共聚焦顯微控制熒光儀的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于觀察分析新材料分子或原子量級大小的裝置，尤其涉及一種共聚焦顯微控制熒光儀，屬于顯微電子設備領域。
【背景技術】
[0002]納米材料是指在三維空間中至少有一個維度的尺寸小于10nm或者由它們作為基本單元構成的材料。由于它的尺寸已經(jīng)接近電子的相干長度，它的性質(zhì)因為強相干所帶來的自組織使得性質(zhì)發(fā)生很大變化，如光學、熱學、電學、磁學、力學以及化學方面的性質(zhì)和塊體材料相比將會有顯著的不同。所以，納米尺度和性能特異變化是納米材料必須同時具備的兩個基本特征。
[0003]半導體納米材料的量子尺寸效應和表面與界面等效應，使其表現(xiàn)出獨特的光學特性，如光學發(fā)光性、吸收帶邊藍移、激子發(fā)光等。尤其是I1-VI族一維納米材料，它們是寬的直接帶隙半導體材料，是典型的光電半導體材料。帶隙半導體材料，是典型的光電半導體材料。以砸化鎘為(CdSe)例，作為典型的光電半導體材料之一，本身具有獨特的光電學性質(zhì)，在作為光源、光吸收、光波導、光致發(fā)光和光電轉(zhuǎn)換等方面有著廣闊的應用前景。
[0004]目前國內(nèi)尚無成熟的專門用來制備半導體納米材料相關樣品的裝置，也沒有配套的測試儀器。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]為了克服現(xiàn)有技術的不足，解決好現(xiàn)有技術的問題，彌補現(xiàn)有目前市場上現(xiàn)有產(chǎn)品的不足。
[0006]本實用新型提供了一種共聚焦顯微控制熒光儀，由激光發(fā)射器、第一狹縫、第一半反半透鏡、濾光片、第二半反半透鏡、照相機、顯微物鏡、樣品臺、狹縫、第三狹縫和光譜儀構成，按照激光光路的方向依次設置激光器、第一狹縫、第一半反半透鏡、第二狹縫、第三狹縫和光譜儀。
[0007]優(yōu)選的，上述激光發(fā)射器和第一狹縫之間設置有第一聚光透鏡，第一狹縫和第一半反半透鏡之間設置有準直透鏡。
[0008]優(yōu)選的，上述第一半反半透鏡和第二狹縫之間設置有第三聚光透鏡，第二狹縫和第三狹縫之間設置有第三聚光透鏡。
[0009]優(yōu)選的，按照激光光路方向還依次設置有激光器、第一狹縫、第一半反半透鏡、顯微物鏡和樣品臺。
[0010]優(yōu)選的，按照激光光路方向還依次設置有激光器、第一狹縫、第一半反半透鏡、濾光片、第二半反半透鏡和照相機。
[0011]本實用新型提供的共聚焦顯微控制熒光儀，可以得到材料帶隙、缺陷、雜質(zhì)能級以及復合機制等參數(shù)信息，通過對發(fā)光譜中峰位、半高寬等的分析，為科學實驗提供證據(jù)。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型結(jié)構示意圖。
[0013]附圖標記:1_激光發(fā)射器；2_第一狹縫；3_第一半反半透鏡；4_濾波片；5-第二半反半透鏡；6_照相機；7_顯微物鏡；8_樣品臺；9_第二狹縫；10_第三狹縫；11_光譜儀；12-第一聚光透鏡；13-準直透鏡；14-第二聚光透鏡；15_第三聚光透鏡。
【具體實施方式】
[0014]為了便于本領域普通技術人員理解和實施本實用新型，下面結(jié)合附圖及【具體實施方式】對本實用新型作進一步的詳細描述。
[0015]本實用新型提供的共聚焦顯微控制熒光儀，主要結(jié)構如圖1所示，由激光發(fā)射器1、第一狹縫2、第一半反半透鏡3、濾光片4、第二半反半透鏡5、照相機6、顯微物鏡7、樣品臺8、狹縫9、第三狹縫10和光譜儀11構成，按照激光光路的方向依次設置激光器1、第一狹縫2、第一半反半透鏡3、第二狹縫9、第三狹縫10和光譜儀11。激光發(fā)射器I和第一狹縫2之間設置有第一聚光透鏡12，第一狹縫2和第一半反半透鏡3之間設置有準直透鏡13。第一半反半透鏡3和第二狹縫9之間設置有第三聚光透鏡14，第二狹縫9和第三狹縫10之間設置有第三聚光透鏡15。
[0016]按照激光光路方向還依次設置有激光器1、第一狹縫2、第一半反半透鏡3、顯微物鏡7和樣品臺8。按照激光光路方向還依次設置有激光器1、第一狹縫2、第一半反半透鏡3、濾光片4、第二半反半透鏡5和照相機6。
[0017]本實用新型提供的共聚焦顯微控制熒光儀，其工作原理為:激光器I出射激光經(jīng)由外部光路進入顯微鏡7照射到樣品上，樣品受到激光的激發(fā)，產(chǎn)生光致發(fā)光，樣品發(fā)出的光由顯微鏡7的物鏡進行收集，經(jīng)過顯微鏡7里的鏡片組(半反半透的透鏡)變成平行光，使得樣品所發(fā)熒光分為兩部分，一部分進入照相機6進行成像，一部分經(jīng)由透鏡聚焦后進入光譜儀11。
[0018]通過對光致發(fā)光峰的分析我們可以得到:物質(zhì)的特征電子躍迀，粒子是否有表面缺陷發(fā)光，樣品的發(fā)光性能、能級結(jié)構和表面狀態(tài)等信息。
[0019]以上所述之【具體實施方式】為本實用新型的較佳實施方式，并非以此限定本實用新型的具體實施范圍，本實用新型的范圍包括并不限于本【具體實施方式】，凡依照本實用新型之形狀、結(jié)構所作的等效變化均在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種共聚焦顯微控制熒光儀，其特征在于:所述共聚焦顯微控制熒光儀由激光發(fā)射器(I)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)、濾光片(4)、第二半反半透鏡(5)、照相機(6)、顯微物鏡(7)、樣品臺(8)、狹縫(9)、第三狹縫(10)和光譜儀(11)構成，按照激光光路的方向依次設置激光器(I)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)、第二狹縫(9)、第三狹縫(10)和光譜儀(11)。2.根據(jù)權利要求1所述的共聚焦顯微控制熒光儀，其特征在于:所述激光發(fā)射器(I)和第一狹縫(2)之間設置有第一聚光透鏡(12)，第一狹縫(2)和第一半反半透鏡(3)之間設置有準直透鏡(13)。3.根據(jù)權利要求1所述的共聚焦顯微控制熒光儀，其特征在于:所述第一半反半透鏡(3)和第二狹縫(9)之間設置有第三聚光透鏡(14)，第二狹縫(9)和第三狹縫(10)之間設置有第三聚光透鏡(15)。4.根據(jù)權利要求2所述的共聚焦顯微控制熒光儀，其特征在于:按照激光光路方向還依次設置有激光器(I)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)顯微物鏡(7)和樣品臺(8)。5.根據(jù)權利要求1所述的共聚焦顯微控制熒光儀，其特征在于:按照激光光路方向還依次設置有激光器(I)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)、濾光片(4)、第二半反半透鏡(5)和照相機(6)。
【專利摘要】本實用新型涉及一種共聚焦顯微控制熒光儀，由激光發(fā)射器(1)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)、濾光片(4)、第二半反半透鏡(5)、照相機(6)、顯微物鏡(7)、樣品臺(8)、狹縫(9)、第三狹縫(10)和光譜儀(11)構成，按照激光光路的方向依次設置激光器(1)、第一狹縫(2)、第一半反半透鏡(3)、第二狹縫(9)、第三狹縫(10)和光譜儀(11)。本實用新型提供的共聚焦顯微控制熒光儀，可以得到材料帶隙、缺陷、雜質(zhì)能級以及復合機制等參數(shù)信息，通過對發(fā)光譜中峰位、半高寬等的分析，為科學實驗提供證據(jù)。
【IPC分類】G01N21/64
【公開號】CN204924942
【申請?zhí)枴緾N201520388279
【發(fā)明人】陳小梅
【申請人】陳小梅
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年6月3日