專利名稱：基板處理系統(tǒng)和基板輸送方法
技術領域：
本發(fā)明涉及對顯示面板用的基板進行處理的基板處理系統(tǒng)和該基板處理系統(tǒng)的基板輸送方法。
背景技術：
對于用于平板顯示器等的玻璃基板，為了在該玻璃基板上構(gòu)成微細的配線等，而實施等離子蝕刻法處理。通常，對于玻璃基板的等離子蝕刻法處理在基板處理系統(tǒng)中實施。在用于第六代的平板顯示器的玻璃基板實施等離子蝕刻法處理的基板處理系統(tǒng)， 具備處理腔(處理室)和對該處理腔進行玻璃基板的搬出搬入的負載鎖定模塊。在該基板處理系統(tǒng)中，在處理腔內(nèi)，采用使用了與在基板載置臺上使玻璃基板上升或者下降的第一升降銷不同的第二升降銷的基板更換方式，第二升降銷在多處保持玻璃基板的端部來使該玻璃基板上升或者下降，因此，能使實施玻璃基板的搬出搬入的負載鎖定模塊內(nèi)的輸送臂的結(jié)構(gòu)簡化，具體而言可以是單臂型或上下無旋轉(zhuǎn)軸型的省空間且簡易的結(jié)構(gòu)，由此，能兼顧裝置的制造成本和平板顯示器的生產(chǎn)性?？墒?，在對第七代以后的平板顯示器實施等離子蝕刻法處理的基板處理系統(tǒng)中， 由于玻璃基板的大小的大型化，在使用限制基板支承位置的第二升降銷的基板更換的時候，第二升降銷不能保持玻璃基板的適當?shù)牡胤剑赡軙共ＡЩ宓膹澢兊眠^大，并由于基板破裂而不能輸送。因此，與此對應，現(xiàn)狀是廢除第二升降銷，而采用雙臂型的輸送臂作為負載鎖定模塊內(nèi)的輸送臂，通過由該輸送臂實施基板更換，來防止玻璃基板的彎曲的發(fā)生。圖11是概略表示在第七代以后的平板顯示器實施等離子蝕刻法處理的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的立體圖。在圖11中，該基板處理系統(tǒng)110具備使收納于盒113的未處理的玻璃基板通過大氣系輸送臂114向轉(zhuǎn)移模塊112輸送的負載鎖定模塊115。該負載鎖定模塊115使處理完成的玻璃基板從轉(zhuǎn)移模塊112通過大氣系輸送臂114向盒116輸送。由于處理腔111和轉(zhuǎn)移模塊112的內(nèi)部狀態(tài)維持為大致真空，所以負載鎖定模塊115構(gòu)成為能使內(nèi)部狀態(tài)在大氣和真空之間切換(例如，參照專利文獻1)。此外，在基板處理系統(tǒng)110的轉(zhuǎn)移模塊112的內(nèi)部配置有作為基板輸送單元的階梯(scalar)型或直動型的輸送臂(未圖示)，該輸送臂在轉(zhuǎn)移模塊112的內(nèi)部以載置玻璃基板的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)。因而，需要使轉(zhuǎn)移模塊112的內(nèi)部容積較大。在開始制造的第十代的平板顯示器中使用的玻璃基板，由于呈一邊約不足!Μ的長方形，所以需要進一步使轉(zhuǎn)移模塊112的內(nèi)部容積變大，其結(jié)果是，使轉(zhuǎn)移模塊112巨大化。此外，在基板處理系統(tǒng)110中在轉(zhuǎn)移模塊112和負載鎖定模塊115之間配置有可斷絕真空的閘閥117，但是該閘閥117也隨著轉(zhuǎn)移模塊112的巨大化而巨大化，因此產(chǎn)生轉(zhuǎn)移模塊112和閘閥117的制造成本上升的問題。對于即將開始制造的第十一代的平板顯示器中使用的玻璃基板(呈一邊約超!Μ的長方形)，上述的轉(zhuǎn)移模塊112等的制造成本的上升更加顯著。于是，為了削減轉(zhuǎn)移模塊 112等制造成本，研究出基板處理系統(tǒng)120，該基板處理系統(tǒng)120如圖12所示，具備一個處理腔121和與該處理腔121連接的一個負載鎖定模塊122，并具有與處理第六代的平板顯示器中使用的玻璃基板的基板處理系統(tǒng)相似的結(jié)構(gòu)?？墒?，基板處理系統(tǒng)120只具備一個處理腔121，所以在負載鎖定模塊122實施玻璃基板的搬出搬入時，不能在其他的玻璃基板上實施等離子蝕刻法處理。因而，為了提高平板顯示器的制造效率，需要通過負載鎖定模塊122在短時間實施玻璃基板的搬出搬入?，F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2007-208235號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題然而，在使用一般的階梯型或直動式的雙臂型的輸送臂作為負載鎖定模塊122具備的基板輸送單元的時候，由于需要在負載鎖定模塊122的內(nèi)部確保該輸送臂的可動作區(qū)域，所以需要使負載鎖定模塊122的內(nèi)部容積較大。另一方面，由于需要負載鎖定模塊122 構(gòu)成為內(nèi)部狀態(tài)可在大氣與真空之間切換，所以負載鎖定模塊122的內(nèi)部容積較大時，在玻璃基板的搬出搬入時的內(nèi)部狀態(tài)的大氣與真空的切換中需要時間，結(jié)果是，存在不能提高平板顯示器的制造效率的問題。本發(fā)明的目的是提供能提高基板的處理效率的基板處理系統(tǒng)和基板輸送方法。解決問題的方法為了達成上述目的，技術方案1記載的基板處理系統(tǒng)包括在真空狀態(tài)下在基板上實施處理的一個基板處理裝置；與該基板處理裝置連接并使內(nèi)部狀態(tài)在大氣與真空之間進行切換的第一基板輸送裝置；和第二基板輸送裝置，其與該第一基板輸送裝置連接，按照隔著上述第一基板輸送裝置與上述基板處理裝置相對的方式配置，上述第二基板輸送裝置在大氣狀態(tài)下相對于上述第一基板輸送裝置進行上述基板的搬出搬入，上述第一基板輸送裝置相對于上述基板處理裝置進行上述基板的搬出搬入，該基板處理系統(tǒng)的特征在于，上述第一基板輸送裝置具有在該第一基板輸送裝置的內(nèi)部上下重疊地配置，且相互獨立地上下運動的上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送裝置，上述上部基板輸送機構(gòu)具有第一基部， 其配置有相互平行且向上述基板處理裝置延伸的多個第一導向部；多個細長狀的第一中間滑動部件，其與各上述第一導向部對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第一導向部相對地滑動；多個細長狀的第一上部滑動部件，其與各上述第一中間滑動部件對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第一中間滑動部件相對地滑動，上述下部基板輸送機構(gòu)具有第二基部，其配置有相互平行且向上述基板處理裝置延伸的多個第二導向部；多個細長狀的第二中間滑動部件，其與各上述第二導向部對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第二導向部相對地滑動；多個細長狀的第二上部滑動部件，其與各上述第二中間滑動部件對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第二中間滑動部件相對地滑動， 多個上述第一上部滑動部件和多個上述第二上部滑動部件分別載置上述基板。技術方案2記載的基板處理系統(tǒng)，其特征是，在技術方案1記載的基板處理系統(tǒng)中，在所述第一基板輸送裝置的內(nèi)部具備從下方向上方自由突出的多個銷狀部件。技術方案3記載的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，在技術方案1或者2記載的基板處理系統(tǒng)中，上述基板呈矩形，一邊的長度為1.8m以上。技術方案4記載的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，在技術方案1 3中任一項記載的基板處理系統(tǒng)中，在上述上部基板輸送機構(gòu)中各上述第一中間滑動部件與各上述第一上部滑動部件同步滑動，在上述下部基板輸送機構(gòu)中各上述第二中間滑動部件與上述述第二上部滑動部件同步滑動。技術方案5記載的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，在技術方案1 3中任一項記載的基板處理系統(tǒng)中，在上述上部基板輸送機構(gòu)中各上述第一中間滑動部件相互不連結(jié)，在上述下部基板輸送機構(gòu)中各上述第二中間滑動部件相互不連接。技術方案6記載的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，在技術方案1 3中任一項記載的基板處理系統(tǒng)中，在上述上部基板輸送機構(gòu)中各上述第一上部滑動部件相互不連結(jié)，在上述下部基板輸送機構(gòu)中各上述第二上部滑動部件相互不連結(jié)。為了達成上述目的，技術方案7記載的基板輸送方法，是一種基板處理系統(tǒng)的基板輸送方法，上述基板處理系統(tǒng)具備在真空狀態(tài)下在基板上實施處理的一個基板處理裝置；與該基板處理裝置連接并使內(nèi)部狀態(tài)在大氣與真空之間進行切換的第一基板輸送裝置；和第二基板輸送裝置，其與該第一基板輸送裝置連接，按照隔著上述第一基板輸送裝置與上述基板處理裝置相對的方式配置，上述第二基板輸送裝置在大氣狀態(tài)下相對于上述第一基板輸送裝置進行上述基板的搬出搬入，上述第一基板輸送裝置相對于上述基板處理裝置進行上述基板的搬出搬入，上述第一基板輸送裝置具有在該第一基板輸送裝置的內(nèi)部上下重疊地配置，且相互獨立地上下運動的上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送裝置，并具有在上述第一基板輸送裝置的內(nèi)部從下方向上方自由突出的多個銷狀部件，上述上部基板輸送機構(gòu)具有第一基部，其配置有相互平行且向上述基板處理裝置延伸的多個第一導向部；多個細長狀的第一中間滑動部件，其與各上述第一導向部對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第一導向部相對地滑動；多個細長狀的第一上部滑動部件，其與各上述第一中間滑動部件對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第一中間滑動部件相對地滑動，上述下部基板輸送機構(gòu)具有第二基部，其配置有相互平行且向上述基板處理裝置延伸的多個第二導向部；多個細長狀的第二中間滑動部件，其與各上述第二導向部對應地設置， 朝向上述基板處理裝置對于上述第二導向部相對地滑動；多個細長狀的第二上部滑動部件，其與各上述第二中間滑動部件對應地設置，朝向上述基板處理裝置對于上述第二中間滑動部件相對地滑動，多個上述第一上部滑動部件和多個上述第二上部滑動部件分別載置上述基板，該基板輸送方法的特征在于，具有上述上部基板輸送機構(gòu)接收上述第二基板輸送裝置搬入的未處理的基板的第一接取步驟；使上述上部基板輸送機構(gòu)和上述下部基板輸送機構(gòu)上升的第一上升步驟；上述下部基板輸送機構(gòu)使上述第二中間滑動部件和上述第二上部滑動部件滑動，將處理完成的基板從上述基板處理裝置搬出的搬出步驟；使上述上部基板輸送機構(gòu)和上述下部基板輸送機構(gòu)下降的下降步驟；上述上部基板輸送機構(gòu)使上述第一中間滑動部件和上述第一上部滑動部件滑動，將上述未處理的基板搬入上述基板處理裝置的搬入步驟；僅上述上部基板輸送機構(gòu)上升的第二上升步驟；上述多個銷狀部件突出， 使上述處理完成的基板從上述下部基板輸送機構(gòu)離開并上升的第三上升步驟；上述第二基板輸送裝置接收上升的上述處理完成的基板的第二接取步驟。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，第一基板輸送裝置的上部基板輸送機構(gòu)具有對于第一導向部相對地滑動的多個細長狀的第一中間滑動部件和對于第一中間滑動部件相對地滑動的多個細長狀的第一上部滑動部件，所以在相對于基板處理裝置搬出搬入基板的時候以外，通過將第一導向部、第一中間滑動部件和第一上部滑動部件重疊能使上部基板輸送機構(gòu)變小。此外， 第一基板輸送裝置的下部基板輸送機構(gòu)具有對于第二導向部相對地滑動的多個細長狀的第二中間滑動部件和對于第二中間滑動部件相對地滑動的多個細長狀的第二上部滑動部件，所以在相對于基板處理裝置搬出搬入基板的時候以外，通過將第二導向部、第二中間滑動部件和第二上部滑動部件重疊能使下部基板輸送機構(gòu)變小。并且，由于第一基板輸送裝置僅連接一個基板處理裝置，所以第一基板輸送裝置可以相對于一個基板處理裝置進行基板的搬出搬入。此外，通過上部基板輸送機構(gòu)上升不會妨礙下部基板輸送機構(gòu)進行的基板的搬出搬入和交接，通過下部基板輸送機構(gòu)下降不會妨礙上部基板輸送機構(gòu)進行的基板的搬出搬入和交接。因而，不需要使上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)進行旋轉(zhuǎn)，能使上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)簡化， 能進一步使上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)縮小。其結(jié)果是，能使第一基板輸送裝置的內(nèi)部容積較小，因而，在第一基板輸送裝置的內(nèi)部狀態(tài)的大氣與真空的切換上不需要花時間。由此，能提高基板的處理效率。


圖1是概略表示本發(fā)明的實施方式的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2是概略表示在現(xiàn)有的基板處理系統(tǒng)使用的基板輸送單元的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖3是在圖1的線A-A的截面圖。圖4是概略表示圖3的上部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖，圖4(A)是用于說明上部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)和動作的截面圖，圖4(B)是在圖4(A)的線B-B的截面圖。圖5是用于說明導向部、導向臂和拾取器的位置關系的擴大截面圖。圖6是概略表示圖3的下部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖，圖6(A)是用于說明下部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)和動作的截面圖，圖6(B)是在圖6(A)的線C-C的截面圖。圖7是用于說明作為本實施方式的基板輸送方法的輸送順序的工序圖。圖8是用于說明作為本實施方式的基板輸送方法的輸送順序的工序圖。圖9是表示上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)的變形例的圖，圖9 (A)是水平截面圖，圖9(B)是縱截面圖。圖10是表示上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)的拾取器的變形例的擴大截面圖。圖11是概略地表示在第七代以后的平板顯示器實施等離子蝕刻法處理的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖12是概略地表示在第十一代的平板顯示器實施等離子蝕刻法處理的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的立體圖。符號說明
G玻璃基板10基板處理系統(tǒng)11處理腔13負載鎖定模塊22上部基板輸送機構(gòu)23下部基板輸送機構(gòu)24緩沖銷25、四導向部26、30升降基座27、31 導向臂28、32 拾取器
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行詳細的說明。圖1是概略表示本發(fā)明的實施方式的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的俯視圖。該基板處理系統(tǒng)，以單片的方式對一邊的長度為1. 8m以上的矩形玻璃基板，特別是對用于第十一代以后的平板顯示器的玻璃基板實施等離子蝕刻法處理。另外，在圖1中，為了容易理解基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，使用水平截面圖表示后述的負載鎖定模塊13和處理腔11。在圖1中，基板處理系統(tǒng)10具備筐體狀的處理腔11 (基板處理裝置)；通過閘閥 12與該處理腔11連接的筐體狀的負載鎖定模塊13 (第一基板輸送裝置)；大氣系輸送裝置 14 (第二基板輸送裝置)，其與該負載鎖定模塊13連接，并以隔著負載鎖定模塊13與處理腔11相對的方式配置；盒15 (基板供給裝置)和盒16 (基板収容裝置)，它們與該大氣系輸送裝置14連接，配置于關于該大氣系輸送裝置14從負載鎖定模塊13向圖中順時針和逆時針旋轉(zhuǎn)移動約90°的位置。此外，在負載鎖定模塊13的與大氣系輸送裝置14相對的側(cè)面設置閘閥17。處理腔11在維持為真空的內(nèi)部收納玻璃基板G，利用在其內(nèi)部產(chǎn)生的等離子體在玻璃基板G實施等離子蝕刻法處理。此外，處理腔11在內(nèi)部具有載置玻璃基板G的基板載置臺18。負載鎖定模塊13構(gòu)成為，在內(nèi)部具有后述的上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23，通過未圖示的排氣裝置和壓力控制閥能使內(nèi)部狀態(tài)能夠在大氣和真空之間進行切換。盒15由存儲多個未處理的玻璃基板G的框體組成，在盒15中多個未處理的玻璃基板G相互平行且保持規(guī)定的間隔地進行重疊。此外，盒16由存儲多個處理完成的玻璃基板G的框體組成，在盒16中多個處理完成的玻璃基板G相互平行且保持規(guī)定的間隔地進行重疊。大氣系輸送裝置14具有輸送臂機構(gòu)19。該輸送臂機構(gòu)19暴露在大氣中，并具有 載置玻璃基板G的梳狀的拾取器20 ；支承該拾取器20且伸縮自由的階梯臂(未圖示)；支承該階梯臂且旋轉(zhuǎn)自由的旋轉(zhuǎn)基座21。輸送臂機構(gòu)19通過伸縮階梯臂、使旋轉(zhuǎn)基座21旋轉(zhuǎn)，來將未處理的玻璃基板G從盒15搬出并交向負載鎖定模塊13的上部基板輸送機構(gòu)22，從負載鎖定模塊13的下部基板輸送機構(gòu)23收取處理完成的玻璃基板G并收納到盒16。閘閥12在處理腔11進行玻璃基板G的等離子蝕刻法處理時關閉而將處理腔11的內(nèi)部和負載鎖定模塊13的內(nèi)部隔開，在由上部基板輸送機構(gòu)22向處理腔11搬入未處理的玻璃基板G的時候、或由下部基板輸送機構(gòu)23從處理腔11搬出處理完成的玻璃基板G的時候打開而使處理腔11的內(nèi)部和負載鎖定模塊13的內(nèi)部連通。此外，閘閥17在負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)為大氣的情況下打開，以使輸送臂機構(gòu)19的拾取器20能進入該內(nèi)部的方式在負載鎖定模塊13的側(cè)面形成開口部，在負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)為真空的情況下關閉，將負載鎖定模塊13的內(nèi)部與外部隔開?？墒?，如圖2所示，在現(xiàn)有的基板處理系統(tǒng)中使用的基板輸送單元200具備由旋轉(zhuǎn)軸(未圖示)支承的大致呈長方體的滑動基座201 ；安裝于該滑動基座201并在滑動基座201的長度方向(以下簡稱“長度方向”)能滑動的下部拾取器基座202 ；和安裝于滑動基座201并在滑動基座201的長度方向能滑動的上部拾取器基座203。分別從下部拾取器基座202和上部拾取器基座203沿長度方向延伸出四個長棒狀的拾取器204、205，通過下部拾取器基座202和上部拾取器基座203滑動，各拾取器204、205進入處理腔的內(nèi)部來輸送玻璃基板G。在該基板輸送單元200中，下部拾取器基座202和上部拾取器基座203為了確保各拾取器204、205的相對滑動基座201的安裝剛性，而構(gòu)成為上下方向較厚。在現(xiàn)有的基板處理系統(tǒng)中在負載鎖定模塊配置基板輸送單元200的時候，即使閘閥在處理腔的側(cè)面形成開口部來使處理腔的內(nèi)部和負載鎖定模塊的內(nèi)部連通，因為基板輸送單元200的下部拾取器基座202和上部拾取器基座203較厚，所以該下部拾取器基座202 和上部拾取器基座203也不能通過開口部，不能進入處理腔的內(nèi)部。因而，需要通過使各拾取器204、205的長度盡可能長，而取得玻璃基板G的可輸送距離。使各拾取器204、205的長度越長，在玻璃基板G的輸送時各拾取器204、205的振動越大，且各拾取器204、205的重量也越重。因而，為了能防止各拾取器204、205的振動、 穩(wěn)定地支承各拾取器204、205，需要各拾取器204、205的相對滑動基座201的安裝剛性更高。為了使各拾取器204、205的安裝剛性更高，不僅需要提高下部拾取器基座202和上部拾取器基座203的靜態(tài)剛性還要提高滑動基座201的靜態(tài)剛性，因此也需要增大滑動基座 201的厚度。此外，在基板輸送單元200中，通過使滑動基座201旋轉(zhuǎn)，而使該基板輸送單元200 整體旋轉(zhuǎn)，為了防止在旋轉(zhuǎn)時由慣性力引起的滑動基座201彎曲，需要進一步提高滑動基座201的靜態(tài)剛性，其結(jié)果是，需要進一步增大滑動基座201的厚度?？墒牵绻够瑒踊?01的厚度增大，則使基板輸送單元200大型化。此外，如上所述，在基板輸送單元200中因為使各拾取器204、205盡可能長地構(gòu)成，所以收納各拾取器204、205的時候，也就是即使使各拾取器204、205向滑動基座201重疊的時候，基板輸送單元200并不變那么小。因而，結(jié)果是基板輸送單元200大型化。由此，需要增大負載鎖定模塊的內(nèi)部容積。而且，為了基板輸送單元200旋轉(zhuǎn)，需要在負載鎖定模塊13的內(nèi)部確?？尚D(zhuǎn)的區(qū)域，需要進一步增大負載鎖定模塊的內(nèi)部容積。如果負載鎖定模塊的內(nèi)部容積增大，則在內(nèi)部狀態(tài)的大氣與真空的切換時需要花費時間，不能提高平板顯示器的制造效率。在本實施方式中，對應于此，能使基板輸送單元小型化，且不需要基板輸送單元的旋轉(zhuǎn)。具體而言，使上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)小型化，進而，按照僅通過使上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送機構(gòu)只在一個方向輸送玻璃基板G，而能實行負載鎖定模塊和處理腔之間的玻璃基板G的交換的方式構(gòu)成基板輸送單元。圖3是在圖1的線A-A的截面圖，概略表示本實施方式的基板處理系統(tǒng)的采用第一基板輸送裝置的負載鎖定模塊的結(jié)構(gòu)的截面圖。在圖3中，負載鎖定模塊13具備在該負載鎖定模塊13的內(nèi)部以在圖中上下重疊的方式配置的上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23，并且，具備在負載鎖定模塊 13的內(nèi)部S(以下簡稱“內(nèi)部S”)從底部向圖中上方突出、且自由上下運動的多個緩沖銷 24 (銷狀部件)，和使負載鎖定模塊13的內(nèi)部的狀態(tài)在大氣與真空之間切換的排氣裝置和壓力控制閥(未圖示)。上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23相互獨立并上下運動。具體而言， 上部基板輸送機構(gòu)22在基板交接位置與上部退避位置之間升降，所述基板交接位置是從輸送臂機構(gòu)19的拾取器20接收未處理的玻璃基板G的位置，或者，將未處理的玻璃基板G 向處理腔11搬入的位置，所述上部退避位置是在下部基板輸送機構(gòu)23實施玻璃基板G的交接時為了確保下部基板輸送機構(gòu)23的作業(yè)空間而使上部基板輸送機構(gòu)22進行退避的退避位置。在內(nèi)部S中上部退避位置比基板交接位置更位于上方。此外，下部基板輸送機構(gòu)23在基板交接位置與下部退避空間之間升降，所述基板交接位置是將處理完成的玻璃基板G從處理腔11搬出的位置，或者向輸送臂機構(gòu)19的拾取器20交出處理完成的玻璃基板G的位置，所述部退避空間是在上部基板輸送機構(gòu)22實施玻璃基板G的交接的時候為了確保上部基板輸送機構(gòu)22的作業(yè)空間而使下部基板輸送機構(gòu)23進行退避的退避位置。在內(nèi)部S中下部退避位置比基板交接位置更位于下方。而且，上部基板輸送機構(gòu)22的基板交接位置與下部基板輸送機構(gòu)23的基板交接位置相同。圖4是概略表示圖3的上部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖，圖4(A)是用于說明上部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)和動作的截面圖，圖4(B)是在圖4(A)的線B-B的截面圖。在圖4(A)和圖4(B)中，上部基板輸送機構(gòu)22具有配置有相互平行且向處理腔 11(向圖中右方)延伸的四個導向部25(第一導向部)的板狀升降基座沈(第一基部)；對應各導向部25設置的呈細長的棱柱狀的導向臂27 (第一中間滑動部件)；和對應各導向臂 27設置的、由細長的薄板體形成的拾取器觀(第一上部滑動部件)。在上部基板輸送機構(gòu) 22中，四個拾取器觀合作載置一枚未處理的玻璃基板G。如圖5所示，在上部基板輸送機構(gòu)22中，在升降基座沈上，從下方器按照導向部 25、導向臂27和拾取器觀的順序重疊。導向臂27具有沿著全長設置于下表面的導向部槽 27a，并借助該導向部槽27a而與導向部25遊隙嵌合。此外，拾取器觀是將薄板體折彎成截面為U字狀而形成的，通過在以U字形成的內(nèi)部空間收納導向臂27而與導向臂27遊隙嵌合。上部基板輸送機構(gòu)22具有未圖示的驅(qū)動源，利用該驅(qū)動源賦予的驅(qū)動力，導向臂 27朝向處理腔11相對于導向部25進行相對地滑動，且拾取器28朝向處理腔11相對于導向臂27進行相對地滑動。這時，四個導向臂27邊維持相互的相對位置關系邊滑動，四個拾取器觀也邊維持相互的相對位置關系邊滑動。此外，因為各導向臂27與各拾取器觀同步滑動，所以能防止在導向臂27和拾取器觀中的任一方的滑動中另一方停止而在上部基板輸送機構(gòu)22中產(chǎn)生沖擊。由此，能防止載置于拾取器觀的未處理的玻璃基板G發(fā)生位置偏移，能將未處理的玻璃基板G正確地載置于處理腔11的基板載置臺18的規(guī)定的位置。在上部基板輸送機構(gòu)22中，按照在導向臂27和拾取器觀向處理腔11 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖4(A)和圖4(B)所示的狀態(tài))，載置于拾取器觀的未處理的玻璃基板 G到達基板載置臺18的上方的方式，設定導向臂27和拾取器觀的長度和可滑動范圍。此外，在上部基板輸送機構(gòu)22中，向處理腔11 一側(cè)最大限滑動的導向臂27和拾取器觀，利用驅(qū)動源賦予的驅(qū)動力，向大氣系輸送裝置14滑動，與升降基座沈重疊(圖3 所示的狀態(tài))。以下，將導向臂27和拾取器觀向處理腔11 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖4㈧ 和圖4(B)所示的狀態(tài))稱為“伸長狀態(tài)”，將導向臂27和拾取器觀向大氣系輸送裝置14 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖3所示的狀態(tài))稱為“縮短狀態(tài)”。而且，僅在上部基板輸送機構(gòu)22位于基板交接位置時，能從縮短狀態(tài)向伸長狀態(tài)、和從伸長狀態(tài)向縮短狀態(tài)進行遷移，位于上部退避位置時保持縮短狀態(tài)。圖6是概略表示圖3的下部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖，圖6(A)是用于說明下部基板輸送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)和動作的截面圖，圖6(B)是在圖6(A)的線C-C的截面圖。在圖6(A)和圖6(B)中，下部基板輸送機構(gòu)23具有配置了相互平行且向處理腔 11(向圖中右方)延伸的四個導向部四(第二導向部)的板狀升降基座30 (第二基部)；對應各導向部四設置的呈細長棱柱狀的導向臂31 (第二中間滑動部件)；和對應各導向臂31 設置的、由細長的薄板體形成的拾取器32 (第二上部滑動部件)。在下部基板輸送機構(gòu)23 中，四個拾取器32合作載置一枚處理完成的玻璃基板G。在下部基板輸送機構(gòu)23中，如圖5所示，在升降基座30上，從下方起按照導向部四、導向臂31和拾取器32的順序重疊。導向臂31具有沿著全長設置于下表面的導向部槽 31a，并借助該導向部槽31a而與導向部四遊隙嵌合。此外，拾取器32是將薄板體折彎成截面為U字狀而形成的，通過在以U字形成的內(nèi)部空間收納導向臂31而與導向臂31遊隙嵌合。下部基板輸送機構(gòu)23具有未圖示的驅(qū)動源，利用該驅(qū)動源賦予的驅(qū)動力，導向臂 31朝向處理腔11相對于導向部四進行相對滑動，且拾取器32朝向處理腔11相對于導向臂31進行相對滑動。這時，四個導向臂31邊維持相互的相對位置關系邊滑動，四個拾取器 32也邊維持相互的相對位置關系邊滑動。此外，因為各導向臂31與各拾取器32同步滑動， 所以能防止在導向臂31和拾取器32中任一方的滑動中另一方停止而在下部基板輸送機構(gòu) 23產(chǎn)生沖擊。由此，能防止載置于拾取器32的處理完成的玻璃基板G發(fā)生位置偏移。在下部基板輸送機構(gòu)23中，按照在導向臂31和拾取器32向處理腔11 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖6 (A)和圖6 (B)所示的狀態(tài))，拾取器32到達基板載置臺18的上方的方式，來設定導向臂31與拾取器32的長度和可滑動范圍。此外，在下部基板輸送機構(gòu)23中，向處理腔11 一側(cè)進行了最大限滑動的導向臂 31和拾取器32，利用驅(qū)動源賦予的驅(qū)動力，向大氣系輸送裝置14滑動，與升降基座30重疊 (圖3所示的狀態(tài))。
以下，將導向臂31和拾取器32向處理腔11 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖6㈧ 和圖6(B)所示的狀態(tài))稱為“伸長狀態(tài)”，將導向臂31和拾取器32向大氣系輸送裝置14 一側(cè)進行了最大限滑動時(圖3所示的狀態(tài))稱為“縮短狀態(tài)”。而且，僅在下部基板輸送機構(gòu)23位于基板交接位置時，能從縮短狀態(tài)向伸長狀態(tài)、和從伸長狀態(tài)向縮短狀態(tài)進行遷移，在位于下部退避位置時保持縮短狀態(tài)。在上部基板輸送機構(gòu)22中，在升降基座沈上，在對應多個緩沖銷M的位置上設置有貫通孔(未圖示)，各緩沖銷M與各貫通孔遊隙嵌合。此外，在下部基板輸送機構(gòu)23 中，在升降基座30上，在對應多個緩沖銷M的位置上設置有貫通孔(未圖示)，各緩沖銷 24與各貫通孔遊隙嵌合。因而，與上部基板輸送機構(gòu)22的位置和下部基板輸送機構(gòu)23的位置無關，多個緩沖銷M能自由地上下運動。此外，多個緩沖銷M通過來自驅(qū)動源(未圖示)的驅(qū)動力，同步地上下運動，所以多個緩沖銷M合作地支承玻璃基板G并且上下運動時，被支承的玻璃基板G不會傾斜。其結(jié)果是，能防止發(fā)生玻璃基板G的位置偏移。此外，上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23不需要如后述那樣旋轉(zhuǎn)，所以不會在各構(gòu)成部件上作用因旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的慣性力，不需要為了防止彎曲而將各構(gòu)成部件的安裝剛性確保為現(xiàn)有的基板輸送單元200的上部基板輸送機構(gòu)203和下部基板輸送機構(gòu) 204的各構(gòu)成部件那樣的安裝剛性。因而，在上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23 中，各導向臂27不需要相互連結(jié)，各導向臂31也不需要相互連結(jié)。進而，各拾取器觀不需要相互連結(jié)，各拾取器32也不需要相互連結(jié)。因而，不需要現(xiàn)有的基板輸送單元200的拾取器基座207那樣的連結(jié)部件。根據(jù)本實施方式的基板處理系統(tǒng)10，負載鎖定模塊13的上部基板輸送機構(gòu)22具有相對于升降基座26的導向部25進行滑動的四個導向臂27和相對于導向臂27進行滑動的四個拾取器觀，所以在縮短狀態(tài)通過使升降基座26、導向臂27和拾取器觀重疊能使上部基板輸送機構(gòu)22變小。此外，負載鎖定模塊13的下部基板輸送機構(gòu)23具有相對于升降基座30的導向部四進行滑動的四個導向臂31和相對于導向臂31進行滑動的四個拾取器 32，所以在縮短狀態(tài)通過使升降基座30、導向臂31和拾取器32重疊能使下部基板輸送機構(gòu) 23變小。其結(jié)果是，能使負載鎖定模塊13的內(nèi)部容積變小，因此，在負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)的大氣與真空的切換上不需要花時間。由此，能提高玻璃基板G的處理效率。在上述的基板處理系統(tǒng)10中，在上部基板輸送機構(gòu)22中各導向臂27相互不連結(jié)，且各拾取器觀也不相互連結(jié)。此外，在下部基板輸送機構(gòu)23中各導向臂31不相互連結(jié)，且各拾取器32也不相互連結(jié)。由此，不需要導向臂27、拾取器28、導向臂31和拾取器 32的連結(jié)部件，能使上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23進一步減小。在上述的實施方式中，對基板處理系統(tǒng)的基板輸送單元分別具備四個導向部、導向臂和拾取器的情況進行了說明，但是導向部、導向臂和拾取器的數(shù)量，只要是可支承和輸送玻璃基板G的數(shù)目，不特別限定。接著，對本實施方式的基板輸送方法進行說明。圖7和圖8是用于說明作為本實施方式的基板輸送方法的輸送順序的工序圖。本輸送順序主要由基板處理系統(tǒng)10的負載鎖定模塊13實行。而且，圖7 (A)、圖7 (C)、圖7 (E)、 圖7(G)、圖8(A)、圖8(C)、圖8(E)和圖8(G)是在圖1的線A-A的截面圖，圖7 (B)、圖7 (D)、 圖7(F)、圖7(H)、圖8(B)、圖8(D)、圖8(F)和圖8(H)是在圖1的線A-A的截面圖。
首先，上部基板輸送機構(gòu)22位于基板交接位置，下部基板輸送機構(gòu)23位于下部退避位置。此外，多個緩沖銷M通過升降基座30的各貫通孔上升，在規(guī)定的位置等待。之后， 閘閥17 (未圖示)打開，載置未處理的玻璃基板G的拾取器20進入內(nèi)部S將玻璃基板G輸送到上部基板輸送機構(gòu)22的正上方(圖7 (A)、圖7 (B))。接著，拾取器20下降使玻璃基板G的下表面接觸各緩沖銷M，之后，拾取器20進一步下降。由此，玻璃基板G從拾取器20離開，各緩沖銷M支承玻璃基板G(圖7 (C)、圖 7(D)) 0接著，拾取器20從內(nèi)部S退出，閘閥17關閉，排氣裝置和壓力控制閥使負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)向真空切換。并且，通過兩個定位器(pisitioner) 33抵接未處理的玻璃基板G的邊緣來調(diào)整未處理的玻璃基板G的位置(圖7 (E)、圖7 (F))。另外，對關于導向臂27、31和拾取器觀、32的滑動方向(玻璃基板G的輸送方向) 的玻璃基板G的位置補正，例如，在玻璃基板G被輸送臂機構(gòu)19的拾取器20保持的狀態(tài)下通過另行設置的偏移量傳感器(未圖示)檢出玻璃基板G的伸縮方向的偏移，并根據(jù)該檢出的偏移在支承拾取器20的階梯臂進行位置補正，由此，能使定位器33不接觸玻璃基板G 地實施位置補正。接著，上部基板輸送機構(gòu)22上升，拾取器觀抵接玻璃基板G的下表面之后上部基板輸送機構(gòu)22上升到上部退避位置(第一上升步驟)。由此，上部基板輸送機構(gòu)22接收未處理的玻璃基板G。之后，多個緩沖銷M下降，下部基板輸送機構(gòu)23上升到基板交接位置 (第一上升步驟)，閘閥12打開。接著，下部基板輸送機構(gòu)23使導向臂31和拾取器32向處理腔11 一側(cè)進行最大限滑動，將由多個推進式銷(未圖示)舉起的處理完成的玻璃基板G從處理腔11的基板載置臺18向拾取器32收取(圖7 (G)、圖7 (H))，進而，使導向臂31和拾取器32向大氣系輸送裝置14 一側(cè)進行最大限滑動，將處理完成的玻璃基板G從處理腔11搬出，輸送到下部基板輸送機構(gòu)23的正上方(搬出步驟)。接著，載置有處理完成的玻璃基板G的下部基板輸送機構(gòu)23下降到下部退避位置，上部基板輸送機構(gòu)22下降到基板交接位置(下降步驟)。之后上部基板輸送機構(gòu)22使導向臂27和拾取器觀向處理腔11 一側(cè)進行最大限滑動，向從處理腔11的基板載置臺18 突出的多個推進式銷(未圖示)交接未處理的玻璃基板G (圖8 (A)、圖8 (B))(搬入步驟)。接著，上部基板輸送機構(gòu)22使導向臂27和拾取器觀向大氣系輸送裝置14 一側(cè)進行最大限滑動，向縮短狀態(tài)遷移，并上升到上部退避位置(第二上升步驟)。之后，多個緩沖銷M上升，使載置于下部基板輸送機構(gòu)23的拾取器32的處理完成的玻璃基板G從拾取器32離開之后也繼續(xù)上升，使處理完成的玻璃基板G上升到規(guī)定的位置(第三上升步驟)。 進而，通過兩個定位器33抵接處理完成的玻璃基板G的邊緣來調(diào)整處理完成的玻璃基板G 的位置(圖8(C)、圖8(D))。另外，對關于玻璃基板G的輸送方向的位置補正，與從上述的大氣系輸送裝置14 向負載鎖定模塊13搬入玻璃基板G的時候(圖7(A) 圖7(F))相同，例如，通過在支承拾取器20的階梯臂實施位置補正，也能使定位器33不接觸玻璃基板G地實施位置補正。接著，閘閥12關閉，排氣裝置和壓力控制閥使負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)向大氣切換。之后，閘閥17打開，拾取器20向內(nèi)部S進入并位于處理完成的玻璃基板G的正下方(圖 8(E)、圖 8(F))。接著，拾取器20上升，在抵接處理完成的玻璃基板G的下表面之后也上升到規(guī)定的位置使處理完成的玻璃基板G從多個緩沖銷M離開。由此，拾取器20接取處理完成的玻璃基板G (圖8 (G)、圖8 (H))(第二接取步驟)。接著，載置了處理完成的玻璃基板G的拾取器20從內(nèi)部S退出，結(jié)束本輸送順序。根據(jù)作為本實施方式的基板輸送方法的輸送順序，負載鎖定模塊13僅與一個處理腔11連接，所以負載鎖定模塊13可以對一個處理腔11實行玻璃基板G的搬入搬出。此外，通過使上部基板輸送機構(gòu)22上升，不會妨礙利用下部基板輸送機構(gòu)23的玻璃基板G的搬出搬入和交接，通過使下部基板輸送機構(gòu)23下降，不會妨礙利用上部基板輸送機構(gòu)22的玻璃基板G的搬出搬入和交接。因而，上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23不需要旋轉(zhuǎn)。若上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23不旋轉(zhuǎn)，則在上部基板輸送機構(gòu) 22和下部基板輸送機構(gòu)23的各構(gòu)成部件不會作用由旋轉(zhuǎn)引起的慣性力，不需要為了防止由慣性力引起的彎曲，而使各構(gòu)成部件的靜態(tài)剛性提高到現(xiàn)有的基板輸送單元200的上部基板輸送機構(gòu)203和下部基板輸送機構(gòu)204的各構(gòu)成部件的靜態(tài)剛性的程度。其結(jié)果是， 使升降基座沈、30、導向臂27、31和拾取器觀、32較薄地構(gòu)成，例如，能構(gòu)成為厚度IOOmm以下，能使上部基板輸送機構(gòu)22和下部基板輸送機構(gòu)23更小。此外，因為能使導向臂27、31較薄地構(gòu)成，所以在伸長狀態(tài)下導向臂27、31能通過處理腔11的側(cè)面的開口部。其結(jié)果是，不使拾取器觀、32太長地構(gòu)成，也能將玻璃基板G 的可輸送距離確保在期望值以上。即，因為使拾取器觀、32較短地構(gòu)成，所以不需要為了防止拾取器觀、32的振動而提高拾取器觀、32的安裝剛性。其結(jié)果是，不需要提高安裝拾取器觀、32的導向臂27、31和安裝該導向臂27、31的升降基座沈、30的靜態(tài)剛性，由此，能使導向臂27、31和升降基座沈、30更薄地構(gòu)成。其結(jié)果是，能進一步縮小上部基板輸送機構(gòu) 22和下部基板輸送機構(gòu)23。因此，能使負載鎖定模塊13的內(nèi)部容積縮小，在負載鎖定模塊13的內(nèi)部狀態(tài)的大氣與真空的切換中不需要花時間。由此，能提高玻璃基板G的處理效率。在上述的基板處理系統(tǒng)10中，各導向臂27、各拾取器洲、各導向臂31和各拾取器 32分別相互不連結(jié)，但是也可以由連結(jié)部件相互連結(jié)。例如，如圖9(A)和圖9(B)所示，各導向臂27通過作為連結(jié)部件的臂基座34相互連結(jié)，各導向臂31也可以通過臂基座35連結(jié)。在上述的基板處理系統(tǒng)10中，拾取器觀和拾取器32是將薄板體折彎成截面為U 字狀而形成的，但是如圖10所示，也可以由簡單的細長薄板來形成。這時，在導向臂27、31 的上表面設置切口，在拾取器觀、32的下表面設置銷等引導件，優(yōu)選使銷與切口遊隙嵌合。此外，在上述的基板處理系統(tǒng)10中，上部基板輸送機構(gòu)22輸送未處理的玻璃基板 G，下部基板輸送機構(gòu)23輸送處理完成的玻璃基板G，但是也可以上部基板輸送機構(gòu)22輸送處理完成的玻璃基板G，下部基板輸送機構(gòu)23輸送未處理的玻璃基板G。此外，在上述的基板處理系統(tǒng)10中，在緩沖銷M和拾取器20之間實施玻璃基板 G的交接的時候，使拾取器20升降地進行交接，但是也可以使緩沖銷M升降而進行交接。以上，使用上述實施方式對本發(fā)明進行了說明，但是本發(fā)明不限定于上述實施方式。
權(quán)利要求
1.一種基板處理系統(tǒng)，其包括在真空狀態(tài)下在基板上實施處理的一個基板處理裝置；與該基板處理裝置連接并使內(nèi)部狀態(tài)在大氣與真空之間切換的第一基板輸送裝置；和第二基板輸送裝置，其與該第一基板輸送裝置連接，并按照隔著所述第一基板輸送裝置與所述基板處理裝置相對的方式配置，其中，所述第二基板輸送裝置在大氣狀態(tài)下相對于所述第一基板輸送裝置進行所述基板的搬出搬入，所述第一基板輸送裝置相對于所述基板處理裝置進行所述基板的搬出搬入，該基板處理系統(tǒng)的特征在于所述第一基板輸送裝置具有在該第一基板輸送裝置的內(nèi)部以上下重疊的方式配置，且相互獨立地上下運動的上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送裝置，所述上部基板輸送機構(gòu)具有第一基部，其配置有相互平行且向所述基板處理裝置延伸的多個第一導向部；多個細長狀的第一中間滑動部件，其與各所述第一導向部對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第一導向部相對地滑動；和多個細長狀的第一上部滑動部件，其與各所述第一中間滑動部件對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第一中間滑動部件相對地滑動，所述下部基板輸送機構(gòu)具有第二基部，其配置有相互平行且向所述基板處理裝置延伸的多個第二導向部；多個細長狀的第二中間滑動部件，其與各所述第二導向部對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第二導向部相對地滑動；和多個細長狀的第二上部滑動部件，其與各所述第二中間滑動部件對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第二中間滑動部件相對地滑動，多個所述第一上部滑動部件和多個所述第二上部滑動部件分別載置所述基板。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于具備在所述第一基板輸送裝置的內(nèi)部從下方向上方突出自如的多個銷狀部件。
3.如權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于所述基板呈矩形，一邊的長度為1. 8m以上。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在所述上部基板輸送機構(gòu)中各所述第一中間滑動部件與各所述第一上部滑動部件同步滑動，在所述下部基板輸送機構(gòu)中各所述第二中間滑動部件與各所述第二上部滑動部件同步滑動。
5.如權(quán)利要求1 3中任一項所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在所述上部基板輸送機構(gòu)中各所述第一中間滑動部件相互未連結(jié)，在所述下部基板輸送機構(gòu)中各所述第二中間滑動部件相互未連接。
6.如權(quán)利要求1 3中任一項所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于在所述上部基板輸送機構(gòu)中各所述第一上部滑動部件相互未連結(jié)，在所述下部基板輸送機構(gòu)中各所述第二上部滑動部件相互未連結(jié)。
7.一種基板輸送方法，其是基板處理系統(tǒng)的基板輸送方法，所述基板處理系統(tǒng)包括 在真空狀態(tài)下在基板上實施處理的一個基板處理裝置；與該基板處理裝置連接并使內(nèi)部狀態(tài)在大氣與真空之間切換的第一基板輸送裝置；和第二基板輸送裝置，其與該第一基板輸送裝置連接，按照隔著所述第一基板輸送裝置與所述基板處理裝置相對的方式配置，其中， 所述第二基板輸送裝置在大氣狀態(tài)下相對于所述第一基板輸送裝置進行所述基板的搬出搬入，所述第一基板輸送裝置相對于所述基板處理裝置進行所述基板的搬出搬入，所述第一基板輸送裝置具有在該第一基板輸送裝置的內(nèi)部以上下重疊的方式配置，且相互獨立地上下運動的上部基板輸送機構(gòu)和下部基板輸送裝置，并具有在所述第一基板輸送裝置的內(nèi)部從下方向上方突出自如的多個銷狀部件，所述上部基板輸送機構(gòu)具有第一基部，其配置有相互平行且向所述基板處理裝置延伸的多個第一導向部；多個細長狀的第一中間滑動部件，其與各所述第一導向部對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第一導向部相對地滑動；多個細長狀的第一上部滑動部件，其與各所述第一中間滑動部件對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第一中間滑動部件相對地滑動，所述下部基板輸送機構(gòu)具有第二基部，其配置有相互平行且向所述基板處理裝置延伸的多個第二導向部；多個細長狀的第二中間滑動部件，其與各所述第二導向部對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第二導向部相對地滑動；多細個長狀的第二上部滑動部件，其與各所述第二中間滑動部件對應地設置，朝向所述基板處理裝置對于所述第二中間滑動部件相對地滑動，多個所述第一上部滑動部件和多個所述第二上部滑動部件分別載置所述基板， 該基板輸送方法的特征在于，包括所述上部基板輸送機構(gòu)接收所述第二基板輸送裝置搬入的未處理的基板的第一接收步驟；使所述上部基板輸送機構(gòu)和所述下部基板輸送機構(gòu)上升的第一上升步驟； 所述下部基板輸送機構(gòu)使所述第二中間滑動部件和所述第二上部滑動部件滑動，將處理完成的基板從所述基板處理裝置搬出的搬出步驟；使所述上部基板輸送機構(gòu)和所述下部基板輸送機構(gòu)下降的下降步驟； 所述上部基板輸送機構(gòu)使所述第一中間滑動部件和所述第一上部滑動部件滑動，將所述未處理的基板搬入所述基板處理裝置的搬入步驟； 僅所述上部基板輸送機構(gòu)上升的第二上升步驟；所述多個銷狀部件突出，使所述處理完成的基板從所述下部基板輸送機構(gòu)離開并上升的第三上升步驟；所述第二基板輸送裝置接收上升的所述處理完成的基板的第二接收步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能使基板的處理效率提高的基板處理系統(tǒng)。在基板處理系統(tǒng)(10)的負載鎖定模塊(13)中，在該負載鎖定模塊(13)的內(nèi)部，上部基板輸送機構(gòu)(22)和下部基板輸送機構(gòu)(23)相互獨立地上下運動，在上部基板輸送機構(gòu)(22)中，相對于配置于升降基座(26)的四個導向部(25)，四個導向臂(27)朝向處理腔(11)相對地滑動，相對于各導向臂(27)，四個拾取器(28)朝向處理腔(11)相對地滑動，在下部基板輸送機構(gòu)(23)中，相對于配置于升降基座(30)的四個導向部(29)，四個導向臂(31)朝向處理腔(11)相對地滑動，相對于各導向臂(31)，四個拾取器(32)朝向處理腔(11)相對地滑動。
文檔編號H01L21/67GK102446792SQ201110319489
公開日2012年5月9日 申請日期2011年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月13日
發(fā)明者天野健次, 遠藤健一 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社