專利名稱：處理含金屬溶液的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過(guò)電解來(lái)處理含金屬溶液的方法和設(shè)備。該方法和設(shè)備提供了從溶液中除去金屬，使所述溶液能為環(huán)境所接受以便排放，并能從溶液回收有價(jià)值的金屬。
背景技術(shù)：
無(wú)電鍍膜法是一種在目標(biāo)物上引入金屬涂層的常用方法。要通過(guò)無(wú)電鍍膜法涂覆目標(biāo)物時(shí)，將金屬化合物放入溶液，隨后通過(guò)化學(xué)反應(yīng)沉積出元素金屬。采用無(wú)電鍍膜法可以在物體上形成高度均勻的金屬涂層，如鎳、銅、銀、金、鉑或鈀。無(wú)電鍍膜法經(jīng)常被用于電子工業(yè)，例如半導(dǎo)體晶片的加工過(guò)程中。
隨著時(shí)間推移和持續(xù)使用，無(wú)電鍍膜溶液被消耗和/或被鍍敷過(guò)程的副產(chǎn)物污染，需要更換溶液。然而，就環(huán)境方面考慮，廢鍍敷溶液含有金屬化合物。廢鍍敷溶液還會(huì)揮發(fā)大量的氫氣，存在爆炸和燃燒危險(xiǎn)。因此，人們提出了各種方法來(lái)處理廢鍍敷溶液。
美國(guó)專利No.6,391,209(其內(nèi)容參考結(jié)合于本文)中描述了多種處理廢鍍敷溶液的方法。這些方法包括用氧化劑如過(guò)氧化氫對(duì)這類溶液進(jìn)行處理。
另一種方法包括對(duì)金屬進(jìn)行化學(xué)還原，隨后以有機(jī)金屬配合物形式沉淀。鍍敷溶液還可以通過(guò)暴露于臭氧、紫外光或過(guò)氧化氫，或它們的組合中進(jìn)行處理。
美國(guó)專利No.5,730,856(其內(nèi)容參考結(jié)合于本文)描述了通過(guò)電解氧化并用擺動(dòng)攪拌器同時(shí)進(jìn)行振動(dòng)和流態(tài)化來(lái)處理無(wú)電鍍膜溶液的方法。
還使用電化學(xué)電池從諸如無(wú)電鍍膜溶液的含金屬溶液中除去金屬。美國(guó)專利No.6,162,333(Lemon等)(其內(nèi)容參考結(jié)合于本文)描述了這種電池。
發(fā)明概述提供了一種處理含金屬溶液的方法，其中，所述含金屬溶液還包含還原劑，該方法包括以下步驟
提供包括陽(yáng)極、陰極以及將陽(yáng)極和陰極分開(kāi)的氫離子可滲透膜的反應(yīng)容器；使反應(yīng)容器中要處理的含金屬液體與陽(yáng)極接觸；使陰極電解溶液與陰極接觸；第一次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到該含金屬液體中至少大多數(shù)還原劑被氧化，生成中間液體和使用過(guò)的陰極電解溶液；使用過(guò)的陰極電解溶液與陰極脫離接觸，使中間液體與陽(yáng)極脫離接觸，任選各自從反應(yīng)容器中取出，分別放入第一和第二儲(chǔ)液器；使中間液體與陰極接觸；使陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極接觸；第二次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到中間液體的大多數(shù)金屬離子鍍敷在陰極上，形成處理后的溶液。
也可以改變?cè)撎幚矸椒ǖ牟襟E次序，使該方法包括以下步驟提供包括陽(yáng)極、陰極以及將陽(yáng)極和陰極分開(kāi)的氫離子可滲透膜的反應(yīng)容器；使反應(yīng)容器中的含金屬液體與陰極接觸；使反應(yīng)容器中的陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極接觸；放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到該含金屬液體中至少大多數(shù)金屬離子被鍍敷在陰極上，生成中間液體；使中間液體與陰極脫離接觸，使陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極脫離接觸，任選各自從反應(yīng)容器中取出，分別放入第一和第二儲(chǔ)液器；使中間液體與陽(yáng)極接觸；使陰極電解溶液與陰極接觸；第二次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到含金屬液體的至少大多數(shù)還原劑被氧化，形成處理后的溶液。還形成使用過(guò)的陰極電解溶液。
這種方法中，陰極電解液可以是鐵鹽溶液，一個(gè)實(shí)施方式中可以是硫酸鐵溶，在一個(gè)實(shí)施方式中，陽(yáng)極電解液可以是硫酸鈉溶液。陰極電解液和陽(yáng)極電解液可以具有大約相等的離子濃度，作為該反應(yīng)容器中進(jìn)行處理的相應(yīng)溶液。
附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明

圖1是處理無(wú)電鍍膜液體的設(shè)備的示意圖。
發(fā)明詳述參照?qǐng)D1說(shuō)明用于處理含金屬液體的設(shè)備的一個(gè)實(shí)施方式。處理設(shè)備10包含反應(yīng)容器12。在反應(yīng)容器12的內(nèi)部是陽(yáng)極14和陰極16。陽(yáng)極可以是在該過(guò)程中不被氧化的任何金屬如不銹鋼，陰極可以是黃銅。陽(yáng)極14和陰極16與電源15連通，在某些實(shí)施方式中，電源是直流電電源。反應(yīng)容器12中還包含氫離子可滲透膜18，該膜在反應(yīng)容器12內(nèi)分隔并提供兩個(gè)分別包含陽(yáng)極14和陰極16的獨(dú)立空間。
將無(wú)電鍍膜溶液或類似的含金屬溶液放置在反應(yīng)容器12內(nèi)，與陽(yáng)極14接觸。在反應(yīng)容器12內(nèi)放入陰極電解溶液，與陰極16接觸。陰極電解溶液的濃度與含金屬液體的離子濃度宜大致相等。陰極電解溶液可以是任意的非電化學(xué)活性鹽的溶液。非電化學(xué)活性鹽可以是鐵鹽，如硫酸鐵?！胺请娀瘜W(xué)活性”表示鹽的陽(yáng)離子部分和陰離子部分在該過(guò)程條件下都不會(huì)發(fā)生反應(yīng)，即不會(huì)使該過(guò)程產(chǎn)生副反應(yīng)。例如，不能認(rèn)為產(chǎn)生氯離子的鹽是非電化學(xué)活性的，因?yàn)槁入x子在反應(yīng)條件下會(huì)被氧化并形成氯氣。
處于和電源15連通的陽(yáng)極14和陰極16被電流驅(qū)動(dòng)。在一個(gè)具體實(shí)施方式
中，施加的電流約為1-10安培，盡管也可以采用其它的電流強(qiáng)度。電解一直進(jìn)行到含金屬的溶液中至少大多數(shù)還原劑在陽(yáng)極14被氧化。該氧化可防止還原劑產(chǎn)生氫氣。同時(shí)，在陰極電解溶液中的離子被還原。對(duì)于硫酸鐵溶液，形成硫酸亞鐵。
較好地，電解一直持續(xù)到基本上所有還原劑被氧化。還原進(jìn)程可由氧化-還原電勢(shì)(ORP)、比色法(如果其中一種物質(zhì)吸收可見(jiàn)光或紫外光)或其它已知的方法來(lái)監(jiān)測(cè)。該處理可在充分的電流下持續(xù)足夠的時(shí)間，以按照化學(xué)計(jì)量比來(lái)氧化所有的還原劑。例如，如果還原劑濃度為1克/升，還原劑的摩爾量為58克/摩爾，并且在還原過(guò)程中每個(gè)分子最多給出6個(gè)電子，則施加5安培電流(假設(shè)100％電流效率)下完成電解需要33分鐘1克÷(58克/摩爾)×(6摩爾e-/摩爾)×(96,500庫(kù)侖/秒e-)÷(5庫(kù)侖/秒)÷(60秒/分鐘)＝33分鐘。
使中間溶液，即至少大多數(shù)還原劑已被氧化的含金屬的溶液與陽(yáng)極脫離接觸。在某些實(shí)施方式中，將其從反應(yīng)容器12取出，放入第一儲(chǔ)液器20。同時(shí)，使用過(guò)的陰極電解溶液與陰極脫離接觸。在某些實(shí)施方式中，將其放入儲(chǔ)液器21。然后使中間溶液與陰極16接觸，如果需要，則將它放回反應(yīng)容器12。然后使陽(yáng)極電解溶液在反應(yīng)容器12內(nèi)與陽(yáng)極14接觸。
陽(yáng)極電解溶液較好具有和中間溶液相同的離子濃度。陽(yáng)極電解溶液是一種非電化學(xué)活性鹽溶液，可以是鈉鹽，如硫酸鈉，但也可以是如硫酸亞鐵的硫酸鹽。使陽(yáng)極14和陰極16與電源15連通并再次由電流驅(qū)動(dòng)。通常，在某些實(shí)施方式中，施加的電流約為1-10安培，盡管也可以使用其它電流強(qiáng)度。電解一直進(jìn)行到中間溶液中至少大多數(shù)氧化劑(即金屬離子)以元素金屬鍍敷在陰極16上。因?yàn)樗乃?，從?yáng)極14產(chǎn)生氫氣。
較好地，基本上所有的金屬離子都鍍敷在陰極16上?？刹捎肙RP、比色法或其它已知方法監(jiān)測(cè)反應(yīng)過(guò)程，或如上所述，處理可以在充分的電流下持續(xù)足夠的時(shí)間，以按照化學(xué)計(jì)量比來(lái)氧化所有的還原劑。
在第二電解步驟結(jié)束時(shí)，與陰極接觸的處理過(guò)的液體(已從該液體除去了金屬化合物和還原劑)被排出至容器25進(jìn)行儲(chǔ)存或拋棄。還可以將使用過(guò)的陽(yáng)極電解液轉(zhuǎn)移至獨(dú)立的儲(chǔ)液器26，以進(jìn)行儲(chǔ)存或拋棄。該過(guò)程產(chǎn)生的廢鍍敷液中的還原劑已被氧化，因此以后不會(huì)產(chǎn)生H2氣體，并且已從廢鍍敷溶液除去了鍍敷金屬離子。此外，將來(lái)自第一電解步驟的硫酸亞鐵溶液儲(chǔ)存在儲(chǔ)液器21中時(shí)，通過(guò)將空氣或氧氣鼓泡通過(guò)該硫酸亞鐵溶液可以再生硫酸鐵。
該過(guò)程可以以相反的順序進(jìn)行，即首先除去氧化劑，然后對(duì)還原劑進(jìn)行氧化。這種例子中，無(wú)電鍍膜溶液或類似的含金屬液體放置在反應(yīng)容器12內(nèi)，與陰極16接觸。陽(yáng)極電解溶液放置在反應(yīng)容器12內(nèi)，與陽(yáng)極14接觸。陽(yáng)極電解溶液較好具有和含金屬的液體大約相同的離子濃度。陽(yáng)極電解溶液可以是任何非電化學(xué)活性鹽溶液。例如，陽(yáng)極電解質(zhì)可以是鈉鹽，如硫酸鈉，但也可以是如硫酸亞鐵的硫酸鹽。使陽(yáng)極14和陰極16與電源15連通，所述電源較好是直流電電源。電解一直進(jìn)行到含金屬的液體中至少大多數(shù)氧化劑(即金屬離子)以元素金屬鍍敷在陰極16上。因?yàn)樗乃猓瑥年?yáng)極14產(chǎn)生氫氣。較好地，基本上所有的金屬離子都鍍敷在陰極上。可采用ORP、比色法或其它已知方法監(jiān)測(cè)反應(yīng)過(guò)程，或如上所述，處理可以在充分的電流下持續(xù)足夠的時(shí)間，以按照化學(xué)計(jì)量比來(lái)氧化所有的還原劑。
然后，使中間溶液，即至少大多數(shù)還原劑已被氧化的含金屬的溶液與陽(yáng)極脫離接觸。在某些實(shí)施方式中，將其從反應(yīng)容器12取出，放入儲(chǔ)液器21。同時(shí)，使用過(guò)的陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極脫離接觸。在某些實(shí)施方式中，將其放入儲(chǔ)液器26。然后使中間溶液與陽(yáng)極14接觸，如果需要，則將其放回反應(yīng)容器12。然后使陰極電解溶液在反應(yīng)容器12內(nèi)與陰極16接觸。陰極溶液可以是任何非電化學(xué)活性鹽的溶液。合適的溶液包括如硫酸鐵的鐵鹽溶液和硫酸鈉溶液。
陰極電解溶液較好具有和中間溶液大約相同的離子濃度。陽(yáng)極14和陰極16與電源15連通，再次由電流驅(qū)動(dòng)。如上所述，在某些實(shí)施方式中，電流通常為1-10安培，盡管也可以使用其它的電流強(qiáng)度。電解一直進(jìn)行到中間液體中至少大多數(shù)還原劑在陽(yáng)極14上被氧化。較好地，基本上所有還原劑都被氧化。該氧化能防止還原劑產(chǎn)生氫氣。同時(shí)，陰極電解溶液中的離子被還原。對(duì)于硫酸鐵，形成硫酸亞鐵?？刹捎肙RP、比色法或其它已知方法監(jiān)測(cè)反應(yīng)過(guò)程，或如上所述，處理可以在充分的電流下持續(xù)足夠的時(shí)間，以按照化學(xué)計(jì)量比來(lái)氧化所有的還原劑。
在第二電解步驟結(jié)束時(shí)，與陽(yáng)極接觸的處理過(guò)的液體(已從該液體除去了金屬化合物和還原劑)被排出至容器26中進(jìn)行儲(chǔ)存或拋棄。還可以將使用過(guò)的陰極電解液轉(zhuǎn)移至獨(dú)立的儲(chǔ)液器25中進(jìn)行儲(chǔ)存、循環(huán)利用或拋棄。硫酸亞鐵溶液儲(chǔ)存在儲(chǔ)液器25中時(shí)，通過(guò)將空氣或氧氣鼓泡通過(guò)該硫酸亞鐵溶液可以再生硫酸鐵。該過(guò)程產(chǎn)生的廢鍍敷液中的還原劑已被氧化，因此以后不會(huì)產(chǎn)生H2氣，并且已從廢鍍敷溶液除去了鍍敷金屬離子。
反應(yīng)容器12還可以包含噴淋器28，該噴淋器與惰性氣體源30流體連通。惰性氣體(例如)可以是氮?dú)饣蚨栊詺怏w如氦氣或氬氣。反應(yīng)容器12還可以包含除水閥24和熱交換器29，如冷卻水在其中循環(huán)的冷卻夾套或盤管。還可以有排氣孔32。排氣孔32較好與氫氣滌氣器(未示出)流體連通。
處理鍍敷溶液時(shí)，用惰性氣體如氮?dú)?、氦氣或氬氣噴射該液體。在處理鍍敷溶液時(shí)釋放的氫氣則用該惰性氣體進(jìn)行清除，形成噴射氣體。噴射氣體夾帶的殘余量液體通過(guò)除水閥24排除。然后，至少部分干燥的噴射氣體通過(guò)排氣孔32排出，較好至氫氣滌氣器(未示出)。
處理期間還產(chǎn)生熱量，可以通過(guò)熱交換器29除去。鍍敷溶液的溫度保持在適合排放或進(jìn)一步處理的溫度。例如，處理期間，鍍敷溶液保持在50℃或更低溫度。該液體還可以通過(guò)(例如)與離子交換樹(shù)脂接觸進(jìn)行處理。
實(shí)施例由下面的實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明該方法的一個(gè)實(shí)施方式。該實(shí)施例不以任何方式構(gòu)成對(duì)該方法的限制。
按照下面方式對(duì)含鈷離子為氧化劑和二甲胺硼烷(DMAB)為還原劑的使用過(guò)的無(wú)電鍍膜溶液進(jìn)行處理，防止鍍出和自發(fā)產(chǎn)生氫氣。
第一步如上所述，使用過(guò)的無(wú)電鍍膜溶液與陽(yáng)極接觸(即，作為陽(yáng)極電解液)。陰極電解液是硫酸鐵水溶液。施加電流時(shí)，在陽(yáng)極的氧化反應(yīng)是DMAB→DMA+B(OH)3+6e-；陰極上的還原反應(yīng)是。然后從該設(shè)備除去陽(yáng)極電解液和陰極電解液。
第二步來(lái)自上述步驟的使用過(guò)的無(wú)電鍍膜溶液(即其中DMAB剛被氧化的溶液)與陰極接觸(即，作為陰極電解液)。陽(yáng)極電解液是含硫酸鈉的水溶液。施加電流時(shí)，陰極上的還原反應(yīng)是；陽(yáng)極上的氧化反應(yīng)是2H2O→4H++O2+4e-。
結(jié)果是使用過(guò)的無(wú)電鍍膜溶液中的鈷離子被除去，DMAB被氧化，因此該溶液不能鍍出，也不會(huì)自發(fā)產(chǎn)生氫氣。
本發(fā)明的方法和設(shè)備較現(xiàn)有系統(tǒng)具有優(yōu)勢(shì)，因?yàn)檫@些方法和設(shè)備能迅速并經(jīng)濟(jì)合理地除去鍍敷溶液中的金屬和金屬化合物，產(chǎn)生最少的氫氣；還分別在陽(yáng)極上氧化還原劑和在陰極上還原氧化劑，因此能防止還原劑和氧化劑在本體溶液中相互直接反應(yīng)，該反應(yīng)會(huì)無(wú)法控制地進(jìn)行并產(chǎn)生氫氣。
整個(gè)過(guò)程可以通過(guò)可編程的控制器進(jìn)行控制，在過(guò)程中記錄的數(shù)據(jù)可送入計(jì)算機(jī)，計(jì)算機(jī)可用來(lái)檢索遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)。所述設(shè)備和方法包括全自動(dòng)微處理器控制器，該控制器可以連續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)操作，提供故障檢測(cè)、壓力和/或溫度控制和閥的程序化，在確?？煽啃酝瑫r(shí)使操作人員的涉入最小。
所述設(shè)備可包括系統(tǒng)警報(bào)器，監(jiān)測(cè)可能的危險(xiǎn)，如溫度或壓力偏移，以確保系統(tǒng)完整性?？稍诓僮髡呓缑嫔蠘?biāo)示出警報(bào)和警告條件，并裝有警報(bào)呼叫器。
應(yīng)理解，本文所述的實(shí)施方式只是舉例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不偏離本發(fā)明精神和范圍下可以進(jìn)行變動(dòng)和修改。所有這種變動(dòng)和修改都旨在被包含在上述的本發(fā)明范圍之內(nèi)。應(yīng)理解，上述的任何實(shí)施方式只是擇一的，但它們可以組合。
權(quán)利要求
1.一種處理含金屬的液體的方法，所述含金屬的液體還包含還原劑，該方法包括以下步驟提供包括陽(yáng)極、陰極以及將陽(yáng)極和陰極分開(kāi)的氫離子可滲透膜的反應(yīng)容器；使反應(yīng)容器中要處理的含金屬的液體與陽(yáng)極接觸；使陰極電解溶液與陰極接觸；第一次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到該含金屬的液體中至少大多數(shù)還原劑被氧化，生成中間液體和使用過(guò)的陰極電解溶液；使用過(guò)的陰極電解溶液與陰極脫離接觸，使中間液體與陽(yáng)極脫離接觸，任選各自從反應(yīng)容器取出，分別送至第一和第二儲(chǔ)液器；使中間液體與陰極接觸；使陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極接觸；第二次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到中間液體中的大多數(shù)金屬離子鍍敷在陰極上，形成處理過(guò)的溶液。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，陰極電解溶液是非電化學(xué)活性鹽的溶液，其離子濃度大約等于含金屬液體的離子濃度。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，陰極電解溶液是硫酸鐵溶液，使用過(guò)的陰極電解溶液是硫酸亞鐵溶液。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，該方法還包括通過(guò)將氣體鼓泡通過(guò)硫酸亞鐵溶液，從硫酸亞鐵溶液再生硫酸鐵溶液的步驟，所述氣體選自空氣和氧氣。
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液是離子濃度大約等于中間液體的離子濃度的溶液，該溶液選自鈉鹽溶液和硫酸鹽溶液。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液選自硫酸鈉和硫酸亞鐵。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液是離子濃度大約等于中間液體的離子濃度的溶液，該溶液選自鈉鹽溶液和硫酸鹽溶液。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液選自硫酸鈉和硫酸亞鐵。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在第一次和第二次使陽(yáng)極和陰極與電源連通時(shí)，至少有一次施加的電流約為1-10安培。
10.一種處理含金屬的液體的方法，所述含金屬的液體還包含還原劑，該方法包括以下步驟提供包括陽(yáng)極、陰極以及將陽(yáng)極和陰極分開(kāi)的氫離子可滲透膜的反應(yīng)容器；使反應(yīng)容器中含金屬的液體與陰極接觸；使反應(yīng)容器中的陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極接觸；放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到該含金屬的液體中至少大多數(shù)金屬離子被鍍敷在陰極上，生成中間液體；使中間液體與陰極脫離接觸，使陽(yáng)極電解溶液與陽(yáng)極脫離接觸，任選各自從反應(yīng)容器中取出，分別送至第一和第二儲(chǔ)液器；使中間液體與陽(yáng)極接觸；使陰極電解溶液與陰極接觸；第二次放置與電源連通的陽(yáng)極和陰極，驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，直到含金屬的液體的至少大多數(shù)還原劑被氧化，形成處理后溶液。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，陰極電解溶液是鐵鹽溶液，其離子濃度大約等于中間液體的離子濃度。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，鐵鹽是硫酸鐵，使用過(guò)的陰極電解溶液是硫酸亞鐵溶液。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，該方法還包括通過(guò)將氣體鼓泡通過(guò)硫酸亞鐵溶液，從硫酸亞鐵溶液再生硫酸鐵溶液的步驟，所述氣體選自空氣和氧氣。
14.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液是離子濃度大約等于中間液體的離子濃度的溶液，該溶液選自鈉鹽溶液和硫酸鹽溶液。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液選自硫酸鈉和硫酸亞鐵。
16.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液是離子濃度大約等于中間液體的離子濃度的溶液，該溶液選自鈉鹽溶液和硫酸鹽溶液。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，陽(yáng)極電解溶液選自硫酸鈉和硫酸亞鐵。
18.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，在第一次和第二次使陽(yáng)極和陰極與電源連通時(shí)，至少有一次施加的電流約為1-10安培。
全文摘要
一種處理無(wú)電鍍膜液體或其它含金屬溶液的方法，所述溶液還包含還原劑。該方法包括以下步驟提供包含陽(yáng)極、陰極以及將陽(yáng)極和陰極分開(kāi)的氫離子可滲透膜的反應(yīng)容器；使含金屬的液體與陽(yáng)極接觸；使陰極電解溶液與陰極接觸；驅(qū)使電流通過(guò)陰極和陽(yáng)極，使存在的還原劑被氧化；從電極，任選從反應(yīng)容器除去使用過(guò)的陰極電解溶液和至少部分處理過(guò)的液體，送至獨(dú)立的儲(chǔ)液器。使部分處理過(guò)的液體以及陽(yáng)極電解溶液分別與陰極和陽(yáng)極接觸；再次驅(qū)使電流通過(guò)陽(yáng)極和陰極，將大多數(shù)金屬離子鍍敷在陰極上。氧化還原劑以及鍍敷金屬離子的步驟還可以相反的順序進(jìn)行。
文檔編號(hào)C02F1/461GK1902133SQ200480039132
公開(kāi)日2007年1月24日 申請(qǐng)日期2004年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月31日
發(fā)明者J·R·克拉克, J·江巴瓦拉 申請(qǐng)人:波克股份有限公司