涂布單元50設(shè)置分支部841。
[0162]圖8是表示作為壓力變動(dòng)吸收部的T字配管835的概略側(cè)視圖。
[0163]T字配管835包含:干路835A，沿著配管83中的涂布液的流路方向AR(本變形例中為+X方向)；支路835B，從干路835A向與主掃描方向正交的方向(本變形例中為+Z方向)分支；以及隔膜(membrane) 835C，設(shè)于支路835B中的下游側(cè)端部。
[0164]當(dāng)在T字配管835的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力高時(shí)，隔膜835C向+Z方向變形(參照?qǐng)D8的實(shí)線)，支路835B的內(nèi)部空間變大，當(dāng)在T字配管835的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力低時(shí)，隔膜835C向-Z方向變形(參照?qǐng)D8的虛線)，支路835B的內(nèi)部空間44s變小。從而，利用隔膜835C而減少(吸收)在T字配管835的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力變動(dòng)。
[0165]如上所述，壓力變動(dòng)吸收部(本變形例中為T字配管835)是配設(shè)于YZ面內(nèi)的部分，因此，干路835A及支路835B配設(shè)于YZ面內(nèi)。因此，可抑制如下情況:因由涂布單元50的移動(dòng)所引起的慣性力，而導(dǎo)致在T字配管835內(nèi)流動(dòng)的涂布液產(chǎn)生流路方向的壓力變動(dòng)。本變形例中，對(duì)支路835B設(shè)于+Z方向的情況進(jìn)行了說明，但支路835B也可設(shè)于-Z方向。另外，可代替本變形例的隔膜835C，而利用根據(jù)涂布液的壓力而變形的各種彈性體。
[0166]可代替所述實(shí)施方式中所說明的配管832、配管833而使用T字配管835，也可與配管832、配管833的至少一個(gè)一并使用T字配管835。
[0167]另外，即便在不使用T字配管835作為壓力變動(dòng)吸收部的情況下，除所述實(shí)施方式的形態(tài)以外，也可采用僅具有配管832的形態(tài)、僅具有配管833的形態(tài)、在配管833的下游側(cè)具有配管832的形態(tài)等各種形態(tài)。
[0168]另外，在所述實(shí)施方式中，對(duì)包括與涂布單元50同步驅(qū)動(dòng)的配管支撐構(gòu)件60的涂布裝置I進(jìn)行了說明，但并不限于此。當(dāng)不存在配管支撐構(gòu)件60時(shí)，可省略對(duì)配管支撐構(gòu)件60供給空氣的配管81、及與配管支撐構(gòu)件60的驅(qū)動(dòng)相關(guān)的機(jī)構(gòu)(配管支撐用引導(dǎo)部62、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)76等)，因此，可實(shí)現(xiàn)裝置的小型化。另一方面，當(dāng)存在配管支撐構(gòu)件60時(shí)，如上所述，可有效抑制因配管831撓曲而導(dǎo)致在配管831的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液產(chǎn)生壓力變動(dòng)的情況。
[0169]另外，在所述實(shí)施方式中，對(duì)配管83為10根的情況進(jìn)行了說明，但并不限于此。配管83既可為9根以下，也可為11根以上。此時(shí)，用以使配管83相對(duì)地固定于涂布單元50的各構(gòu)成(固定部840、分支部841、接頭部842、接頭部843、噴嘴54)也以數(shù)量與配管83相同的方式變更。其他各部也并不限于所述實(shí)施方式的構(gòu)成，可變更其數(shù)量。
[0170]另外，在所述實(shí)施方式中，對(duì)在將4根配管831?配管834利用3個(gè)配管連接部(分支部841、接頭部842、接頭部843)串聯(lián)連接的構(gòu)成中，I個(gè)配管連接部(接頭部843)配設(shè)于涂布單元50的-Y側(cè)(噴嘴保持部52側(cè))的構(gòu)成進(jìn)行了說明，但并不限于此。
[0171]例如，也可為2個(gè)以上的配管連接部配設(shè)于噴嘴保持部52側(cè)的形態(tài)。另外，也可為I個(gè)配管連接部也不配設(shè)于噴嘴保持部52側(cè)的形態(tài)。一般而言，當(dāng)將η根(η為2以上的整數(shù))的配管利用η-l個(gè)配管連接部串聯(lián)連接而構(gòu)成配管83時(shí)，若為從滑塊44 (可動(dòng)元件)觀察時(shí)，在噴嘴保持部52側(cè)至多僅配設(shè)有I個(gè)配管連接部的形態(tài)，則可實(shí)現(xiàn)充分減少配設(shè)于噴嘴保持部52側(cè)的構(gòu)件構(gòu)成。從而，當(dāng)對(duì)噴嘴54進(jìn)行各種處理時(shí)(典型而言為，當(dāng)利用噴嘴間距調(diào)整機(jī)構(gòu)100進(jìn)行噴嘴54的間距調(diào)整時(shí))，變得易于進(jìn)行所述處理。
[0172]以上，對(duì)實(shí)施方式及其變形例的涂布裝置進(jìn)行了說明，但它們?yōu)楸景l(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式的示例，并不限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。本發(fā)明可在本發(fā)明的范圍內(nèi)自由組合各實(shí)施方式、或使各實(shí)施方式的任意構(gòu)成要素變形、或者在各實(shí)施方式中省略任意構(gòu)成要素。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種涂布裝置，其特征在于，包括: 基板保持部，保持基板； 涂布單元，保持至少一個(gè)噴嘴，所述噴嘴對(duì)保持于所述基板保持部的所述基板的主表面噴出涂布液； 移位機(jī)構(gòu)，使所述涂布單元沿著主掃描方向移位，所述主掃描方向與保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行； 配管，為至少一個(gè)，將從涂布液供給源供給的涂布液輸送至所述至少一個(gè)噴嘴；以及壓力變動(dòng)吸收部，為至少一個(gè)，吸收在所述配管的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力變動(dòng)；所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對(duì)地固定配置于所述涂布單元， 所述第二管路區(qū)間具有所述第二管路區(qū)間中的上游側(cè)的上游側(cè)固定管路區(qū)間、與所述第二管路區(qū)間中的下游側(cè)的下游側(cè)固定管路區(qū)間， 所述下游側(cè)固定管路區(qū)間沿著與所述主掃描方向正交的面內(nèi)而配設(shè)，所述壓力變動(dòng)吸收部設(shè)于所述下游側(cè)固定管路區(qū)間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于， 所述第二管路區(qū)間包含分支部，所述分支部使被捆扎的多個(gè)所述配管分支， 所述第二管路區(qū)間中的比所述分支部更靠上游側(cè)為所述上游側(cè)固定管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間中的比所述分支部更靠下游側(cè)為所述下游側(cè)固定管路區(qū)間， 在所述第一管路區(qū)間及所述上游側(cè)固定管路區(qū)間，多個(gè)所述配管被捆扎。
3.一種涂布裝置，其特征在于，包括: 基板保持部，保持基板； 涂布單元，保持至少一個(gè)噴嘴，所述噴嘴對(duì)保持于所述基板保持部的所述基板的主表面噴出涂布液； 移位機(jī)構(gòu)，使所述涂布單元沿著主掃描方向移位，所述主掃描方向與保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行； 配管，為至少一個(gè)，將從涂布液供給源供給的涂布液輸送至所述至少一個(gè)噴嘴；以及壓力變動(dòng)吸收部，為至少一個(gè)，吸收在所述配管的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力變動(dòng)；所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對(duì)地固定配置于所述涂布單元， 所述第二管路區(qū)間配設(shè)于與所述主掃描方向正交的面內(nèi)，所述壓力變動(dòng)吸收部設(shè)于所述第二管路區(qū)間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于， 還具有配管支撐構(gòu)件，所述配管支撐構(gòu)件與利用所述移位機(jī)構(gòu)使所述涂布單元沿著所述主掃描方向的移位同步地，沿著所述主掃描方向移位， 所述配管支撐構(gòu)件配設(shè)于所述第一管路區(qū)間的中途，在所述第一管路區(qū)間中的比所述配管支撐構(gòu)件更靠上游側(cè)，多個(gè)所述配管被捆扎，在所述第一管路區(qū)間中的比所述配管支撐構(gòu)件更靠下游側(cè)，多個(gè)所述配管分支。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于， 所述壓力變動(dòng)吸收部具有可撓性的第一配管，所述第一配管的管徑大于所述第一管路區(qū)間的配管的管徑，所述配管的一部分包含所述第一配管。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于， 所述壓力變動(dòng)吸收部具有可撓性的第二配管，所述第二配管的管徑小于所述第一管路區(qū)間的配管的管徑，所述配管的一部分包含所述第二配管。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于， 所述壓力變動(dòng)吸收部具有T字配管，所述T字配管包括干路與支路，所述干路沿著所述配管中的所述涂布液的流路方向，所述支路是從所述干路向與所述主掃描方向正交的方向分支而成， 所述配管的一部分包含所述T字配管。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于， 所述涂布單元具有:可動(dòng)元件，利用所述移位機(jī)構(gòu)而沿著所述主掃描方向移位；以及噴嘴保持部，與所述可動(dòng)元件結(jié)合而保持所述噴嘴； 所述配管是將η根(η為2以上的整數(shù))的配管利用η-1個(gè)配管連接部串聯(lián)連接而構(gòu)成， 從所述可動(dòng)元件觀察時(shí)，在所述噴嘴保持部側(cè)至多僅配設(shè)有I個(gè)配管連接部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其特征在于， 所述噴嘴保持部是將所述噴嘴可動(dòng)地保持的部分， 所述涂布裝置還包括噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，對(duì)所述噴嘴保持部中的所述噴嘴的位置進(jìn)行調(diào)-K-■P。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種涂布裝置，在利用涂布液供給管對(duì)移動(dòng)的噴嘴輸送涂布液的構(gòu)成中，可減少從噴嘴噴出的涂布液的流量紊亂。相對(duì)地固定配置于涂布單元(50)的配管(832～834)是沿著與涂布單元(50)的移動(dòng)方向(X方向)正交的YZ面內(nèi)而配設(shè)。因此，可有效防止如下情況：因由往返移動(dòng)所引起的慣性力，而導(dǎo)致在配管(832～834)的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液產(chǎn)生流路方向的壓力變動(dòng)。另外，因?yàn)榕涔?832、833)作為壓力變動(dòng)吸收部發(fā)揮功能，所以可吸收在所述配管的內(nèi)部流動(dòng)的涂布液的壓力變動(dòng)。如此，能夠使壓力變動(dòng)已減少的涂布液從連接于配管(834)的噴嘴噴出。
【IPC分類】B05C11-10, B05C5-00
【公開號(hào)】CN104841607
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510053016
【發(fā)明人】伊藤隆介, 高村幸宏, 相良秀一, 大宅宗明
【申請(qǐng)人】斯克林集團(tuán)公司
【公開日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年2月2日