技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種紅外光譜襯底的制備方法，包括如下步驟：1)選取支撐基底；2)利用機械加工、干法或者濕法刻蝕的方法，在支撐基底上制備通孔結(jié)構(gòu)；3)轉(zhuǎn)移襯底材料和其保護(hù)層至通孔表面：利用標(biāo)準(zhǔn)的濕法轉(zhuǎn)移工藝，將襯底材料和其保護(hù)層轉(zhuǎn)移至樣品表面，將樣品晾干并且加熱使得轉(zhuǎn)移的薄膜與基底貼合緊密；4)對通孔的背面進(jìn)行密封：利用另一塊基底材料貼合至背面通孔處，使用玻璃膠將背面的通孔密封；5)去除樣品表面的保護(hù)層：將樣品放置于丙酮或者去保護(hù)層溶劑里，去除表面的保護(hù)層；6)拆除樣品背面的密封結(jié)構(gòu)：將樣品清洗干凈并且晾干以后拆除背面的密封基底。

技術(shù)研發(fā)人員：胡海;胡德波;劉瑞娜;白冰;楊曉霞;戴慶
受保護(hù)的技術(shù)使用者：國家納米科學(xué)中心
文檔號碼：201610608505
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.28
技術(shù)公布日：2016.12.07