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      一種消影導(dǎo)電玻璃的制作方法

      文檔序號(hào):10330340閱讀:412來源:國(guó)知局
      一種消影導(dǎo)電玻璃的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及觸摸屏領(lǐng)域,具體是一種用于電容式觸摸屏的消影導(dǎo)電玻璃。
      【背景技術(shù)】
      [0002]公知的,電容式觸摸屏所使用的ITO玻璃是一種透明導(dǎo)電玻璃,一般是在玻璃基板上加一層透明導(dǎo)電膜構(gòu)成,其生產(chǎn)工藝是在超薄玻璃基板上通過物理沉積的方式沉積ITO透明導(dǎo)電膜。液晶顯示器專用ITO導(dǎo)電玻璃,還會(huì)在鍍ITO層之前,鍍上一層S12阻擋層,以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內(nèi)液晶里擴(kuò)散。
      [0003]通常電容式觸摸屏使用單面ITO鍍膜玻璃,經(jīng)過刻蝕將ITO導(dǎo)電膜做成透明電極。但是由于ITO導(dǎo)電膜的折射率與玻璃基板的折射率不同,ITO導(dǎo)電膜折射率一般為1.9?2.0,而玻璃基板的折射率約為1.5,這樣就會(huì)導(dǎo)致顯示區(qū)內(nèi)電極與縫隙的反射與透射有較大區(qū)別,使電極與縫隙清晰可見,影響顯示效果和外觀;而且觸摸屏尺寸越大,ITO導(dǎo)電膜層厚度和電極寬度就越大,電極與縫隙的視覺差距就越明顯;另外,在光線比較明亮的環(huán)境中,特別是背后有窗戶、燈光的環(huán)境中,屏幕會(huì)由于ITO電極的反射光太強(qiáng)而無法看清。
      [0004]目前,通常有兩種方法來解決上述問題,第一種是采用減少縫隙的方法來降低電極與縫隙之間的視覺差距,這種消影方法受光刻設(shè)備的限制,一般適用于小尺寸的觸摸屏,對(duì)于20英寸以上屏幕的觸摸屏如采用微小縫隙的方法,設(shè)備投資與制造成本高、產(chǎn)品合格率低。第二種方法是先將Nb2O5或T12等高折射率材料通過磁控濺射鍍到玻璃基板表面,然后再覆上S12等低折射率材料層,最后再覆上ITO層。實(shí)際制作過程中,在鍍完高折射率材料后,通過微調(diào)ITO方阻值的方法來獲得較好的消影效果,但是這樣極易造成消影效果合格時(shí),ITO的方阻值不達(dá)標(biāo);或者是ITO的方阻值達(dá)標(biāo)時(shí),消影效果不合格,也就是電容式觸摸屏無法兼顧ITO方阻值和消影效果,良品率低,不能滿足市場(chǎng)需求。
      [0005]為了解決第二種方法存在的缺點(diǎn),《一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)K公告號(hào)CN203689494U)的專利文件公開了一種消影結(jié)構(gòu),在玻璃基板上依次堆疊S12膜層、ITO膜層和Si3N4膜層;制作時(shí),先將ITO膜層布置于玻璃基板上,保證了 ITO的方阻值一定,然后再根據(jù)ITO方阻和成膜效果去調(diào)節(jié)Si3N4膜層的消影效果,從而使得ITO上的線路不明顯。但是在實(shí)際生產(chǎn)中,沉積S12膜和Si3N4膜,通入的是氧氣和氮?dú)鈨煞N不同的反應(yīng)氣體,所以需要兩個(gè)以上的腔室來沉積相應(yīng)的膜層,或者沉積S12膜后,先抽干O2,再通入N2,這樣就會(huì)造成消影導(dǎo)電玻璃制作成本的增加。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0006]本實(shí)用新型的目的在于提供一種消影導(dǎo)電玻璃,該消影導(dǎo)電玻璃在保證顯示效果的前提下,能夠降低工藝難度,減少生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。
      [0007]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
      [0008]—種消影導(dǎo)電玻璃,包括玻璃基板,玻璃基板上依次設(shè)有S12膜層、ITO膜層與高折射率膜層,所述高折射率膜層為Nb2O5膜層或T12膜層。
      [0009]進(jìn)一步的,所述玻璃基板采用鈉鈣基基片玻璃或硅硼基基片玻璃,玻璃基板的厚度為0.3mm?1.1mnin
      [00?0] 進(jìn)一步的,所述Nb205膜層或Ti02膜層的厚度為5nm?30nmo[00?1 ] 進(jìn)一步的,所述Si02膜層的厚度為1nm?lOOnm。
      [0012]進(jìn)一步的,所述ITO膜層的厚度為1nm?50nm。
      [0013]本實(shí)用新型的有益效果是,采用Nb2O5膜層或T12膜層作為高折射率膜層,在滿足ITO方阻值的同時(shí)消除蝕刻陰影,保證顯示效果;由于采用氧化物膜層,在沉積時(shí)只需要通入氧氣這一種反應(yīng)氣體,更換靶材就可以實(shí)現(xiàn)不同膜層的沉積,在一個(gè)腔室里就能夠完成,無需增加額外濺射腔室,減少生產(chǎn)設(shè)備的投入降低成本;另外,對(duì)不同膜層可以連續(xù)沉積,不需要經(jīng)過抽放氣環(huán)節(jié),降低工藝難度,提高了生產(chǎn)效率。
      【附圖說明】
      [0014]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明:
      [0015]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0016]如圖1所示,本實(shí)用新型提供一種消影導(dǎo)電玻璃,包括玻璃基板I,玻璃基板I頂面由下至上依次設(shè)有S12膜層2、IT0膜層3與高折射率膜層4,所述高折射率膜層4為Nb2O5膜層或T12膜層。作為優(yōu)選的,玻璃基板I采用鈉鈣基基片玻璃或硅硼基基片玻璃,玻璃基板I的厚度為0.3mm?1.1mm;所述Nb205膜層或Ti02膜層的厚度可以為5nm?30nm;Si02膜層2的厚度為1nm?lOOnm; ITO膜層3的厚度為1nm?SOnm13S12膜層2、ITO膜層3與高折射率膜層4均采用磁控濺射方式沉積,在實(shí)際制作中,先將ITO膜層3制備于S12膜層2上,保證ITO的方阻值達(dá)標(biāo),然后再根據(jù)ITO方阻和成膜效果去調(diào)節(jié)Nb2O5或T12膜的消影效果,從而有效消除刻蝕陰影。由于采用氧化物膜層,在沉積時(shí)只需要通入氧氣這一種反應(yīng)氣體,更換靶材就可以實(shí)現(xiàn)不同膜層的沉積,在一個(gè)腔室里就能夠完成,無需增加額外濺射腔室,減少生產(chǎn)設(shè)備的投入降低成本;另外,對(duì)不同膜層可以連續(xù)沉積,不需要經(jīng)過抽放氣環(huán)節(jié),降低工藝難度,提尚了生廣效率。
      [0017]以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制;任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種消影導(dǎo)電玻璃,包括玻璃基板,玻璃基板上依次設(shè)有S12膜層、ITO膜層與高折射率膜層,其特征在于,所述高折射率膜層為Nb2O5膜層或T12膜層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述玻璃基板采用鈉鈣基基片玻璃或硅硼基基片玻璃,玻璃基板的厚度為0.3mm?1.1mm。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種消影導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述Nb2O5膜層或T12膜層的厚度為5nm?30nmo4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種消影導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述S12膜層的厚度為1nm?10nmο5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種消影導(dǎo)電玻璃,其特征在于,所述ITO膜層的厚度為1nm?50nmo
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種消影導(dǎo)電玻璃,包括玻璃基板,玻璃基板上依次設(shè)有SiO2膜層、ITO膜層與高折射率膜層,所述高折射率膜層為Nb2O5膜層或TiO2膜層;采用Nb2O5膜層或TiO2膜層作為高折射率膜層,在滿足ITO方阻值的同時(shí)消除蝕刻陰影,保證顯示效果;由于采用氧化物膜層,在沉積時(shí)只需要通入氧氣這一種反應(yīng)氣體,更換靶材就可以實(shí)現(xiàn)不同膜層的沉積,在一個(gè)腔室里就能夠完成,無需增加額外濺射腔室,減少生產(chǎn)設(shè)備的投入降低成本;另外,對(duì)不同膜層可以連續(xù)沉積,不需要經(jīng)過抽放氣環(huán)節(jié),降低工藝難度,提高了生產(chǎn)效率。
      【IPC分類】C03C17/34
      【公開號(hào)】CN205241512
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521092793
      【發(fā)明人】李剛, 蔣繼文, 金克武, 曹欣, 張寬翔, 楊勇, 姚婷婷, 王蕓, 徐根保
      【申請(qǐng)人】蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院
      【公開日】2016年5月18日
      【申請(qǐng)日】2015年12月25日
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