激光蝕刻設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種蝕刻設(shè)備，尤指一種針對透明導(dǎo)電膜進行激光蝕刻的激光蝕刻設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]透明導(dǎo)電基板可以廣泛應(yīng)用于觸控面板、平面顯示器、抗靜電膜、太陽能電池的透明電極、防反光涂布(ant1-reflect1n)及熱反射鏡(heat reflecting mirror)等電子、光學(xué)及光電裝置上；透明導(dǎo)電基板一般包括有塑膠基板與以有機或無機材料的透明導(dǎo)電材料所制成的透明導(dǎo)電層，透明導(dǎo)電基板由于具有輕薄、耐沖擊及可撓曲等特性的優(yōu)勢，因此可以在可撓式(軟式)顯示器與太陽能板等應(yīng)用領(lǐng)域逐漸取代傳統(tǒng)的導(dǎo)電玻璃。
[0003]對于透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)設(shè)計，其中的透明導(dǎo)電層可進一步加工制成線路，以配合各種電器電路應(yīng)用。一般來說，線路的布設(shè)需要有量產(chǎn)性，以激光蝕刻技術(shù)為例，蝕刻技術(shù)由于對精度的要求比較高，其容許誤差多在10 μm以下，因此配合相關(guān)作業(yè)的蝕刻機臺設(shè)計多以一種接圖技術(shù)構(gòu)成大面積尺寸需求的作業(yè)。所謂的接圖技術(shù)指的是，激光鏡組(機構(gòu))僅能于一特定面積下提供精確的區(qū)域性蝕刻效果，如僅限于50cm2以內(nèi)的作業(yè)面積，由于激光鏡組的構(gòu)成精密且復(fù)雜，一般激光鏡組不宜直接動作，所以在蝕刻區(qū)域面積大于激光光源的可作業(yè)的面積(如50cm2以上)時，則須通過移動承載待加工件的平臺(xy stage)的方式，將原光源區(qū)域以外的待蝕刻面積平移至光源作業(yè)區(qū)域內(nèi)，然后再進行接續(xù)蝕刻。
[0004]更進一步地說，蝕刻系統(tǒng)通常在進行蝕刻作業(yè)前會先擬定一蝕刻路徑，特別是針對一整面大面積的蝕刻圖案，須配合激光鏡組將面積較大的區(qū)域分割成多個面積較小的區(qū)域，以利一個或多個固定式激光光源進行蝕刻；并且在完成單一區(qū)域的激光加工后，再由xystage將其他待處理的作業(yè)區(qū)域移到激光光源的可作業(yè)范圍內(nèi)，以確保蝕刻圖案的順利接續(xù)。
[0005]承上述，將兩個不同的作業(yè)區(qū)域平移以配合蝕刻線路銜接的技術(shù)，目前仍面臨到許多的難題。例如:用于承載透明導(dǎo)電基板的作業(yè)平臺須藉xy stage移動至激光光源工作區(qū)的停止再啟動(或光源的遮蔽再開啟)；又，配合平臺移動的起始或終止；又或，兩個小圖塊間的接合誤差，以上都會影響激光蝕刻線路的接合界面區(qū)域的精準性與蝕刻線寬的平整性。進一步，若圖面接合區(qū)域巧遇的蝕刻線路為特定轉(zhuǎn)彎角或轉(zhuǎn)彎處，均可能發(fā)生過度蝕刻的不良現(xiàn)象(殼點或稱為爆點)。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型從避免在相同位置上發(fā)生重復(fù)蝕刻的角度出發(fā)，主要的目的之一在于提供一種激光蝕刻設(shè)備，其可以有效改善圖面接合區(qū)域的過度蝕刻現(xiàn)象(又稱亮點或爆點)與接圖界面間的開路不良的問題。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案:一種激光蝕刻設(shè)備，用于圖案化一透明導(dǎo)電基板的一導(dǎo)電層，其中該導(dǎo)電層上具有供進行激光蝕刻的多個作業(yè)區(qū)域，且相鄰的兩個作業(yè)區(qū)域之間具有一接圖界面。該激光蝕刻設(shè)備包括一作業(yè)平臺、一激光光源模組及一蝕刻執(zhí)行裝置，其中該激光光源模組定位于該作業(yè)平臺的上方，用于將一部分的該導(dǎo)電層燒毀，以分別在這些作業(yè)區(qū)域內(nèi)形成一預(yù)定的蝕刻圖案，其中這些蝕刻圖案中的任一蝕刻圖案包括跨越相鄰的任一該接圖界面的至少一蝕刻線段；該蝕刻執(zhí)行裝置設(shè)置于該作業(yè)平臺上，用于移載該透明導(dǎo)電基板以使這些作業(yè)區(qū)域循序地接受該激光光源模組所施予的激光蝕刻作業(yè)，并帶動該透明導(dǎo)電基板緩沖停止，使至少一該蝕刻線段具有跨越相鄰的任一該接圖界面的一延伸蝕刻長度。
[0008]進一步地，所述蝕刻執(zhí)行裝置包括一移載機構(gòu)及一設(shè)置于所述移載機構(gòu)上的承載盤，所述承載盤用于承載固定所述透明導(dǎo)電基板，且所述移載機構(gòu)用于驅(qū)動所述承載盤橫向平移。
[0009]進一步地，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一基板吸附裝置，所述基板吸附裝置設(shè)置于所述承載盤的下方。
[0010]進一步地，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一多孔質(zhì)基板襯墊，所述多孔質(zhì)基板襯墊設(shè)置于所述作業(yè)平臺上。
[0011]進一步地，所述多孔質(zhì)基板襯墊為一多孔質(zhì)纖維布。
[0012]進一步地，所述多孔質(zhì)基板襯墊具有多個吸附微孔。
[0013]進一步地，所述移載機構(gòu)包括一第一方向線性位移機構(gòu)及一第二方向線性位移機構(gòu)，所述第一方向線性位移機構(gòu)設(shè)置于所述承載盤的下方，用于驅(qū)動所述承載盤相對于所述激光光源模組并沿著所述第一方向線性位移機構(gòu)的一長軸方向往復(fù)移動，所述第二方向線性位移機構(gòu)設(shè)置于所述第一方向線性位移機構(gòu)的下方，用于驅(qū)動所述第一方向線性位移機構(gòu)與所述承載盤一同相對于所述激光光源模組并沿著所述第二方向線性位移機構(gòu)的一長軸方向往復(fù)移動。
[0014]進一步地，所述激光蝕刻設(shè)備還包括一集塵裝置，所述集塵裝置具有一鄰近于所述激光光源模組的吸氣口。
[0015]進一步地，所述延伸蝕刻長度不超過ΙΟμπι。
[0016]本實用新型至少具有以下有益效果:本實用新型的激光蝕刻設(shè)備通過“由蝕刻執(zhí)行裝置移載透明導(dǎo)電基板，以使這些作業(yè)區(qū)域循序地接受激光光源模組所施予的激光蝕刻作業(yè)，并帶動透明導(dǎo)電基板緩沖停止，使燒蝕出的蝕刻線段具有跨越相鄰的接圖界面的一延伸蝕刻長度”的設(shè)計，可以克服現(xiàn)有的激光蝕刻技術(shù)的限制，僅利用激光直線蝕刻線段接續(xù)出一整面的蝕刻圖案；且依此方式，不但可以避免在圖面接合區(qū)域發(fā)生重復(fù)/過度蝕刻，而且還可以大幅提升激光蝕刻過程的過程裕度。并且與已知的激光蝕刻過程相比，根據(jù)本實用新型的激光蝕刻過程，可以在確保產(chǎn)品品質(zhì)的前提下降低制造成本及過程時間。
[0017]本實用新型的其他目的和優(yōu)點可以從本實用新型所披露的技術(shù)特征得到進一步的了解；為了讓本實用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例并配合所附圖式作詳細說明如下。
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型的激光蝕刻設(shè)備的示意圖(一)。
[0019]圖2為一種已知的透明導(dǎo)電基板在激光加工前的示意圖。
[0020]圖3為一種已知的透明導(dǎo)電基板在激光加工后的示意圖。
[0021]圖4為本實用新型的激光蝕刻設(shè)備的示意圖(二)。
[0022]圖5為根據(jù)本實用新型的激光蝕刻作業(yè)的流程示意圖。
[0023]圖6為根據(jù)本實用新型的激光蝕刻作業(yè)的接續(xù)蝕刻過程的示意圖(一)。
[0024]圖7為根據(jù)本實用新型的激光蝕刻作業(yè)的接續(xù)蝕刻過程的示意圖(二)。
[0025]【符號說明】
[0026]A激光蝕刻設(shè)備
[0027]100 機體
[0028]102作業(yè)平臺
[0029]200激光光源模組
[0030]300蝕刻執(zhí)行裝置
[0031]302移載機構(gòu)
[0032]304承載盤
[0033]306第一方向線性位移機構(gòu)
[0034]308第二方向線性位移機構(gòu)
[0035]400多孔質(zhì)基板襯墊
[0036]500基板吸附裝置
[0037]600集塵裝置
[0038]602 吸氣口
[0039]W透明導(dǎo)電基板
[0040]1透明基材
[0041]2硬化層
[0042]3透明導(dǎo)電層
[0043]3’感測電極層
[0044]4銀膠導(dǎo)電層
[0045]L1、L2、L3、L4 作業(yè)區(qū)域
[0046]P1第一蝕刻半成品圖案