，上液位栗就可以從供液槽513抽取電鍍液持續(xù)供應(yīng)給電鍍液子槽52。
[0046]下液位栗55包括下液位栗入液管551和下液位栗出液管552。下液位栗55主要將集液槽512內(nèi)的電鍍液輸送到供液槽513。下液位栗55和上液位栗54是同一類型，都可以減輕對電鍍液的擾動。
[0047]下液位栗入液管551和過濾補(bǔ)液裝置53相連，主要把經(jīng)過過濾補(bǔ)液的電鍍液抽出。
[0048]下液位栗出液管552和循環(huán)進(jìn)液口 515相連，主要把經(jīng)過過濾補(bǔ)液的電鍍液送入供液槽513。
[0049]電鍍作業(yè)循環(huán)過程中，由上液位栗54通過上液位栗入液管541從供液槽513抽取電鍍液，再經(jīng)過上液位栗出液管542的輸送，電鍍液從子槽連接口 526進(jìn)入到電鍍液子槽52的空腔結(jié)構(gòu)523內(nèi)。當(dāng)電鍍液在空腔結(jié)構(gòu)523內(nèi)充滿后，電鍍液從子槽隔板524上的孔洞525進(jìn)入到電鍍工作區(qū)域。隨著電鍍工作區(qū)域內(nèi)電鍍液的液面升高，電鍍液從電鍍液子槽凹形槽口 521溢出，流入到集液槽512內(nèi)。由于下液位栗55的作用，集液槽512內(nèi)的電鍍液從循環(huán)出液口 514進(jìn)入到過濾補(bǔ)液裝置53內(nèi)進(jìn)行處理，然后經(jīng)過下液位栗出液管的輸送，從循環(huán)進(jìn)液口 515重新進(jìn)入到供液槽513內(nèi)，至此，一次電鍍液的循環(huán)結(jié)束。
[0050]在電鍍液的循環(huán)過程中，過濾補(bǔ)液裝置53既可以對電鍍液進(jìn)行過濾，同時不斷補(bǔ)充新的電鍍液，以保證電鍍液的質(zhì)量。
[0051]在電鍍液的循環(huán)過程中，當(dāng)集液槽512內(nèi)的電鍍液液面高于液位隔板511的高度時，集液槽512內(nèi)表面上質(zhì)量還較好的電鍍液可以從液位隔板511溢出，流入供液槽513內(nèi)，以保證供液槽513內(nèi)電鍍液的持續(xù)供應(yīng)。
[0052]請參閱圖2，該實施例主要針對電鍍液母槽61和電鍍液子槽62的位置關(guān)系進(jìn)行改變。根據(jù)電鍍作業(yè)的實際需要，在本實施例中，電鍍液子槽62可設(shè)置于電鍍液母槽61的中部，以節(jié)省設(shè)備空間。同時，液位隔板611的高度可以任意調(diào)節(jié)。
[0053]請參閱圖3，該實施例中，電鍍液子槽72設(shè)置在電鍍液母槽71的外面，并且電鍍液子槽72的底板跟電鍍液母槽71的底板平齊。電鍍液子槽72內(nèi)的電鍍液通過設(shè)置在電鍍液母槽71側(cè)壁上的管道73回流至電鍍液母槽71內(nèi)，從而實現(xiàn)電鍍液的循環(huán)。同時，也可以另外增加一臺電鍍液輸送裝置(圖中未示出)把電鍍液子槽72內(nèi)的電鍍液栗送到電鍍液母槽71內(nèi)，實現(xiàn)電鍍液循環(huán)。
[0054]請參閱圖4，該實施例中，電鍍液子槽82設(shè)置在電鍍液母槽81的外面，電鍍液子槽82的底板跟電鍍液母槽81的底板不平齊，這樣主要能實現(xiàn)電鍍液子槽82下部空余空間的合理利用。電鍍液子槽82內(nèi)的電鍍液通過設(shè)置在電鍍液母槽81側(cè)壁上的管道83回流至電鍍液母槽81內(nèi)，從而實現(xiàn)電鍍液的循環(huán)。同時，也可以另外增加一臺電鍍液輸送裝置(圖中未示出)把電鍍液子槽82內(nèi)的電鍍液栗送到電鍍液母槽81內(nèi)，實現(xiàn)電鍍液循環(huán)。
[0055]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供的一種電鍍液槽系統(tǒng)5中包括底部設(shè)置有循環(huán)進(jìn)液口 515和循環(huán)出液口 514的電鍍液母槽51，且在循環(huán)進(jìn)液口 515與循環(huán)出液口 514之間還設(shè)有第一電鍍液通路，該電鍍液通路上設(shè)置有過濾補(bǔ)液裝置53，與現(xiàn)有的電鍍液槽裝置相比，可同時對電鍍液槽系統(tǒng)內(nèi)的電鍍液進(jìn)行過濾和補(bǔ)液操作，從而可以對電鍍液系統(tǒng)內(nèi)的電鍍液進(jìn)行及時補(bǔ)充，使電鍍液系統(tǒng)內(nèi)的電鍍液濃度均一。在所述電鍍液母槽內(nèi)還設(shè)有一液位隔板511，該液位隔板511將該電鍍液母槽51分為集液槽512和供液槽513，該液位隔板511的高度為電鍍液母槽51高度的三分之一至五分之四，其中，貯存在集液槽512內(nèi)且位于集液槽512上方的老液(反應(yīng)后的電鍍液)經(jīng)過液位隔板511進(jìn)入供液槽513中，供液槽513內(nèi)的新液(未反應(yīng)的電鍍液)與老液混合后，經(jīng)過上液位栗54進(jìn)入電鍍液子槽52中進(jìn)行反應(yīng)。這樣的設(shè)置可以使部分老液重新進(jìn)入電鍍液子槽52內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)，從而可以減少電鍍液的使用量，減少生產(chǎn)成本。電鍍液子槽52內(nèi)部設(shè)置有一子槽隔板524，所述子槽隔板524將所述電鍍液子槽52分隔為一電鍍空間(圖中未不出)與一空腔結(jié)構(gòu)523，所述電鍍空間(圖中未示出)位于空腔結(jié)構(gòu)523上方，子槽隔板524上設(shè)置了多個孔洞525，子槽連接口 526對應(yīng)在子槽隔板524上的位置與所述子槽隔板524上的多個孔洞525位置錯開，空腔結(jié)構(gòu)523的底部設(shè)置有一子槽連接口 526。這樣的設(shè)置可以在電鍍液進(jìn)入到電鍍液子槽52時起到分流緩沖的作用，減輕對電鍍液的擾動。電鍍液母槽51上設(shè)置總液位控制器517，總液位控制器517包括上液位感應(yīng)器5171、下液位感應(yīng)器5172和總液位管5173，所述總液位管5173上設(shè)置有電子磁閥開關(guān)(圖中未示出)，所述電子磁閥開關(guān)(圖中未示出)電性連接于上液位感應(yīng)器5171和下液位感應(yīng)器5172，總液位控制器517可以對電鍍液槽系統(tǒng)5內(nèi)的總液位起到控制作用，防止液位過高溢出浪費和防止液位過低造成機(jī)器設(shè)備故障。此外，通過過濾補(bǔ)液裝置53、上液位栗54和下液位栗55對電鍍液實現(xiàn)的連續(xù)循環(huán)，可以在較短的時間內(nèi)清除電鍍作業(yè)產(chǎn)生的沉淀物，不斷補(bǔ)充質(zhì)量好的電鍍液，保證了電鍍作業(yè)的質(zhì)量。尤其適合K4沙丁鎳電鍍液的電鍍生產(chǎn)。
[0056]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的原則之內(nèi)所作的任何修改，等同替換和改進(jìn)等均應(yīng)包含本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種電鍍液槽系統(tǒng)，包括電鍍液母槽，其特征在于:所述電鍍液母槽底部設(shè)置有循環(huán)進(jìn)液口和循環(huán)出液口，循環(huán)進(jìn)液口和循環(huán)出液口之間有一條電鍍液通路，電鍍液通路上設(shè)置有過濾補(bǔ)液裝置。2.如權(quán)利要求1所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述電鍍液母槽內(nèi)設(shè)置一液位隔板，液位隔板將電鍍液母槽劃分為集液槽和供液槽。3.如權(quán)利要求2所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述液位隔板的高度為電鍍液母槽高度的三分之一至五分之四。4.如權(quán)利要求2所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述集液槽和供液槽之間包括第二條電鍍液通路，這條電鍍液通路設(shè)置在液位隔板上方。5.如權(quán)利要求1所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述電鍍液母槽上設(shè)置有一對凹形槽口。6.如權(quán)利要求5所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述電鍍液子槽也為一上表面敞開的即為凹形槽口的槽體，并且電鍍液子槽位于電鍍液母槽的上方。7.如權(quán)利要求6所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述電鍍液子槽中設(shè)置有子槽隔板，子槽隔板設(shè)置了多個孔洞。8.如權(quán)利要求7所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述電鍍液母槽中設(shè)置有總液位控制器，總液位控制器包括上液位感應(yīng)器和下液位感應(yīng)器。9.如權(quán)利要求7所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述集液槽、供液槽和電鍍液子槽之間包括第三條電鍍液通道，該電鍍液通道上設(shè)置有過濾補(bǔ)液裝置。10.如權(quán)利要求1-9中任一項所述的電鍍液槽系統(tǒng)，其特征在于:所述過濾補(bǔ)液裝置包括過濾裝置和補(bǔ)液裝置。
【專利摘要】本實用新型涉及電鍍領(lǐng)域,尤其是涉及一種電鍍液槽系統(tǒng),包括電鍍液母槽，其特征在于：電鍍液母槽底部設(shè)置有循環(huán)進(jìn)液口和循環(huán)出液口，循環(huán)進(jìn)液口和循環(huán)出液口之間有一條電鍍液通路，電鍍液通路上設(shè)置有過濾補(bǔ)液裝置。本實用新型的一種電鍍液槽系統(tǒng)具有可以進(jìn)行連續(xù)電鍍，在電鍍過程中電鍍層均勻的優(yōu)點，尤其適合K4沙丁鎳電鍍液的電鍍作業(yè)。
【IPC分類】C25D21/06, C25D17/02
【公開號】CN204849088
【申請?zhí)枴緾N201520596758
【發(fā)明人】謝彪
【申請人】謝彪
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年8月8日