一種陶瓷盤(pán)清洗裝置及其清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及藍(lán)寶石襯底晶片單面研磨、拋光，特別是一種陶瓷盤(pán)清洗裝置及其清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著LED技術(shù)的發(fā)展和LED行業(yè)的不斷壯大，對(duì)GaN基LED器件PSS襯底的研究也逐漸增多。如今各廠(chǎng)家紛紛采用PSS技術(shù)，對(duì)于藍(lán)寶石襯底晶片的需求也越來(lái)越多，對(duì)藍(lán)寶石襯底晶片的質(zhì)量要求也越來(lái)越嚴(yán)格。
[0003]晶片的平坦度是一項(xiàng)重要質(zhì)量指標(biāo)，在藍(lán)寶石襯底晶片的加工過(guò)程中貼片后單面研磨、拋光時(shí)，貼片的平坦度直接影響加工后晶片的平坦度。用于貼片的陶瓷盤(pán)表面的潔凈度顯得尤為重要。
[0004]為提高陶瓷盤(pán)表面的平坦度，需對(duì)陶瓷盤(pán)表面進(jìn)行清洗。傳統(tǒng)的清洗方法是只對(duì)陶瓷盤(pán)貼片面進(jìn)行除蠟清洗，陶瓷盤(pán)背面往往被忽視。該方法的不足在于背面的臟污在人員持取搬運(yùn)時(shí)造成二次污染，并在貼片時(shí)對(duì)貼片機(jī)造成污染，嚴(yán)重影響貼片效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)上述問(wèn)題，為提高陶瓷盤(pán)表面的潔凈度，本發(fā)明公開(kāi)了一種陶瓷盤(pán)清洗裝置及其清洗方法。
[0006]為解決以上技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案是:
一種陶瓷盤(pán)清洗裝置，其特征在于，包括底座、支架、清洗槽、氣缸、刷盤(pán)和機(jī)械臂，所述底座呈方形，并水平設(shè)置，底座所呈的方形的上端設(shè)有卡塊，所述卡塊數(shù)量為2個(gè)，對(duì)稱(chēng)設(shè)置于底座上端面的兩側(cè)，所述支架設(shè)置于底座的一側(cè)，并與底座固接，所述氣缸固定設(shè)置于支架的上端，包括伸縮端，所述伸縮端豎直朝下設(shè)置，與底座垂直，所述刷盤(pán)通過(guò)軸承連接于伸縮端的下方，所述清洗槽呈方形，設(shè)置于底座的上端面上，清洗槽的兩端抵壓在卡塊上;
所述清洗槽包括清水槽、超聲槽、清洗籃和過(guò)濾管路，所述清水槽呈方形，清水槽上設(shè)有出水口，清水槽所呈的方形的上沿上設(shè)有噴淋管路，所述噴淋管路上設(shè)有進(jìn)水口和多個(gè)噴淋口，所述噴淋口指向清水槽所呈的方形的中心位置，所述超聲槽內(nèi)設(shè)有超聲波震板和水加熱器，所述超聲波震板對(duì)稱(chēng)固定設(shè)置于清水槽的兩側(cè)，所述過(guò)濾管路的兩端連通超聲槽，過(guò)濾管路上設(shè)有水栗和濾罐，所述機(jī)械臂對(duì)稱(chēng)設(shè)置于超聲槽的兩側(cè)；
上述的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置，其中，所述清水槽的底部中心位置設(shè)有電動(dòng)機(jī)和定位塊，所述定位塊位于電動(dòng)機(jī)的上端，并與電動(dòng)機(jī)連接；
上述的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置，其中，所述刷盤(pán)的下端面上粘貼有阻尼絨布；
上述的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置，其中，所述清洗籃為立式清洗籃。
[0007]一種陶瓷盤(pán)清洗方法，其特征在于，包括以下步驟:
(1)配比除臘水:將除臘水與清水充分混合，使除臘水的濃度達(dá)到5%-8%，將配比后的除臘水加入超聲槽內(nèi)，開(kāi)啟水加熱器，對(duì)除臘水進(jìn)行加熱，使超聲槽內(nèi)的除臘水的溫度達(dá)到并保持在70 °C -80 °C ；
(2)漂洗:將待清洗的陶瓷盤(pán)立式放入清洗籃中，將清洗籃放入超聲槽內(nèi)，機(jī)械臂抓住清洗籃兩端，啟動(dòng)超聲波震板、機(jī)械臂和水栗，機(jī)械臂帶動(dòng)清洗籃，進(jìn)行上下拋動(dòng)，以一次上下為一次拋動(dòng)，其拋動(dòng)頻率為12-20次/min，去除陶瓷盤(pán)表面的粘貼蠟，超聲波震板發(fā)出超聲波，并在除臘水中相對(duì)傳導(dǎo)，在空穴效應(yīng)的作用下，對(duì)陶瓷盤(pán)表面進(jìn)行沖刷，將陶瓷盤(pán)表面粘接的固體顆粒剝離，水栗不間斷的對(duì)超聲槽內(nèi)帶有固體顆粒的除臘水進(jìn)行抽取，并帶動(dòng)其進(jìn)入濾罐，進(jìn)行過(guò)濾，濾除除臘水內(nèi)的固體顆粒，隨后排入超聲槽內(nèi)，步驟(2)的持續(xù)時(shí)間為 5min_8min ；
(3)刷洗:完成步驟(2)后，取出清洗籃，將單個(gè)陶瓷盤(pán)放置于定位塊上，啟動(dòng)氣缸，氣缸下降，直至刷盤(pán)壓于陶瓷盤(pán)表面，電動(dòng)機(jī)啟動(dòng)，帶動(dòng)陶瓷盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，刷盤(pán)從動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)噴淋管路進(jìn)行噴水，對(duì)陶瓷盤(pán)刷洗；
(4 )風(fēng)干:步驟(3 )完成后，將刷洗后的陶瓷盤(pán)放于架子上，鼓風(fēng)吹干即可。
[0008]本發(fā)明的有益效果為:
本發(fā)明公開(kāi)的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置及其清洗方法，通過(guò)漂洗、刷洗和風(fēng)干步驟，完成對(duì)陶瓷盤(pán)的清洗，在進(jìn)行漂洗時(shí)，陶瓷盤(pán)通過(guò)機(jī)械臂進(jìn)行拋動(dòng)，去除陶瓷盤(pán)表面的粘貼蠟，提高漂洗效率，并且利用超聲波的空穴效應(yīng)，將陶瓷盤(pán)表面粘接的大部分固體顆粒剝離，在隨后的刷洗過(guò)程中，去除陶瓷盤(pán)表面粘接的較小固體顆粒，完成對(duì)陶瓷盤(pán)的高度清洗；
同時(shí)，除臘水濃度適宜，在進(jìn)行加熱后，除蠟效果更好，而且，除臘水采用內(nèi)循環(huán)過(guò)濾，不僅減少了除臘水中的固體顆粒含量，也提高了除臘水的利用率，達(dá)到了低成本、高效的清洗目的。
[0009]綜上所述，本發(fā)明的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置及其清洗方法，清洗流程清晰、簡(jiǎn)潔，刷洗機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理，不僅達(dá)到了高效的清洗效率，提高了陶瓷盤(pán)表面的潔凈度，同時(shí)也降低了清洗成本。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1本發(fā)明示意圖。
[0011]圖2清洗槽俯視圖。
[0012]圖3固定塊示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖所示的一種陶瓷盤(pán)清洗裝置，其特征在于，包括底座1、支架2、清洗槽3、氣缸4、刷盤(pán)5和機(jī)械臂6，所述底座1呈方形，并水平設(shè)置，底座1所呈的方形的上端設(shè)有卡塊7，所述卡塊7數(shù)量為2個(gè)，對(duì)稱(chēng)設(shè)置于底座1上端面的兩側(cè)，所述支架2設(shè)置于底座1的一偵h并與底座1固接，所述氣缸4固定設(shè)置于支架2的上端，包括伸縮端8，所述伸縮端8豎直朝下設(shè)置，與底座1垂直，所述刷盤(pán)5通過(guò)軸承23連接于伸縮端8的下方，所述清洗槽3呈方形，設(shè)置于底座1的上端面上，清洗槽3的兩端抵壓在卡塊7上；
所述清洗槽3包括清水槽9、超聲槽10、清洗籃和過(guò)濾管路12，所述清水槽9呈方形，清水槽9上設(shè)有出水口 13，清水槽9所呈的方形的上沿上設(shè)有噴淋管路14，所述噴淋管路14上設(shè)有進(jìn)水口 15和多個(gè)噴淋口 16，所述噴淋口 16指向清水槽9所呈的方形的中心位置，所述超聲槽10內(nèi)設(shè)有超聲波震板17和水加熱器18，所述超聲波震板17對(duì)稱(chēng)固定