本發(fā)明屬于激光
技術(shù)領(lǐng)域：
：，更具體地，涉及一種亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦裝置及方法。
背景技術(shù)：
：：激光誘導(dǎo)等離子體(LaserProducedPlasma，LPP)極紫外光刻光源是下一代光刻的核心技術(shù)之一。目前，氣體激光器特別是CO2激光器用于極紫外光刻光源的激光驅(qū)動(dòng)。但是，CO2激光器的電光效率低，體積大，導(dǎo)致極紫外光刻光源系統(tǒng)的能耗高、占用空間大，限制了極紫外光刻光源的大規(guī)模量產(chǎn)和應(yīng)用。光泵浦亞穩(wěn)態(tài)氣體激光(OpticallyPumpedMetastableGasLaser，OPMGL)是一種放電激勵(lì)和光泵浦相結(jié)合的新型氣體激光器，它采用電激勵(lì)產(chǎn)生的氣體亞穩(wěn)態(tài)粒子作為增益介質(zhì)，再利用激光泵浦實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)以出射激光。憑借自身極高的量子效率、氣體介質(zhì)良好的流動(dòng)型和均勻性，該型激光可將小體積、高電光效率的高功率半導(dǎo)體激光轉(zhuǎn)化為具有高光束質(zhì)量的高功率輸出，具有結(jié)構(gòu)緊湊、電光效率高的優(yōu)勢(shì)和實(shí)現(xiàn)高光束質(zhì)量的高功率輸出的巨大潛力。目前，光泵浦亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的實(shí)驗(yàn)研究均采用雙程縱向的泵浦方式(J.D.Han，etal.，“Demonstrationofadiode-pumpedmetastableArlaser”，Opticsletters，38(2013)，W.T.Rawlins，etal.“Opticallypumpedmicroplasmararegaslaser”，Opticsexpress，23(2015)，PaulJ.Moran，etal.，“PlasmaandLaserKineticsandFieldEmissionfromCarbonNanotubeFibersforanAdvancedNobleGasLaser(ANGL)”，Proc.SPIE9729，9729C(2016))。在雙程縱向泵浦實(shí)驗(yàn)中，泵浦光和出射激光共用光學(xué)元件(雙色鏡)，并通過(guò)偏振器件對(duì)激光進(jìn)行分離和探測(cè)。此種泵浦方法存在以下問(wèn)題：對(duì)光學(xué)元件和泵浦光的光束質(zhì)量要求較高、可能增加腔內(nèi)損耗；利用偏振特性提取出射激光將直接導(dǎo)致激光功率的下降；此外，雙程泵浦的吸收路徑有限，可能會(huì)造成對(duì)泵浦光的吸收不完全，不利于提升光泵浦亞穩(wěn)態(tài)氣體激光系統(tǒng)的電光效率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦裝置，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中由于采用了偏振棱鏡、對(duì)泵浦光的吸收路徑有限導(dǎo)致激光出射功率和電光效率低的技術(shù)問(wèn)題。本發(fā)明提供了一種亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦裝置，包括泵浦激光模塊、共振增強(qiáng)泵浦腔、激光諧振腔和放電激勵(lì)模塊；所述泵浦激光模塊的光軸與所述共振增強(qiáng)泵浦腔的軸線重合，所述共振增強(qiáng)泵浦腔的軸線、所述激光諧振腔的軸線和所述放電激勵(lì)模塊的電場(chǎng)方向三者彼此正交且相交于所述放電激勵(lì)模塊的放電區(qū)域的中心；所述泵浦激光模塊用于泵浦增益介質(zhì)以實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)；所述共振增強(qiáng)泵浦腔通過(guò)采用共振增強(qiáng)方法增大腔內(nèi)的泵浦功率和泵浦光的吸收路徑，進(jìn)而提高對(duì)泵浦光的吸收效率；所述激光諧振腔用于實(shí)現(xiàn)激光輸出；所述放電激勵(lì)模塊用于產(chǎn)生增益介質(zhì)(亞穩(wěn)態(tài)粒子)。本發(fā)明中，泵浦激光和出射激光相互分離，不需使用偏振器分離，可降低插入損耗，提高出射激光的提取功率；不需使用雙色鏡這類(lèi)光學(xué)元件。通過(guò)共振增強(qiáng)增大泵浦腔腔內(nèi)功率和泵浦光的吸收路徑以促進(jìn)吸收，而激光誘導(dǎo)熒光中的激光譜線成分不會(huì)在泵浦腔中放大而激射。更進(jìn)一步地，所述泵浦激光模塊包括依次同軸設(shè)置的泵浦激光器、光隔離器和模式匹配單元；所述光隔離器用于阻止共振增強(qiáng)泵浦腔與泵浦激光器本征腔之間的耦合，所述模式匹配單元用于實(shí)現(xiàn)泵浦激光和共振增強(qiáng)泵浦腔之間的橫模匹配。更進(jìn)一步地，所述共振增強(qiáng)泵浦腔包括壓電陶瓷、電壓控制器、探測(cè)器、第一凹鏡和第二凹鏡；所述壓電陶瓷、第一凹鏡和第二凹鏡沿泵浦激光傳播方向依次同軸放置，所述第一凹鏡和第二凹鏡的凹面相對(duì)，第一凹鏡裝在壓電陶瓷上，第二凹鏡經(jīng)鏡架固定于光學(xué)平臺(tái)上；所述第一凹鏡和所述第二凹鏡用于搭建泵浦腔，所述壓電陶瓷、所述電壓控制器和所述探測(cè)器用于反饋調(diào)節(jié)泵浦腔的腔長(zhǎng)以實(shí)現(xiàn)共振增強(qiáng)。更進(jìn)一步地，所述激光諧振腔包括：第三凹鏡和輸出耦合鏡；所述第三凹鏡的凹面朝向腔內(nèi)，且與所述輸出耦合鏡同軸放置；所述輸出耦合鏡用于實(shí)現(xiàn)激光輸出。更進(jìn)一步地，放電激勵(lì)模塊包括高壓電極和接地電極；在所述高壓電極和所述接地電極之間產(chǎn)生激光運(yùn)轉(zhuǎn)所需的增益介質(zhì)(亞穩(wěn)態(tài)粒子)。在本發(fā)明實(shí)施例中，該橫向泵浦方法可向多路橫向泵浦?jǐn)U展。該橫向泵浦方法不僅適用于本征起振出射激光，還可用于種子注入式的主振蕩功率放大器結(jié)構(gòu)。利用共振增強(qiáng)的橫向泵浦方法促進(jìn)對(duì)泵浦光的吸收也適用于光泵浦泵浦氧碘激光器等其他光泵浦氣體激光器。該光泵浦亞穩(wěn)態(tài)氣體激光可憑借其更為緊湊的體積、高電光效率作為極紫外光刻光源的驅(qū)動(dòng)激光器。本發(fā)明還提供了一種根據(jù)上述的共振增強(qiáng)橫向光泵浦裝置實(shí)現(xiàn)亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦方法，包括下述步驟：(1)利用所述放電激勵(lì)模塊產(chǎn)生增益介質(zhì)(亞穩(wěn)態(tài)粒子)；(2)利用所述第一凹鏡和第二凹鏡在與放電電場(chǎng)方向垂直的方向搭建泵浦激光腔；(3)將所述泵浦激光模塊與所述泵浦激光腔同軸放置，并將泵浦激光引入至泵浦激光腔，利用腔長(zhǎng)反饋控制元件和腔長(zhǎng)控制方法對(duì)腔長(zhǎng)進(jìn)行控制以實(shí)現(xiàn)共振增強(qiáng)；(4)在與放電電場(chǎng)方向和泵浦增強(qiáng)腔軸線均垂直的方向搭建激光諧振腔；(5)監(jiān)測(cè)激光輸出耦合鏡處的激光輸出，微調(diào)激光諧振腔的腔鏡使激光輸出功率或能量最高。更進(jìn)一步地，在步驟(3)中，所述腔長(zhǎng)控制方法包括：開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描步驟和閉環(huán)腔長(zhǎng)控制步驟。更進(jìn)一步地，所述開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描步驟具體為：第一步，根據(jù)壓電陶瓷的分辨率和泵浦激光的波長(zhǎng)來(lái)設(shè)置掃描的步長(zhǎng)和步數(shù)，并滿足：步長(zhǎng)大于壓電陶瓷的分辨率，步長(zhǎng)與步數(shù)的乘積的值大于泵浦激光波長(zhǎng)的一半；第二步，將第一步中設(shè)置的步長(zhǎng)根據(jù)壓電陶瓷位移和驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系換算成電壓步長(zhǎng)，給壓電陶瓷一個(gè)單向增大的驅(qū)動(dòng)電壓信號(hào)，使得泵浦腔的腔長(zhǎng)單向增加；第三步，記錄每個(gè)掃描點(diǎn)下的驅(qū)動(dòng)電壓信號(hào)和探測(cè)器探測(cè)到的光強(qiáng)信號(hào)并比較，找出最大光強(qiáng)信號(hào)Imax及相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電壓信號(hào)Vmax。更進(jìn)一步地，所述閉環(huán)腔長(zhǎng)控制步驟具體為：第一步，設(shè)置閉環(huán)腔長(zhǎng)掃描控制程序下的控制步長(zhǎng)，控制步長(zhǎng)滿足：控制步長(zhǎng)大于壓電陶瓷的分辨率，小于等于開(kāi)環(huán)掃描程序的掃描步長(zhǎng)；第二步，將第一步中設(shè)置的步長(zhǎng)根據(jù)壓電陶瓷位移和驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系換算成電壓步長(zhǎng)，在程序中引入所述開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描步驟中獲得的最大光強(qiáng)的驅(qū)動(dòng)電壓信號(hào)Vmax和光強(qiáng)信號(hào)Imax，給壓電陶瓷施加驅(qū)動(dòng)電壓信號(hào)Vmax并采集該電壓信號(hào)下的光強(qiáng)信號(hào)I；第三步，比較I與Imax，若I與Imax不等，則進(jìn)入閉環(huán)系統(tǒng)：增加一個(gè)電壓步長(zhǎng)，即腔長(zhǎng)增加一個(gè)步長(zhǎng)后：若光強(qiáng)信號(hào)增大，則繼續(xù)增加一個(gè)電壓步長(zhǎng)，若光強(qiáng)信號(hào)減小，則減小一個(gè)電壓步長(zhǎng)；減小一個(gè)電壓步長(zhǎng)，即腔長(zhǎng)減少一個(gè)步長(zhǎng)后：若光強(qiáng)信號(hào)增大，則繼續(xù)減小一個(gè)電壓步長(zhǎng)，若光強(qiáng)信號(hào)減小，則增加一個(gè)電壓步長(zhǎng)。本發(fā)明采用分離泵浦激光和出射激光的橫向泵浦方式，不需使用偏振元件提取出射激光，提高同等泵浦條件下的出射功率；不需在腔內(nèi)使用光學(xué)元件，降低插入損耗；能夠避免雙色鏡的使用，降低對(duì)光學(xué)元件的要求；通過(guò)對(duì)泵浦腔采用共振增強(qiáng)可增大泵浦腔內(nèi)的泵浦激光功率和泵浦吸收路徑，提高對(duì)泵浦光的吸收效率和整個(gè)激光系統(tǒng)的電光效率。此外，本發(fā)明還可擴(kuò)展至多路橫向泵浦，降低對(duì)單個(gè)半導(dǎo)體激光泵浦單元在功率和光束質(zhì)量方面的要求。附圖說(shuō)明圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，1為泵浦激光器，2為光隔離器，3為模式匹配單元，4為壓電陶瓷，5為電壓控制器，6為探測(cè)器，7為第一凹鏡，8為第二凹鏡，9為第三凹鏡，10為激光輸出耦合鏡，11為高壓電極，12為接地電極。圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦方法中開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描步驟的流程實(shí)現(xiàn)圖。圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的亞穩(wěn)態(tài)氣體激光的共振增強(qiáng)橫向光泵浦方法中閉環(huán)腔長(zhǎng)控制步驟的流程實(shí)現(xiàn)圖。具體實(shí)施方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種共振增強(qiáng)的橫向泵浦裝置，裝置包括泵浦激光模塊、共振增強(qiáng)泵浦腔、激光諧振腔和放電激勵(lì)模塊。泵浦激光模塊與共振增強(qiáng)泵浦腔等高同軸，共振增強(qiáng)泵浦腔、激光諧振腔的軸線和放電激勵(lì)模塊的電場(chǎng)三者彼此正交并相交于放電區(qū)域的中心。通過(guò)橫向泵浦分離泵浦激光和出射激光避免使用雙色鏡和偏振元件，減少腔內(nèi)光學(xué)元件的使用并提高提取功率；基于相干疊加的共振增強(qiáng)腔，增大腔內(nèi)功率和吸收路徑進(jìn)而促進(jìn)吸收，提高對(duì)泵浦激光的吸收效率和激光系統(tǒng)的電光效率。如圖1所示，泵浦激光模塊包括泵浦激光器1、光隔離器2和模式匹配單元3。光隔離器2用于阻止泵浦激光器本征腔和共振增強(qiáng)泵浦腔之間的耦合，模式匹配單元3用于實(shí)現(xiàn)泵浦激光和泵浦腔之間的橫模匹配。作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，模式匹配單元3可以為透鏡或者透鏡組。共振增強(qiáng)泵浦腔包括第一凹鏡7、第二凹鏡8，壓電陶瓷4，電壓控制器5，探測(cè)器6。第一凹鏡7、第二凹鏡8用于構(gòu)成對(duì)稱(chēng)共焦腔或穩(wěn)定腔，兩凹鏡的凹面和另一面均分別鍍有與泵浦激光相應(yīng)的窄帶高反膜和寬帶增透膜，且其中一凹鏡上放置壓電陶瓷4。通過(guò)探測(cè)器6監(jiān)測(cè)泵浦腔的出射信號(hào)，對(duì)壓電陶瓷4的電壓控制器5進(jìn)行反饋控制，進(jìn)而調(diào)節(jié)泵浦腔的腔長(zhǎng)以實(shí)現(xiàn)共振增強(qiáng)。作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，壓電陶瓷4可以采用環(huán)形壓電陶瓷，也可采用外方內(nèi)圓的壓電陶瓷，還可以采用多塊(≥3)壓電陶瓷沿圓周均勻分布的組合形式。激光諧振腔包括第三凹鏡9和輸出耦合鏡10。第三凹鏡9的凹面鍍有與出射激光波長(zhǎng)相應(yīng)的高反膜，第三凹鏡9的另一面的形狀以及是否鍍膜則不做要求。充當(dāng)激光輸出耦合鏡10的透射率可根據(jù)最佳透射率公式獲得：其中Tm為最佳透射率，ν為激光頻率，g0(ν)為激光頻率處的小信號(hào)增益系數(shù)，l為增益介質(zhì)沿光軸方向的長(zhǎng)度,a為往返凈損耗率。放電激勵(lì)模塊包括高壓電極11和接地電極12，放電激勵(lì)模塊用于產(chǎn)生激光所需的增益介質(zhì)(亞穩(wěn)態(tài)原子或分子)。在本發(fā)明實(shí)施例中，所述電極可以是平行放置的兩平板電極；也可以是高壓電極為條狀電極陣列，接地電極為平板電極，條狀電極陣列組成的平面和平板電極的平面平行。在放電方式的選擇上，放電可以采用直流脈沖放電、射頻放電、微波放電，還可以采用場(chǎng)發(fā)射的方式?？傮w而言，通過(guò)本發(fā)明所構(gòu)思的以上技術(shù)方案與現(xiàn)有的雙程縱向泵浦方法相比，能夠取得以下有益效果：采用分離泵浦激光和出射激光的橫向泵浦方式，不需使用偏振元件提取出射激光，提高同等泵浦條件下的出射功率；能夠避免雙色鏡的使用，降低對(duì)光學(xué)元件的要求；不需在腔內(nèi)使用光學(xué)元件，降低插入損耗；通過(guò)對(duì)泵浦腔采用共振增強(qiáng)可增大腔內(nèi)的泵浦功率和泵浦吸收路徑，提高對(duì)泵浦光的吸收效率和整個(gè)激光系統(tǒng)的電光效率。此外，本發(fā)明還可擴(kuò)展至多路橫向泵浦，降低對(duì)單個(gè)半導(dǎo)體激光泵浦單元在功率和光束質(zhì)量方面的要求。為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。具體的操作實(shí)施步驟為：S1：利用放電激勵(lì)模塊(11，12)產(chǎn)生增益介質(zhì)(亞穩(wěn)態(tài)粒子)；S2：將兩塊凹鏡(7和8)的凹面相對(duì)放置，將泵浦激光引入泵浦腔、搭建泵浦腔，保證泵浦腔的光軸穿過(guò)放電區(qū)域中心并與電場(chǎng)方向垂直；S3：結(jié)合模式匹配單元3、利用壓電陶瓷4、電壓控制器5和探測(cè)器6反饋控制調(diào)節(jié)泵浦腔的腔長(zhǎng)，使泵浦激光和泵浦腔共振；S4：在與泵浦腔和電場(chǎng)方向均垂直的方向，利用第三凹鏡9和激光輸出耦合鏡10搭建激光諧振腔，保證諧振腔的光軸穿過(guò)放電區(qū)域中心；S5：監(jiān)測(cè)激光輸出耦合鏡10處的激光輸出，微調(diào)激光諧振腔的腔鏡使激光輸出功率或能量最高。下面結(jié)合實(shí)施例及前述實(shí)施步驟，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。下面的實(shí)施例中，以半導(dǎo)體激光泵浦亞穩(wěn)態(tài)氬氣激光為例：(1)利用射頻平行平板放電的方式實(shí)現(xiàn)氬氣和氦氣混合氣體(氬氣含量為2％)在大氣壓下的穩(wěn)定輝光放電以獲得激光運(yùn)轉(zhuǎn)的亞穩(wěn)態(tài)氬原子。(2)利用兩塊完全相同的平凹鏡(凹面對(duì)811.53nm附近窄帶反射率為99％，平面對(duì)811.53nm寬帶增透，曲率半徑R＝150mm)7和8搭建對(duì)稱(chēng)共焦腔，保證共焦腔的軸線和放電區(qū)域中心等高并與電場(chǎng)方向垂直。搭建中可利用可見(jiàn)光波段的激光(如長(zhǎng)春新產(chǎn)業(yè)光電技術(shù)有限公司的532nm的綠光激光器，MGL-III-532)作為指示光輔助調(diào)整。(3)將811.53nm的窄線寬半導(dǎo)體泵浦激光(OptiGrate,SEOPLaser811-20GHz-30W)經(jīng)過(guò)光隔離器2(Throlabs，IO-5-TIS2-HP)和模式匹配單元3(Throlabs，LB1779-B)后引入(2)中搭建的共焦腔內(nèi)。在第二凹鏡8的出口處放置硅光探測(cè)器6(Throlabs，PDA8A)監(jiān)測(cè)激光輸出信號(hào)(需要指出的是，激光在進(jìn)入硅光探測(cè)器之前需大幅度衰減)。利用壓電陶瓷4(PI，PD080.30，環(huán)形)的電壓控制器5(PI，E-753.1CD)驅(qū)動(dòng)壓電陶瓷4，結(jié)合計(jì)算機(jī)和實(shí)現(xiàn)共振增強(qiáng)所需的腔長(zhǎng)控制程序?qū)ふ易罴亚婚L(zhǎng)。腔長(zhǎng)的控制程序包括兩部分：開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描程序和閉環(huán)腔長(zhǎng)控制程序。如圖2所示，在開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描程序中設(shè)置腔長(zhǎng)掃描的位移步長(zhǎng)和步數(shù)分別為2nm和300，將2nm的位移步長(zhǎng)換算成電壓步長(zhǎng)。通過(guò)電壓控制器5給壓電陶瓷4施加一個(gè)單向增大的鋸齒波電壓信號(hào)使諧振腔的腔長(zhǎng)線性增加。在此過(guò)程中，采集每一個(gè)掃描點(diǎn)下的透射光強(qiáng)即硅光探測(cè)器6的信號(hào)并進(jìn)行比較，以獲得最大透射信號(hào)Imax和對(duì)應(yīng)的電壓信號(hào)Vmax。通過(guò)開(kāi)環(huán)控制程序可迅速將腔長(zhǎng)定位至泵浦腔的最佳工作點(diǎn)附近。在開(kāi)環(huán)腔長(zhǎng)掃描程序后，進(jìn)入閉環(huán)腔長(zhǎng)控制程序。如圖3所示，閉環(huán)腔長(zhǎng)控制程序主要是利用爬坡法對(duì)泵浦腔的腔長(zhǎng)進(jìn)行實(shí)時(shí)控制以鎖定在最佳腔長(zhǎng)附近。閉環(huán)控制程序開(kāi)始時(shí)，設(shè)置腔長(zhǎng)控制的位移步長(zhǎng)為1nm并換算成電壓掃描步長(zhǎng)，將開(kāi)環(huán)掃描程序中的Vmax賦值給電壓控制器5，采集此時(shí)的透射光強(qiáng)I1,應(yīng)有I1＝Imax。若I1≠I(mǎi)max，則增大電壓使腔長(zhǎng)增加，采集此時(shí)的透射光強(qiáng)I2：若I1<I2，繼續(xù)增大一個(gè)步長(zhǎng)的電壓；若I1>I2，則減小一個(gè)步長(zhǎng)的電壓。如此，按照：增大一個(gè)步長(zhǎng)電壓后，若透射光強(qiáng)增大則繼續(xù)增大一個(gè)步長(zhǎng)，若透射光強(qiáng)減小則減小一個(gè)步長(zhǎng)電壓；減小一個(gè)步長(zhǎng)電壓后，若透射光強(qiáng)增大則繼續(xù)減小一個(gè)步長(zhǎng)，若透射光強(qiáng)減小則增大一個(gè)步長(zhǎng)電壓的閉環(huán)控制將腔長(zhǎng)穩(wěn)定在最佳腔長(zhǎng)附近的一個(gè)小區(qū)間內(nèi)。具體控制程序的編寫(xiě)參照?qǐng)D2和圖3所示的腔長(zhǎng)控制程序流程圖。(4)在與泵浦腔和電場(chǎng)方向均垂直的方向，利用第三凹鏡9(平凹鏡，凹面朝向放電區(qū)域，且凹面對(duì)912nm全反)和激光輸出耦合鏡10(兩面均拋光的平面鏡)搭建非穩(wěn)定諧振腔(同樣可借助(2)中所述532nm激光作為指示光搭建)。(5)激光諧振腔搭建后，利用功率計(jì)監(jiān)測(cè)平面鏡10處的出射激光功率。微調(diào)激光諧振腔使得出射激光功率最高。以上所述為本發(fā)明的較佳的實(shí)施例而已，但本發(fā)明不局限于該實(shí)施例和附圖所公開(kāi)的內(nèi)容。例如在放電方式的選擇上，并不局限于射頻的平行平板放電，而且適用于直流脈沖放電、微波(含陣列)放電、陰極場(chǎng)發(fā)射(含陣列)產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)粒子的情況。共振增強(qiáng)的泵浦腔不限于對(duì)稱(chēng)共焦腔，還包括穩(wěn)定腔，而且泵浦腔的腔鏡不限于平凹鏡，曲率半徑也無(wú)需一致。激光諧振腔的輸出鏡不限于平面鏡，也可以是凹面鏡。激光出射不局限于實(shí)施例中所展示的本征起振，還適用于種子注入式的主振蕩功率放大器結(jié)構(gòu)。此外，利用共振增強(qiáng)的橫向泵浦方法促進(jìn)對(duì)泵浦光的吸收的方法也適用于光泵浦氧碘激光器等其他光泵浦氣體激光器。本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易理解，以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3