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      電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯的制作方法

      文檔序號(hào):39979462發(fā)布日期:2024-11-15 14:28閱讀:18來(lái)源:國(guó)知局
      電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯的制作方法

      本發(fā)明涉及回轉(zhuǎn)窯,具體為電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯。


      背景技術(shù):

      1、電極片在回收利用時(shí),需要將電池先從中間鋸開,然后進(jìn)行推電芯操作,這樣就會(huì)得到裸的電芯,用刀將電芯上面的膜劃開,進(jìn)行反卷料,這樣就可以取出正極片和負(fù)極片,電極片需要經(jīng)過(guò)低溫回轉(zhuǎn)窯處理,得到干的電極片,這時(shí)候電極片就會(huì)是均勻的片狀,低溫回轉(zhuǎn)窯是有一定斜度的圓筒狀物,斜度為3~3.5%,借助窯的轉(zhuǎn)動(dòng)來(lái)促進(jìn)物料在窯內(nèi)攪拌軸移輸送,使物料被加熱或進(jìn)行反應(yīng),當(dāng)前行業(yè)中常見(jiàn)的低溫回轉(zhuǎn)窯輸入的高溫保護(hù)氣在對(duì)電極片進(jìn)行加熱后,廢氣會(huì)直接排出到凈化系統(tǒng)中,余熱利用率低,不夠節(jié)能。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本發(fā)明的目的在于提供電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

      2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,包括旋轉(zhuǎn)窯筒,所述旋轉(zhuǎn)窯筒的一端設(shè)置有進(jìn)料窯尾倉(cāng),所述旋轉(zhuǎn)窯筒的另一端設(shè)置有出料窯頭,所述旋轉(zhuǎn)窯筒能夠相對(duì)于進(jìn)料窯尾倉(cāng)和出料窯頭轉(zhuǎn)動(dòng),所述旋轉(zhuǎn)窯筒的出料窯頭所在的一端往下傾斜,所述出料窯頭中固定設(shè)置有加熱噴管,所述加熱噴管與所述旋轉(zhuǎn)窯筒同軸設(shè)置,所述加熱噴管的一端開口,另一端連通設(shè)置有氣體加熱箱,所述氣體加熱箱的外部連通設(shè)置有純凈保護(hù)氣管,所述純凈保護(hù)氣管通過(guò)氣體加熱箱往加熱噴管中輸入保護(hù)氣,使得加熱噴管往旋轉(zhuǎn)窯筒的內(nèi)部噴氣,所述氣體加熱箱用于對(duì)保護(hù)氣進(jìn)行加熱升溫,所述純凈保護(hù)氣管的外部罩設(shè)有熱回收筒體,所述純凈保護(hù)氣管的外表面與熱回收筒體的內(nèi)壁表面之間具有間隙,所述旋轉(zhuǎn)窯筒的內(nèi)壁表面位于靠近進(jìn)料窯尾倉(cāng)所在的一端嵌設(shè)安裝有石棉濾環(huán),所述旋轉(zhuǎn)窯筒的外部設(shè)置有軸流引風(fēng)機(jī),所述旋轉(zhuǎn)窯筒透過(guò)石棉濾環(huán)與軸流引風(fēng)機(jī)連通,所述軸流引風(fēng)機(jī)的輸出端連通設(shè)置有送氣管道,所述送氣管道與所述熱回收筒體連通。

      3、所述熱回收筒體中設(shè)置有便拆槽框,所述便拆槽框的兩側(cè)分別開設(shè)有出風(fēng)孔和進(jìn)風(fēng)孔,所述出風(fēng)孔與純凈保護(hù)氣管的內(nèi)部連通,所述進(jìn)風(fēng)孔與熱回收筒體的內(nèi)部連通,所述便拆槽框中插設(shè)有插拔內(nèi)盒,所述便拆槽框和所述插拔內(nèi)盒之間密封接觸。

      4、所述插拔內(nèi)盒中開設(shè)有送氣腔室和進(jìn)氣腔室;當(dāng)所述插拔內(nèi)盒插入到便拆槽框的內(nèi)部后,所述出風(fēng)孔與所述送氣腔室連通,所述進(jìn)風(fēng)孔與所述進(jìn)氣腔室連通,所述插拔內(nèi)盒的內(nèi)部固定設(shè)置有活塞缸體。

      5、所述活塞缸體的端部嵌設(shè)安裝有第一單向氣閥和第二單向氣閥,所述活塞缸體通過(guò)第一單向氣閥與送氣腔室連通,所述進(jìn)氣腔室通過(guò)第二單向氣閥與活塞缸體連通,所述活塞缸體的內(nèi)部設(shè)置有活塞盤,所述活塞盤遠(yuǎn)離第一單向氣閥和第二單向氣閥所在位置的一側(cè)連接設(shè)置有拉簧,所述拉簧對(duì)活塞盤施加向著遠(yuǎn)離第一單向氣閥和第二單向氣閥所在方向移動(dòng)的彈性拉力。

      6、所述活塞缸體中轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有驅(qū)動(dòng)橫軸,所述驅(qū)動(dòng)橫軸上固定設(shè)置有凸輪,當(dāng)凸輪旋轉(zhuǎn)時(shí)能夠擠壓推動(dòng)活塞盤使得活塞盤軸向移動(dòng),所述驅(qū)動(dòng)橫軸的端部固定設(shè)置有從動(dòng)傘齒,所述從動(dòng)傘齒的外部嚙合設(shè)置有驅(qū)動(dòng)傘齒,所述驅(qū)動(dòng)傘齒上傳動(dòng)安裝有動(dòng)力輸入軸,當(dāng)動(dòng)力輸入軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),能夠帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)橫軸轉(zhuǎn)動(dòng)。

      7、所述凸輪的內(nèi)部插設(shè)有分體內(nèi)軸,所述凸輪的內(nèi)部開設(shè)有施力內(nèi)腔,所述分體內(nèi)軸穿插經(jīng)過(guò)施力內(nèi)腔,所述分體內(nèi)軸的表面固定設(shè)置有彈簧壓環(huán),所述彈簧壓環(huán)的一側(cè)設(shè)置有擠壓彈簧。

      8、所述凸輪的表面開設(shè)有推擠槽,所述分體內(nèi)軸的一端位于推擠槽內(nèi),所述活塞缸體的表面固定設(shè)置有伸縮控制盒,所述伸縮控制盒中設(shè)置有擠壓推板,所述伸縮控制盒能夠控制擠壓推板伸縮移動(dòng)。

      9、所述凸輪的表面貫穿開設(shè)有檢測(cè)通孔,所述活塞缸體上固定設(shè)置有對(duì)射傳感器,當(dāng)所述檢測(cè)通孔與所述對(duì)射傳感器同軸對(duì)應(yīng)時(shí),能夠被對(duì)射傳感器檢測(cè)到,此時(shí)伸縮控制盒驅(qū)動(dòng)擠壓推板伸出,使得擠壓推板插入到推擠槽中,推動(dòng)分體內(nèi)軸軸向移動(dòng)并頂在活塞盤的表面,使得活塞盤與活塞缸體的端部?jī)?nèi)表面密封接觸。

      10、所述旋轉(zhuǎn)窯筒的表面固定設(shè)置有輪帶和大齒圈,所述旋轉(zhuǎn)窯筒的下方設(shè)置有托輪底座,所述托輪底座與輪帶滾動(dòng)配合對(duì)旋轉(zhuǎn)窯筒進(jìn)行支撐。

      11、所述旋轉(zhuǎn)窯筒的表面貫穿開設(shè)有輸出氣槽,所述石棉濾環(huán)對(duì)輸出氣槽進(jìn)行封堵,所述旋轉(zhuǎn)窯筒的外部套設(shè)有環(huán)形密封罩,所述環(huán)形密封罩與所述輸出氣槽連通,所述環(huán)形密封罩與所述進(jìn)料窯尾倉(cāng)固定安裝,所述旋轉(zhuǎn)窯筒能夠相對(duì)于環(huán)形密封罩轉(zhuǎn)動(dòng),所述環(huán)形密封罩與所述軸流引風(fēng)機(jī)連通。

      12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:

      13、本發(fā)明熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,能夠?qū)ε懦霰Wo(hù)氣的余熱進(jìn)行利用,通過(guò)熱能回收預(yù)熱純凈保護(hù)氣管內(nèi)的輸入保護(hù)氣,更加節(jié)能減排。

      14、通過(guò)設(shè)置的便拆槽框、插拔內(nèi)盒和活塞缸體等結(jié)構(gòu)配合,能夠汲取熱回收筒體中的排出保護(hù)氣,輸入到純凈保護(hù)氣管中,當(dāng)電極片某一階段對(duì)保護(hù)氣純度要求不高時(shí),通過(guò)摻雜排出的保護(hù)氣能夠減少保護(hù)氣損耗,降低生產(chǎn)成本;并且本發(fā)明結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)從外部的便捷拆卸和更換,使用方便,維護(hù)成本低。

      15、通過(guò)設(shè)置的分體內(nèi)軸、對(duì)射傳感器和伸縮控制盒等結(jié)構(gòu)配合,能夠在檢測(cè)通孔與對(duì)射傳感器同軸對(duì)應(yīng)時(shí),控制分體內(nèi)軸軸移,擠壓推動(dòng)活塞盤與活塞缸體的端部?jī)?nèi)側(cè)表面接觸密封,從而實(shí)現(xiàn)送氣腔室和進(jìn)氣腔室之間的完全切斷,在電極片要求高純度保護(hù)氣時(shí),能夠避免熱回收筒體中的排出廢氣進(jìn)入純凈保護(hù)氣管中。



      技術(shù)特征:

      1.電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,包括旋轉(zhuǎn)窯筒(1),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的一端設(shè)置有進(jìn)料窯尾倉(cāng)(2),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的另一端設(shè)置有出料窯頭(3),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)能夠相對(duì)于進(jìn)料窯尾倉(cāng)(2)和出料窯頭(3)轉(zhuǎn)動(dòng),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的出料窯頭(3)所在的一端往下傾斜,其特征在于:所述出料窯頭(3)中固定設(shè)置有加熱噴管(4),所述加熱噴管(4)與所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)同軸設(shè)置,所述加熱噴管(4)的一端開口,另一端連通設(shè)置有氣體加熱箱(5),所述氣體加熱箱(5)的外部連通設(shè)置有純凈保護(hù)氣管(6),所述純凈保護(hù)氣管(6)通過(guò)氣體加熱箱(5)往加熱噴管(4)中輸入保護(hù)氣,使得加熱噴管(4)往旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的內(nèi)部噴氣,所述氣體加熱箱(5)用于對(duì)保護(hù)氣進(jìn)行加熱升溫,所述純凈保護(hù)氣管(6)的外部罩設(shè)有熱回收筒體(7),所述純凈保護(hù)氣管(6)的外表面與熱回收筒體(7)的內(nèi)壁表面之間具有間隙,所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的內(nèi)壁表面位于靠近進(jìn)料窯尾倉(cāng)(2)所在的一端嵌設(shè)安裝有石棉濾環(huán)(8),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的外部設(shè)置有軸流引風(fēng)機(jī)(9),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)透過(guò)石棉濾環(huán)(8)與軸流引風(fēng)機(jī)(9)連通,所述軸流引風(fēng)機(jī)(9)的輸出端連通設(shè)置有送氣管道(10),所述送氣管道(10)與所述熱回收筒體(7)連通。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述熱回收筒體(7)中設(shè)置有便拆槽框(701),所述便拆槽框(701)的兩側(cè)分別開設(shè)有出風(fēng)孔(702)和進(jìn)風(fēng)孔(703),所述出風(fēng)孔(702)與純凈保護(hù)氣管(6)的內(nèi)部連通,所述進(jìn)風(fēng)孔(703)與熱回收筒體(7)的內(nèi)部連通,所述便拆槽框(701)中插設(shè)有插拔內(nèi)盒(704),所述便拆槽框(701)和所述插拔內(nèi)盒(704)之間密封接觸。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述插拔內(nèi)盒(704)中開設(shè)有送氣腔室(705)和進(jìn)氣腔室(706);當(dāng)所述插拔內(nèi)盒(704)插入到便拆槽框(701)的內(nèi)部后,所述出風(fēng)孔(702)與所述送氣腔室(705)連通,所述進(jìn)風(fēng)孔(703)與所述進(jìn)氣腔室(706)連通,所述插拔內(nèi)盒(704)的內(nèi)部固定設(shè)置有活塞缸體(707)。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述活塞缸體(707)的端部嵌設(shè)安裝有第一單向氣閥(708)和第二單向氣閥(709),所述活塞缸體(707)通過(guò)第一單向氣閥(708)與送氣腔室(705)連通,所述進(jìn)氣腔室(706)通過(guò)第二單向氣閥(709)與活塞缸體(707)連通,所述活塞缸體(707)的內(nèi)部設(shè)置有活塞盤(710),所述活塞盤(710)遠(yuǎn)離第一單向氣閥(708)和第二單向氣閥(709)所在位置的一側(cè)連接設(shè)置有拉簧(711),所述拉簧(711)對(duì)活塞盤(710)施加向著遠(yuǎn)離第一單向氣閥(708)和第二單向氣閥(709)所在方向移動(dòng)的彈性拉力。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述活塞缸體(707)中轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有驅(qū)動(dòng)橫軸(712),所述驅(qū)動(dòng)橫軸(712)上固定設(shè)置有凸輪(713),當(dāng)凸輪(713)旋轉(zhuǎn)時(shí)能夠擠壓推動(dòng)活塞盤(710)使得活塞盤(710)軸向移動(dòng),所述驅(qū)動(dòng)橫軸(712)的端部固定設(shè)置有從動(dòng)傘齒(714),所述從動(dòng)傘齒(714)的外部嚙合設(shè)置有驅(qū)動(dòng)傘齒(715),所述驅(qū)動(dòng)傘齒(715)上傳動(dòng)安裝有動(dòng)力輸入軸(716),當(dāng)動(dòng)力輸入軸(716)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),能夠帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)橫軸(712)轉(zhuǎn)動(dòng)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述凸輪(713)的內(nèi)部插設(shè)有分體內(nèi)軸(717),所述凸輪(713)的內(nèi)部開設(shè)有施力內(nèi)腔(718),所述分體內(nèi)軸(717)穿插經(jīng)過(guò)施力內(nèi)腔(718),所述分體內(nèi)軸(717)的表面固定設(shè)置有彈簧壓環(huán)(719),所述彈簧壓環(huán)(719)的一側(cè)設(shè)置有擠壓彈簧(720)。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述凸輪(713)的表面開設(shè)有推擠槽(721),所述分體內(nèi)軸(717)的一端位于推擠槽(721)內(nèi),所述活塞缸體(707)的表面固定設(shè)置有伸縮控制盒(722),所述伸縮控制盒(722)中設(shè)置有擠壓推板(723),所述伸縮控制盒(722)能夠控制擠壓推板(723)伸縮移動(dòng)。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述凸輪(713)的表面貫穿開設(shè)有檢測(cè)通孔(724),所述活塞缸體(707)上固定設(shè)置有對(duì)射傳感器(725),當(dāng)所述檢測(cè)通孔(724)與所述對(duì)射傳感器(725)同軸對(duì)應(yīng)時(shí),能夠被對(duì)射傳感器(725)檢測(cè)到,此時(shí)伸縮控制盒(722)驅(qū)動(dòng)擠壓推板(723)伸出,使得擠壓推板(723)插入到推擠槽(721)中,推動(dòng)分體內(nèi)軸(717)軸向移動(dòng)并頂在活塞盤(710)的表面,使得活塞盤(710)與活塞缸體(707)的端部?jī)?nèi)表面密封接觸。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的表面固定設(shè)置有輪帶(101)和大齒圈(102),所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的下方設(shè)置有托輪底座(103),所述托輪底座(103)與輪帶(101)滾動(dòng)配合對(duì)旋轉(zhuǎn)窯筒(1)進(jìn)行支撐。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的表面貫穿開設(shè)有輸出氣槽(801),所述石棉濾環(huán)(8)對(duì)輸出氣槽(801)進(jìn)行封堵,所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)的外部套設(shè)有環(huán)形密封罩(802),所述環(huán)形密封罩(802)與所述輸出氣槽(801)連通,所述環(huán)形密封罩(802)與所述進(jìn)料窯尾倉(cāng)(2)固定安裝,所述旋轉(zhuǎn)窯筒(1)能夠相對(duì)于環(huán)形密封罩(802)轉(zhuǎn)動(dòng),所述環(huán)形密封罩(802)與所述軸流引風(fēng)機(jī)(9)連通。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及回轉(zhuǎn)窯技術(shù)領(lǐng)域,具體為電極片處理用熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,包括旋轉(zhuǎn)窯筒,所述旋轉(zhuǎn)窯筒的一端設(shè)置有進(jìn)料窯尾倉(cāng),所述旋轉(zhuǎn)窯筒的另一端設(shè)置有出料窯頭,所述旋轉(zhuǎn)窯筒能夠相對(duì)于進(jìn)料窯尾倉(cāng)和出料窯頭轉(zhuǎn)動(dòng),所述旋轉(zhuǎn)窯筒的出料窯頭所在的一端往下傾斜,所述出料窯頭中固定設(shè)置有加熱噴管,所述加熱噴管與所述旋轉(zhuǎn)窯筒同軸設(shè)置;本發(fā)明熱能回收低溫回轉(zhuǎn)窯,能夠?qū)ε懦霰Wo(hù)氣的余熱進(jìn)行利用,通過(guò)熱能回收預(yù)熱純凈保護(hù)氣管內(nèi)的輸入保護(hù)氣,更加節(jié)能減排。

      技術(shù)研發(fā)人員:林陽(yáng),張明道,聶勝
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇維鋰新能源材料有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/14
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