SCCm，優(yōu)選O2氣量在100%011，優(yōu)選濺射氣壓在3\10 3，所用靶材為孿生靶，采用中頻交流磁控濺射在玻璃基片01錫面上鍍制五氧化二鈮膜層021