本發(fā)明涉及一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，屬于大豆肽生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
大豆肽具有無(wú)豆腥味、無(wú)蛋白變性、酸性不沉淀、加熱不凝固、易溶于水、流動(dòng)性好等良好的加工性能，是優(yōu)良的保健食品素材。大豆肽是大豆蛋白質(zhì)經(jīng)酸法或酶法水解或分離、精制而得到的多肽混合物，以小分子肽為主，還含有少量大分子肽、游離氨基酸、糖類和無(wú)機(jī)鹽等成份，大豆肽中的氨基酸組成與大豆蛋白非常接近，但是由于大豆肽的分子量比較小，更容易被吸收，其中某些低分子肽還能夠起到獨(dú)特的生理功能。
現(xiàn)有技術(shù)中采用將大豆蛋白殺菌、酶解、分離、濃縮后，通過(guò)冷凍干燥設(shè)備，即在真空環(huán)境中將液體物料中水分從固態(tài)升華成氣態(tài)，以去除水分制成大豆肽粉末，而現(xiàn)有技術(shù)中冷凍干燥裝置采用不同多層料盤結(jié)構(gòu)，大型生產(chǎn)過(guò)程中物料層高度較高，置料費(fèi)事費(fèi)力，且冷凍干燥過(guò)程中難以控制各層之間間距，增加了制冷和干燥壓力，從而降低生產(chǎn)效率，能耗較大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，使用方便穩(wěn)定、可調(diào)節(jié)層間距、方便擺放物料和冷干操作，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)能耗。
本發(fā)明是通過(guò)如下的技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)的：
一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，包括干燥室、水氣冷凝器和真空泵，其中，所述干燥室、水氣冷凝器和真空泵通過(guò)管路連接，且管路上設(shè)有閥門，所述干燥室一側(cè)設(shè)有封門，另一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)上設(shè)有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸端部穿過(guò)干燥室，且設(shè)有第一傘齒，所述干燥室底部設(shè)有制冷器，所述干燥室內(nèi)壁上設(shè)有定位座和若干制冷管，若干制冷管與制冷器相連，所述定位座上設(shè)有若干凸起，所述干燥室內(nèi)底部設(shè)有滑軌，所述滑軌上設(shè)有置料架；
所述置料架包括底板和若干置料層，所述底板底部設(shè)有若干滑輪，所述滑輪與滑軌配合使用，所述底板一側(cè)設(shè)有定位凸起，所述定位凸起上設(shè)有若干凹槽，所述凹槽與定位座凸起配合，所述底板頂部設(shè)有支撐座和若干導(dǎo)向桿，所述支撐座內(nèi)設(shè)有中心柱，所述中心柱頂部穿過(guò)若干置料層，且設(shè)有第二傘齒，所述第二傘齒與第一傘齒配合使用，所述中心柱外設(shè)有外螺紋，所述外螺紋兩端分別設(shè)有上限位環(huán)和下限位環(huán)，所述導(dǎo)向桿頂部設(shè)有擋板；
若干置料層呈一列均勻間隔設(shè)置，位于頂部的置料層內(nèi)設(shè)有通孔，所述通孔內(nèi)壁上設(shè)有內(nèi)螺紋，所述內(nèi)螺紋與外螺紋配合使用，所述置料層包括托料盤和加熱層，所述加熱層兩端與導(dǎo)向桿之間設(shè)有導(dǎo)向套，所述加熱層兩側(cè)設(shè)有滑道，相鄰置料層的滑道之間設(shè)有第一連接板和第二連接板，相鄰第一連接板和第二連接板端部鉸接，所述第一連接板和第二連接板相互交叉設(shè)置，且交叉處鉸接，所述第一連接板和第二連接板兩端與滑道之間均設(shè)有滾輪。
上述一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，其中，所述干燥室上設(shè)有真空表和測(cè)溫計(jì)。
上述一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，其中，所述滑道兩端到加熱層邊緣的垂直距離均為d1，所述加熱層長(zhǎng)度為d2，d1：d2=3:10。
本發(fā)明的有益效果為：
本發(fā)明結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)精密，設(shè)計(jì)合理緊湊，通過(guò)滾輪與滑軌配合，方便置料架抽出放料，定位凸起的凹槽與定位座凸起配合，方便限位，使第一傘齒和第二傘齒位置配合，旋轉(zhuǎn)電機(jī)帶動(dòng)第一傘齒旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)第二傘齒旋轉(zhuǎn)驅(qū)使中心柱在支撐座內(nèi)旋轉(zhuǎn)，使內(nèi)螺紋與外螺紋配合相對(duì)旋轉(zhuǎn)，控制頂部的置料層上升或下降，通過(guò)第一連接板和第二連接板帶動(dòng)下方的置料層聯(lián)動(dòng)，滾輪在滑道內(nèi)移動(dòng)，滑道尺寸設(shè)計(jì)利于限位，從而改變相鄰置料層的間距，并通過(guò)導(dǎo)向套在導(dǎo)向柱外移動(dòng)，保證運(yùn)行平穩(wěn)和方向性一致，放料時(shí)可以縮小層間距，降低放料難度，冷凍干燥時(shí)，真空泵保持干燥室內(nèi)真空度，可以增加層間距，水氣冷凝器放出冷凝水，保證充分冷凍干燥，降低能耗，提高加工效率。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
（圖中，干燥室23、水氣冷凝器24和真空泵25，管路26,閥門27,真空表28，測(cè)溫計(jì)29,封門30，旋轉(zhuǎn)電機(jī)31，轉(zhuǎn)軸32，第一傘齒33，制冷器34，定位座35,制冷管36，凸起37，滑軌38，置料架39,底板1,置料層2，滑輪3，定位凸起4，凹槽5，支撐座6,導(dǎo)向桿7，中心柱8，第二傘齒9，外螺紋10，上限位環(huán)11，下限位環(huán)12，擋板13,通孔14，內(nèi)螺紋15，托料盤16，加熱層17，導(dǎo)向套18，滑道19，第一連接板20，第二連接板21，滾輪22）。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步說(shuō)明。
一種低能耗的大豆肽生產(chǎn)用冷凍干燥裝置，包括干燥室、水氣冷凝器和真空泵，其中，所述干燥室、水氣冷凝器和真空泵通過(guò)管路連接，且管路上設(shè)有閥門，所述干燥室上設(shè)有真空表和測(cè)溫計(jì)，所述干燥室一側(cè)設(shè)有封門，另一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)上設(shè)有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸端部穿過(guò)干燥室，且設(shè)有第一傘齒，所述干燥室底部設(shè)有制冷器，所述干燥室內(nèi)壁上設(shè)有定位座和若干制冷管，若干制冷管與制冷器相連，所述定位座上設(shè)有若干凸起，所述干燥室內(nèi)底部設(shè)有滑軌，所述滑軌上設(shè)有置料架；
所述置料架包括底板和若干置料層，所述底板底部設(shè)有若干滑輪，所述滑輪與滑軌配合使用，所述底板一側(cè)設(shè)有定位凸起，所述定位凸起上設(shè)有若干凹槽，所述凹槽與定位座凸起配合，所述底板頂部設(shè)有支撐座和若干導(dǎo)向桿，所述支撐座內(nèi)設(shè)有中心柱，所述中心柱頂部穿過(guò)若干置料層，且設(shè)有第二傘齒，所述第二傘齒與第一傘齒配合使用，所述中心柱外設(shè)有外螺紋，所述外螺紋兩端分別設(shè)有上限位環(huán)和下限位環(huán)，所述導(dǎo)向桿頂部設(shè)有擋板；
若干置料層呈一列均勻間隔設(shè)置，位于頂部的置料層內(nèi)設(shè)有通孔，所述通孔內(nèi)壁上設(shè)有內(nèi)螺紋，所述內(nèi)螺紋與外螺紋配合使用，所述置料層包括托料盤和加熱層，所述加熱層兩端與導(dǎo)向桿之間設(shè)有導(dǎo)向套，所述加熱層兩側(cè)設(shè)有滑道，所述滑道兩端到加熱層邊緣的垂直距離均為d1，所述加熱層長(zhǎng)度為d2，d1：d2=3:10，相鄰置料層的滑道之間設(shè)有第一連接板和第二連接板，相鄰第一連接板和第二連接板端部鉸接，所述第一連接板和第二連接板相互交叉設(shè)置，且交叉處鉸接，所述第一連接板和第二連接板兩端與滑道之間均設(shè)有滾輪。
本發(fā)明的工作方式為：
通過(guò)滾輪與滑軌配合，方便置料架抽出放料，定位凸起的凹槽與定位座凸起配合，方便限位，使第一傘齒和第二傘齒位置配合，旋轉(zhuǎn)電機(jī)帶動(dòng)第一傘齒旋轉(zhuǎn)，帶動(dòng)第二傘齒旋轉(zhuǎn)驅(qū)使中心柱在支撐座內(nèi)旋轉(zhuǎn)，使內(nèi)螺紋與外螺紋配合相對(duì)旋轉(zhuǎn)，控制頂部的置料層上升或下降，通過(guò)第一連接板和第二連接板帶動(dòng)下方的置料層聯(lián)動(dòng)，滾輪在滑道內(nèi)移動(dòng)，滑道尺寸設(shè)計(jì)利于限位，從而改變相鄰置料層的間距，并通過(guò)導(dǎo)向套在導(dǎo)向柱外移動(dòng)，保證運(yùn)行平穩(wěn)和方向性一致，放料時(shí)可以縮小層間距，降低放料難度，冷凍干燥時(shí)，真空泵保持干燥室內(nèi)真空度，可以增加層間距，水氣冷凝器放出冷凝水。
以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。