專利名稱：用于修復(fù)基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于修復(fù)基&上密封圖案的缺陷的修復(fù)方法。
背景技術(shù)：
涂膠機是在制造各類平板顯示器(FPDs)時，將密封膠以預(yù)定圖案 施加到U1上，從而粘結(jié)或密封基仗的裝置。
這種涂膠機包括托臺(stage )、頭單元、頭支承件和X軸驅(qū)動單元。 在該托臺上安裝有J^。該頭單元上安裝有用于排出密封膠的噴嘴。該 頭單元支承在頭支承件上。該X軸驅(qū)動單元設(shè)置在頭單元和頭支承件之 間，并沿頭支承件的外推線(extrapolated line)所在的方向(X軸方向) 移動該頭單元。該涂膠機設(shè)置有多個頭單元，它們同時在大面積的^ 上形成多個密封圖案，從而提高了生產(chǎn)率。
該涂膠;MLS4SL上形成密封圖案，同時調(diào)節(jié)噴嘴和141之間的間隙。 為此，該頭單元設(shè)置有用于測量噴嘴和^L之間的間隙數(shù)據(jù)的激光位移 傳感器，和用于沿Z軸方向(垂直方向)移動噴嘴和該激光位移傳感器 的Z軸驅(qū)動單元。
該激光位移傳感器包括發(fā)射激光的發(fā)射部分和與該發(fā)射部分間隔預(yù) 定距離并接收激光的接收部分。該激光位移傳感器將電信號輸出到控制 單元，以測量基板和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)，該電信號相應(yīng)于從發(fā)射部分 發(fā)出、并在基板上>^射的大量光的成傳*位置而產(chǎn)生。
這種涂膠;M^i4i上形成預(yù)定密封圖案，同時改變基板和噴嘴之間的 相對位置。也就是，在將頭單元安裝到頭支承件上的狀態(tài)下，該頭單元
沿X軸方向和Y軸方向水平移動，并將密封膠排出到基板上。在將密封 膠施加到J41上的同時，激光位移傳感器測量噴嘴和^L之間的間隙數(shù) 據(jù)。
而且，基于由激光位移所測量的間隙數(shù)據(jù)，安裝到頭單元上的噴嘴沿Z軸方向移動，并控制噴嘴和^L之間的間隙，使得該間隙恒定。在此狀 態(tài)下，將密封膠從噴嘴排出到基tl上，從而在基板上形成密封圖案。
當(dāng)完成密封圖案的形成時，施加有密封膠的基板經(jīng)歷檢驗過程。在該 過程中，檢驗^L以確定密封圖案的厚度是否在預(yù)定范圍內(nèi)，并且密封 圖案是否是不連續(xù)的。為了確定基&上的密封圖案的缺陷區(qū)域，利用激 光傳感器掃描基板的整個表面，以測量施加密封膠的截面積，或者用照 相機拍攝密封圖案，以確定密封圖案是否是不連續(xù)的。
這樣，通常為了確定密封圖案是否有缺陷，就必須將具有密封圖案的 !41運送到檢驗過程。而且，必須利用輔助檢^i殳備確定密封圖案是否 是不連續(xù)的，或者確定密封圖案的厚度是否在預(yù)定范圍內(nèi)，以致檢驗密 封圖案的過程較復(fù)雜且無法快速進(jìn)行。
而且，當(dāng)在密封圖案的抬r驗過程中確定密封圖案有缺陷時，必須利用 涂膠機再次將具有缺陷密封圖案的141運送到輔助施加過程，從而在基 板上執(zhí)行修復(fù)操作。于是，不可能快速修復(fù)施加有缺陷密封圖案的基板。
因此，現(xiàn)有技術(shù)是有問題的在于，檢驗或修復(fù)有缺陷的密封圖案的過 程是復(fù)雜的，并需要較長時間，以致難于大批量生產(chǎn)產(chǎn)品，并且增加了 制造成本。
而且，常規(guī)修復(fù)過程是有問題的在于，即使在密封圖案形成之后，僅 有某些區(qū)域具有缺陷(密封圖案的不連續(xù)或不適當(dāng)?shù)暮穸鹊鹊?，也要重 新施加密封圖案形成在其上的所有區(qū)域，從而無法精確修復(fù)缺陷，并且 由于密封膠的重復(fù)施加可能導(dǎo)致出現(xiàn)其它缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
因此，考慮到出現(xiàn)在現(xiàn)有技術(shù)中的問題，已經(jīng)作出本發(fā)明，并且本發(fā) 明的目的是提供一種^L修復(fù)方法，該方法僅修復(fù)基仗上具有缺陷密封 圖案的一部分區(qū)域，從而精確地修復(fù)缺陷部分，并使其它缺陷部分的出 現(xiàn)最小化。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種用于修a^L的方法，包括第一 步相對于基&上的密封圖案指定修復(fù)區(qū)域，和第二步將密封膠施加 到第一步中指定的修復(fù)區(qū)域上。該第二步包括(a)步驟測量^L和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)，及(b) 步驟根據(jù)在U)步驟中測量到的基板和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)，在保持 基仗和噴嘴之間的間隙恒定的同時，將密封膠施加到修復(fù)區(qū)域上。
而且，第二步包括(a)步驟在與第一步中指定的1務(wù)復(fù)區(qū)域相鄰的 區(qū)域中，測量a和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)，及(b)步驟根據(jù)(a)步 驟中測量到的141和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)，在保持基板和噴嘴之間的間 隙恒定的同時，將密封膠施加到修復(fù)區(qū)域上。(a)步驟在與第一步中指 定的修復(fù)區(qū)域平行的線中，測量基仗和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)。
同時，當(dāng)?shù)谝徊街兴鶞y量的修復(fù)區(qū)域包括多個修復(fù)區(qū)域，并且該多個 修復(fù)區(qū)域之間的間隔為預(yù)定間隔或更小時，第二步就連續(xù)將密封膠施加 到這多個修復(fù)區(qū)域上。
第一步在將密封膠施加到基仗上時，確定測量到的噴嘴和^之間的 間隙數(shù)據(jù)是否偏離基準(zhǔn)范圍，并將該測量到的間隙數(shù)據(jù)偏離基準(zhǔn)范圍的 區(qū)域指定為修復(fù)區(qū)域。


從下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述中，將更清楚地理解本發(fā)明的上述和其它 目的、特征和優(yōu)點，其中
圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的立體圖2是示出了圖l所示涂膠機的頭單元的立體圖3是示出了噴嘴和M之間的間隙數(shù)據(jù)的波形圖表,該間隙數(shù)據(jù)由 圖1所示涂膠機的激光位移傳感器測量；
圖4是示出了在^1上的指定修復(fù)區(qū)域的圖表；
圖5是示出了用于在基fcl上指定修復(fù)區(qū)域的方法的流程圖6是示出了用于測量^41和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)以修復(fù)該^L的 位置的示意圖；及
圖7是連續(xù)示出了根據(jù)本發(fā)明所述的^修復(fù)方法的流程圖。
具體實施例方式
下文中，將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例所述的^L修復(fù)方法。
圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的立體圖，并且圖2是示出了 圖1所示涂膠機的頭單元的立體圖。
如圖1中所示，根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機包括1^框架10、托臺30、 一對線性導(dǎo)引件40、頭支承件50、多個頭單元60、 X軸驅(qū)動單元70和 控制單元(未示出)。托臺30固定到基礎(chǔ)框架10上，并且基板20設(shè)置 在托臺30上。線性導(dǎo)引件40沿Y軸方向安裝在托臺30的兩側(cè)上。將該 頭支承件50安裝成由這對線性導(dǎo)引件40支承，并沿X軸方向延伸。多 個頭單元60安裝到頭支承件50上。除了沿X軸方向水平移動頭單元60 之外，每個X軸驅(qū)動單元70還都起到將相關(guān)的頭單元60安裝到頭支承 件50上的作用。控制單元對頭單元60和X軸驅(qū)動單元70的^Mt進(jìn)行控 制。
第一驅(qū)動裝置(未示出)可以設(shè)置在基礎(chǔ)框架10上，以便沿基礎(chǔ)框 架10的Y軸方向移動托臺30，并且第二驅(qū)動裝置59可以設(shè)置在頭支承 件50上，以便沿線性導(dǎo)引件40移動該頭支承件50。在基fe!20具有較大 面積的情況下，可安裝多個頭支承件50，以提高密封圖案形成過程的效 率。
如圖2中所示，每個頭單元60都包括填充有密封膠的注射器61，與 該注射器61連通并排出密封膠的噴嘴62,放置在噴嘴62附近、并測量 噴嘴62和基板20之間的間隙數(shù)據(jù)的激光位移傳感器63，沿Y軸方向移 動噴嘴62和激光位移傳感器63的Y軸驅(qū)動單元64，及沿Z軸方向移動 噴嘴62和激光位移傳感器63的Z軸驅(qū)動單元65。
該激光位移傳感器63包括發(fā)射激光的發(fā)射部分631，和與該發(fā)射部 分631間隔預(yù)定距離、并接ijt^41 20反射的激光的接收部分632。該 激光位移傳感器63將電信號輸出到控制單元，以測量141 20和噴嘴62 之間的間隙數(shù)據(jù)，該電信號相應(yīng)于M射部分631發(fā)射、并在^4120上 反射的大量光的成像位置而產(chǎn)生。
而且，可在每個頭單元60上安裝截面積傳感器66，以測量施加到基板20上的密封圖案P的截面積。截面積傳感器66將激光連續(xù)發(fā)射到基 板20，以掃描密封圖案P，從而測量密封圖案P的截面積。由截面積傳 感器66測量的密封圖案P的截面積數(shù)據(jù)用于確定密封圖案P是否有缺 陷。
下文中，當(dāng)利用如上所述構(gòu)造的根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機施加到a 上的密封圖案有缺陷時，將參照圖3至7描述修復(fù)該基板的方法。
圖3是示出了噴嘴和^L之間的間隙數(shù)據(jù)的波形圖表，該間隙數(shù)據(jù)由 根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的激光位移傳感器測量，圖4是示出了在密封 圖案形成在其上的基板上指定修復(fù)區(qū)域的圖表，圖5是示出了用于在密 封圖案形成在其上的基板上指定修復(fù)區(qū)域的方法的流程圖，圖6是示出 了用于測量基板和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)以修a^l的位置的示意圖。
根據(jù)本發(fā)明所述的14SL修復(fù)方法包括，在基仗20的密封圖案上指定 修復(fù)區(qū)域，并將密封膠重新施加到該指定的修復(fù)區(qū)域上。
此處，作為用于在具有缺陷密封圖案的基敗20上指定修復(fù)區(qū)域的方 法的一個實施例，提出了一種利用在密封膠施加過程期間測量的^ 20 和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)的方法。
如圖3中所示，當(dāng)每個頭單元60都沿X軸方向和Y軸方向移動，從 而將密封膠施加到基板20上時，激光位移傳感器63測量到的間隙數(shù)據(jù) 沿密封膠施加的行進(jìn)方向上畫出波形。在步驟S12中，將測量到的間隙 數(shù)據(jù)與預(yù)設(shè)基準(zhǔn)范圍相比較，并確^S^L 20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù) 是否在基準(zhǔn)范圍之內(nèi)。
此處，可從當(dāng)未將密封膠準(zhǔn)確地施加到基板20上以致密封圖案P不 連續(xù)或者所施加的密封膠的厚度未達(dá)到基準(zhǔn)值時，由激光位移傳感器63 測量的^41 20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，根據(jù)試驗獲得基準(zhǔn)范圍R。 也就是，隨著基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)改變，來分析密封圖案 的形狀變化。當(dāng)密封圖案有缺陷時，測量基敗20和噴嘴62之間的間隙， 從而確t基準(zhǔn)范圍R。
而且，如圖4中所示，在步驟S13中，將基&20和噴嘴62之間的間 隙數(shù)據(jù)不在基準(zhǔn)范圍R內(nèi)的區(qū)域指定為^L20的待修復(fù)區(qū)域，即修復(fù)區(qū) 域S。假設(shè)將激光位移傳感器63所測量的間隙數(shù)據(jù)開始偏離基準(zhǔn)值R的位置指定為該區(qū)域的起始位置Pi，并將偏離基準(zhǔn)值R的所測量的間隙數(shù) 據(jù)返回基準(zhǔn)值R的位置指定為終止位置Pf，可將vM^始位置Pi到終止位 置Pf的區(qū)域設(shè)定為修復(fù)區(qū)域S。該修復(fù)區(qū)域S可以通過計算起始位置Pi 的坐標(biāo)(Xi, Yi)和終止位置Pf的坐標(biāo)(Xf， Yf)的過程來設(shè)置。
同時，當(dāng)指定修復(fù)區(qū)域S時，執(zhí)行用于將密封膠重新施加到相關(guān)的 修復(fù)區(qū)域S的修復(fù)過程。也就是，當(dāng)每個頭單元60都沿X軸方向和Y 軸方向水平移動，以使噴嘴62達(dá)到修復(fù)區(qū)域的起始位置Pi時，噴嘴62 將密封膠排出并施加到修復(fù)區(qū)域S。隨后，當(dāng)密封膠施加噴嘴62到達(dá)修 復(fù)區(qū)域S的終止位置Pf時，完成密封膠的排出。
在噴嘴62 —到達(dá)J務(wù)復(fù)區(qū)域S的起始位置Pi就排出密封膠的情況下， 由于每個頭單元60的移動速度和通過噴嘴62排出密封膠的il^之間存 在差異，因此可能無法立即將密封膠施加到修復(fù)區(qū)域S的起始位置Pi， 但是在通it^始位置Pi之后就可以施加密封膠了。于是，優(yōu)選地，將噴 嘴62與起始位置Pi間隔預(yù)定距離的位置處指定為排出起始位置，并且當(dāng) 噴嘴到達(dá)該排出起始位置時就排出密封膠。在此情況下，該排出起始位 置可以沿噴嘴62的移動方向位于修復(fù)區(qū)域S的起始位置Pi之前。然而， 如果需要的話，該排出起始位置也可以位于起始位置Pi之后。
同時，在噴嘴62—到達(dá)修復(fù)區(qū)域S的終止位置Pf，就完成密封膠的 排出的情況下，由于每個頭單元60的移動速度和通過噴嘴62排出密封 膠的速度之間存在差異，因此在修復(fù)區(qū)域S的終止位置Pf處可能不立刻 完成密封膠的排出，并且密封膠的排出可以在通過終止位置Pf之后完成。 因此，優(yōu)選地，將噴嘴62與終止位置Pf間隔預(yù)定i 巨離的位置處指定為 排出終止位置，并且當(dāng)噴嘴62到達(dá)該排出終止位置時，完成密封膠的排 出。該排出終止位置可以沿噴嘴62的移動方向位于修復(fù)區(qū)域S的終止位 置Pf之前。然而，如果需要的話，該排出終止位置也可以位于終止位置 Pf之后。
同時，在密封圖案上可以設(shè)置多個修復(fù)區(qū)域S。當(dāng)修復(fù)區(qū)域S之間的 距離較小時，在修復(fù)區(qū)域s之間，密封膠不連續(xù)或者密封膠的厚度有缺 陷是極為可能的。而且，當(dāng)修復(fù)區(qū)域S之間的距離D較小時，前一修復(fù) 區(qū)域S的排出終止位置和后一修復(fù)區(qū)域S的排出起始位置之間的時間間 隔較短。因此，當(dāng)完成密封膠的排出，并隨后重新開始時，就可能產(chǎn)生錯誤。由于這種錯誤，修復(fù)過程、也就是重新施加密封膠的過程就可能 無法順利進(jìn)行。
因此，當(dāng)多個修復(fù)區(qū)域s之間的時間間隔較小，也就是前一修復(fù)區(qū) 域s的排出終止位置和后一修復(fù)區(qū)域s的排出起始位置之間的間隔處于 預(yù)設(shè)范圍內(nèi)時，將前一修復(fù)區(qū)域s和后一修復(fù)區(qū)域s指定為一個修復(fù)區(qū) 域s是優(yōu)選的。
同時，測量到的間隙數(shù)據(jù)可能因外部環(huán)境導(dǎo)致的噪音而偏離基準(zhǔn)范 圍。在此情況下，間隙數(shù)據(jù)畫出波形，該波形在相對窄的間隔內(nèi)波動較 少次。當(dāng)將噪音導(dǎo)致的間隙數(shù)據(jù)的波動區(qū)域指定為修復(fù)區(qū)域時，甚至?xí)?將密封膠施加到不具有缺陷密封圖案的區(qū)域上，從而導(dǎo)致密封膠的不必 要的浪費，并因密封膠的重復(fù)施加導(dǎo)致出現(xiàn)另一個缺陷部分。于是，當(dāng)
偏離基準(zhǔn)范圍R預(yù)設(shè)間隔(例如，大約10毫米)內(nèi)的間隙數(shù)據(jù)的波動波
形為預(yù)定次數(shù)或更少(例如，大約三至四次)時，這^:視為由噪音導(dǎo)致 的波動，并且確定測量到的間隙數(shù)據(jù)并不偏離基準(zhǔn)范圍。于是，不將其 指定為修復(fù)區(qū)域s。
同時，為了指定將在基板20上修復(fù)的修復(fù)區(qū)域S，本發(fā)明利用了基 板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)。然而，在不局限于該方法的情況下， 本發(fā)明可以利用截面積傳感器、激光傳感器、照相機和其它裝置，來確 定不連續(xù)的或具有不適當(dāng)厚度的密封圖案P的缺陷部分，從而指定該修 復(fù)區(qū)域S。
如上所述，當(dāng)指定位于基板20上的修復(fù)區(qū)域S時，執(zhí)行將密封膠重 新施加到相關(guān)修復(fù)區(qū)域S上的修復(fù)過程。此處，當(dāng)修復(fù)區(qū)域S之間的間 隔D為預(yù)設(shè)間隔或更小時，將密封膠連續(xù)施加到多個修復(fù)區(qū)域S上，以 修復(fù)該修復(fù)區(qū)域S。
當(dāng)將密封膠施加到位于基板20上的修復(fù)區(qū)域S上時，可以不測量基 板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)就施加密封膠。然而，為了防止在修復(fù) 過程之后在密封圖案中再次出現(xiàn)缺陷，優(yōu)選地，利用激光位移傳感器63 測量基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，并且根據(jù)如上所述測量到的基 板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，在保持基板20和噴嘴62之間的間隙 恒定的同時，施加密封膠。此處，在密封圖案P在修復(fù)區(qū)域s中不連續(xù)的情況下，不將密封膠 施加到^L 20上或者將少量密封膠施加到J^L 20上。于是，就^(象處于 在修復(fù)之前首先在基板20上形成密封圖案P的過程中一樣，測量位于修 復(fù)區(qū)域S中的基tl 20和噴嘴62之間的間隙翁:據(jù)，并且在利用測量到的 間隙數(shù)據(jù)，保持基t!20和噴嘴62之間的間隙恒定的同時，將密封膠重 新施加到修復(fù)區(qū)域S上。以此方式，執(zhí)行修復(fù)過程。
在修復(fù)區(qū)域S上的密封圖案的厚度不適當(dāng)?shù)那闆r下，已將密封膠施 加到^4SL20上，以致利用激光位移傳感器63無法順利測量基波20和噴 嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，并且測量的準(zhǔn)確性可能較低。
于是，如圖6和7中所示，當(dāng)在步驟S21中將修復(fù)區(qū)域S指定用于 基板20上密封圖案的有缺陷部分時，就在步驟S22中，修:1^板20之 前，也就是，將密封膠施加到基板20上的修復(fù)區(qū)域S上之前，在與修復(fù) 區(qū)域S相鄰的區(qū)域測量基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)。在步驟S23 中，基于所測量的間隙數(shù)據(jù)，在修復(fù)區(qū)域S中的基板20和噴嘴62之間 的間隙保持恒定的同時，將密封膠施加到基敗20上的修復(fù)區(qū)域S上。優(yōu) 選地，將與該修復(fù)區(qū)域S相鄰的區(qū)域定位在平行于修復(fù)區(qū)域S的線上， 從而提高了對于基tl 20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)進(jìn)行測量的準(zhǔn)確性。
根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的修復(fù)區(qū)域指定方法利用了在將密封膠施 加到基板20上時測量到的基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，從而快速 指定修復(fù)區(qū)域S。
而且，根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的^SL修復(fù)方法^M^i4l20上具有 密封圖案P的缺陷部分的修復(fù)區(qū)域S上執(zhí)行修復(fù)操作，從而精確修復(fù)有 缺陷部分，并且使得因密封膠的重復(fù)施加所導(dǎo)致的其它缺陷部分的出現(xiàn) 最小化。
而且，根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的^SL修復(fù)方法測量修復(fù)區(qū)域S中 的基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，并且在利用所測量的間隙數(shù)據(jù)， 保持^L 20和噴嘴62之間的間隙恒定的同時，將密封膠重新施加到修 復(fù)區(qū)域S上，從而可精確修J^板20。
而且，根據(jù)本發(fā)明所述的涂膠機的^41修復(fù)方法在與修復(fù)區(qū)域S相 鄰的區(qū)域測量基板20和噴嘴62之間的間隙數(shù)據(jù)，并在基于測量到的間隙數(shù)據(jù)，保持修復(fù)區(qū)域S中的14120和噴嘴62之間的間隙恒定的同時， 將密封膠施加到基tl 20的修復(fù)區(qū)域S上，從而可更精確地修^Oj板20。
根據(jù)本發(fā)明所述的^jfel修復(fù)方法的優(yōu)點在于，僅修復(fù)Ul上具有缺陷 密封圖案的區(qū)域，從而可精確地修復(fù)有缺陷部分，并且可以使因密封膠的 重復(fù)施加所導(dǎo)致的其它缺陷部分的出現(xiàn)最小化。
此處描述的本發(fā)明的各實施例可以獨立實施或者彼此組合實施。盡管 已經(jīng)出于說明性的目的公開了本發(fā)明的各優(yōu)選實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù) 人員將認(rèn)識到，在不背離如所附權(quán)利要求中公開的本發(fā)明的范圍和精神 的情況下，可進(jìn)行多種修改、添加和刪減。
權(quán)利要求
1. 一種用于修復(fù)基板的方法，所述方法包括第一步驟相對于位于所述基板上的密封圖案指定修復(fù)區(qū)域；及第二步驟將密封膠施加到在所述第一步驟中指定的所述修復(fù)區(qū)域上。
2. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中所述第二步驟包括(a) 步驟測量所述修復(fù)區(qū)域中的基板和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)；及(b) 步驟根據(jù)所述(a)步驟中測量到的基板和噴嘴之間的所述間 隙數(shù)據(jù)，在保持Ul和噴嘴之間的間隙恒定的同時，將密封膠施加到所述 修復(fù)區(qū)域上。
3. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中所述第二步驟包括(a) 步驟在與所述第一步驟中指定的所述修復(fù)區(qū)域相鄰的區(qū)域中，測量R和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)；及(b) 步驟根據(jù)所述(a)步驟中測量到的基板和噴嘴之間的所述間 隙數(shù)據(jù)，在保持^SL和噴嘴之間的間隙恒定的同時，將密封膠施加到所述 修復(fù)區(qū)域上。
4. 如權(quán)利要求3中所述的方法，其中(a)步驟在與所述第一步驟中指定的所述4務(wù)復(fù)區(qū)域平行的線中，測量 ;S^L和噴嘴之間的間隙數(shù)據(jù)。
5. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中當(dāng)在所述第一步驟中所測量的所述修復(fù)區(qū)域包括多個修復(fù)區(qū)域，并且 所述多個修復(fù)區(qū)域之間的間隔為預(yù)定間隔或更小時，所述第二步驟連續(xù)將 密封膠施加到所述多個修復(fù)區(qū)域上。
6. 如權(quán)利要求1至5中任一項所述的方法，其中所述第一步驟確定在 將密封膠施加到基feL上時測量到的噴嘴和差jil之間的所述間隙泰:據(jù)是否 偏離基準(zhǔn)范圍，并將所述測量到的間隙數(shù)據(jù)偏離基準(zhǔn)范圍的區(qū)域指定為修 復(fù)區(qū)域。
全文摘要
此處公開的是基板修復(fù)方法。該方法僅修復(fù)基板上具有缺陷密封圖案的修復(fù)區(qū)域，從而允許精確地修復(fù)有缺陷的部分。
文檔編號B05D7/24GK101428265SQ20081018655
公開日2009年5月13日 申請日期2008年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月8日
發(fā)明者方圭龍, 趙容柱 申請人:塔工程有限公司