本實(shí)用新型涉及有機(jī)發(fā)光二極管顯示領(lǐng)域，更具體的說(shuō)，涉及一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。

背景技術(shù)：

由于有機(jī)電致發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)同時(shí)具備自發(fā)光、不需背光源、對(duì)比度高、厚度薄、視角廣、反應(yīng)速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造及制程較簡(jiǎn)單等優(yōu)異之特性，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。

OLED生產(chǎn)過(guò)程中最重要的一環(huán)節(jié)是將有機(jī)層按照驅(qū)動(dòng)矩陣的要求敷涂到基板上，形成關(guān)鍵的發(fā)光顯示單元。OLED是一種固體材料，高精度涂覆技術(shù)的發(fā)展是制約OLED產(chǎn)品化的關(guān)鍵。目前完成這一工作，主要采用真空沉積或真空熱蒸發(fā)(VTE)的方法，其是將位于真空腔體內(nèi)的有機(jī)物分子輕微加熱(蒸發(fā))，使得這些分子以薄膜的形式凝聚在溫度較低的基板上。在這一過(guò)程中需要與OLED發(fā)光顯示單元精度相適應(yīng)的高精密掩模板作為媒介。

現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍用掩模板的由于受到材料的限制，如圖2所示，其厚度h(一般h大于60μm)左右，而蒸鍍的有機(jī)材料膜厚只在100nm左右，掩模板上的蒸鍍孔的尺寸d1最小可以是10μm左右，這樣較大的高寬比(h/d1)的開(kāi)口使得蒸鍍孔的側(cè)壁勢(shì)必會(huì)在蒸鍍過(guò)程中產(chǎn)生遮擋，影響蒸鍍層的均勻性，降低蒸鍍質(zhì)量，增加了制造成本。而且若制作大尺寸掩模板，金屬制造的掩模板會(huì)具有較大的質(zhì)量，從而會(huì)導(dǎo)致掩模板的板面產(chǎn)生下垂(即板面中間會(huì)出現(xiàn)下凹現(xiàn)象)，這對(duì)精度要求較高的掩模蒸鍍過(guò)程是不利的。鑒于此，業(yè)內(nèi)亟需一種能夠解決此問(wèn)題的方案。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種提高蒸鍍質(zhì)量的用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。

本實(shí)用新型的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的：

一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，所述掩模板包括ITO面和蒸鍍面，所述掩模板上設(shè)有貫穿ITO面和蒸鍍面的蒸鍍孔，所述蒸鍍面上設(shè)有的納米層,所述蒸鍍孔沿所述掩模板的厚度方向的橫向剖面為梯形，所述蒸鍍孔在所述蒸鍍面上的尺寸大于在所述ITO面上的尺寸。

進(jìn)一步的，所述掩模板包括蒸鍍區(qū)和定位區(qū)，所述蒸鍍孔設(shè)在所述蒸鍍區(qū)內(nèi)，所述定位區(qū)內(nèi)設(shè)有定位孔。這樣，掩模板上的蒸鍍區(qū)和定位區(qū)的區(qū)分，能夠有效的限定在掩模板上的用來(lái)蒸鍍的區(qū)域，使得蒸鍍操作非常的方便簡(jiǎn)單，蒸鍍孔設(shè)在蒸鍍區(qū)內(nèi),很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時(shí)間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產(chǎn)量,而且可以很好的減小蒸鍍面積，不需要在整個(gè)掩模板上進(jìn)行蒸鍍操作，非常有效的節(jié)約蒸鍍用的有機(jī)物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；通過(guò)定位區(qū)內(nèi)設(shè)置的定位孔可以非常方便的將掩模板固定，將掩模板的ITO面與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機(jī)材料非常好的通過(guò)蒸鍍孔蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時(shí)定位孔非常穩(wěn)固的對(duì)掩模板進(jìn)行限位，有效的防止掩模板的位移，使得蒸鍍質(zhì)量進(jìn)一步的提高。

進(jìn)一步的，所述蒸鍍孔的內(nèi)壁設(shè)有所述納米層。這樣，納米層設(shè)在蒸鍍孔的內(nèi)壁，使得蒸鍍孔的內(nèi)壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機(jī)物分子干燥后脫模；而且納米層能夠非常有效的提高蒸鍍孔內(nèi)壁的硬度，使得蒸鍍孔的內(nèi)壁與ITO面的夾角位置更加的堅(jiān)固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機(jī)物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量；同時(shí)納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在蒸鍍孔的內(nèi)壁的殘留，從而大大減少蒸鍍孔的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

進(jìn)一步的，所述ITO面設(shè)有所述納米層。這樣，納米層設(shè)在ITO面，使得ITO面更加的光滑，從而使得ITO面可以更好的與ITO玻璃基板進(jìn)行緊密的貼合，進(jìn)一步的提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量；而且ITO面設(shè)置納米層能夠進(jìn)一步提高掩模板的硬度，同時(shí)使得整個(gè)掩模板的強(qiáng)度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時(shí)非常有效的改善掩模板的板面產(chǎn)生下垂，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量。

進(jìn)一步的，所述掩模板采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成。這樣，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板，可以很好的保證掩模板的強(qiáng)度和硬度，使得掩模板可以更好的被應(yīng)用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板具有一定的磁性，在后期應(yīng)用過(guò)程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設(shè)備吸附，可進(jìn)一步減小掩模板的下垂量；同時(shí)不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價(jià)格便宜，便于大批量生產(chǎn)、節(jié)約生產(chǎn)成本及提高生產(chǎn)效率。

進(jìn)一步的，所述蒸鍍孔在所述蒸鍍區(qū)上均勻設(shè)置多個(gè)，所述蒸鍍孔之間設(shè)有連接部。這樣，均勻設(shè)置多個(gè)蒸鍍孔在蒸鍍區(qū)上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產(chǎn)量可以進(jìn)一步的提高，均勻設(shè)置的蒸鍍孔使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長(zhǎng)；連接部能夠更好的對(duì)蒸鍍孔之間進(jìn)行連接和加固，有效的提高掩模板在蒸鍍區(qū)的強(qiáng)度和韌性，使得蒸鍍孔可以更加高效的進(jìn)行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質(zhì)量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。

進(jìn)一步的，所述蒸鍍孔的形狀為圓臺(tái)形或棱臺(tái)形。這樣，蒸鍍孔的內(nèi)壁與ITO面的夾角θ為銳角，夾角θ的范圍為1-30°，這樣能夠非常有效的減小蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過(guò)程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過(guò)程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量；圓臺(tái)形或棱臺(tái)形設(shè)置的蒸鍍孔，非常方便加工制造，使得掩模板的制造非常的簡(jiǎn)單，從而很好的降低掩模板的生產(chǎn)成本。

進(jìn)一步的，所述納米層為碳化鈦膜。這樣，納米層使用碳化鈦膜非常有效的對(duì)掩模板的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

進(jìn)一步的，所述納米層為氮化鈦膜。這樣，納米層使用氮化鈦膜非常有效的對(duì)掩模板的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

進(jìn)一步的，所述納米層為氮化鉻膜。這樣，納米層使用氮化鉻非常有效的對(duì)掩模板的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

本實(shí)用新型由于蒸鍍孔在蒸鍍面上的尺寸大于在ITO面上的尺寸，解決了有機(jī)物分子由于蒸鍍孔的內(nèi)壁的遮蔽而無(wú)法達(dá)到ITO玻璃基板的問(wèn)題,在保證ITO面開(kāi)口位置精度的同時(shí)提高了有機(jī)材料的成膜率,提高了有機(jī)材料的使用率，節(jié)約了成本提高了蒸鍍薄膜的均勻度；蒸鍍孔沿掩模板的厚度方向的橫向剖面為梯形的設(shè)計(jì)，保證了掩模板與ITO面的開(kāi)口尺寸精度控制在要求范圍內(nèi)；蒸鍍面上納米層非常有效的對(duì)掩模板的硬度進(jìn)行提高，非常有效的改善掩模板的板面產(chǎn)生下垂，同時(shí)掩模板強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，降低了的電子組裝的成本；而且納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高；現(xiàn)在我們將掩模板的厚度降低到小于60μm，由于納米層的設(shè)置能夠非常有效的提高掩模板的硬度，因此我們可以克服現(xiàn)有技術(shù)中材料的限制，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔的開(kāi)口的尺寸與掩模板厚度比值減小，即背景技術(shù)中提到的高寬比，較小的高寬比與這種梯形開(kāi)口的設(shè)置，能夠更加有效的解決蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過(guò)程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過(guò)程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量，使得OLED顯示面板的分辨率更高。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型現(xiàn)有技術(shù)的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖；

圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖；

圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例的沿圖1中I區(qū)域的放大示意圖。

其中：1、掩模板，11、ITO面，12、蒸鍍面，13、蒸鍍孔，14、納米層，15、蒸鍍區(qū)，16、定位區(qū)，161、定位孔，17、連接部。

具體實(shí)施方式

在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。在本實(shí)用新型的描述中，除非另有說(shuō)明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。另外，術(shù)語(yǔ)“包括”及其任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。

下面結(jié)合附圖和較佳的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。

如圖1至圖4所示，本實(shí)施例公開(kāi)一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，掩模板1包括ITO面11和蒸鍍面12，掩模板1上設(shè)有貫穿ITO面11和蒸鍍面12的蒸鍍孔13，蒸鍍面12上設(shè)有的納米層14,蒸鍍孔13沿掩模板1的厚度方向的橫向剖面為梯形，蒸鍍孔13在蒸鍍面12上的尺寸大于在ITO面11上的尺寸，蒸鍍孔13在蒸鍍面12上的尺寸大于在ITO面11上的尺寸，示例的，如圖3所示d2>d1，這樣解決了有機(jī)物分子由于蒸鍍孔13的內(nèi)壁的遮蔽而無(wú)法達(dá)到ITO玻璃基板的問(wèn)題,在保證ITO面開(kāi)口位置精度的同時(shí)提高了有機(jī)材料的成膜率,提高了有機(jī)材料的使用率，節(jié)約了成本提高了蒸鍍薄膜的均勻度；蒸鍍孔13沿掩模板1的厚度方向的橫向剖面為梯形的設(shè)計(jì)，保證了掩模板1與ITO面的開(kāi)口尺寸精度控制在要求范圍內(nèi)；蒸鍍面12上納米層14非常有效的對(duì)掩模板1的硬度進(jìn)行提高，非常有效的改善掩模板1的板面產(chǎn)生下垂，同時(shí)掩模板1強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量，大大提高掩模板1的重復(fù)使用次數(shù)，降低了的電子組裝的成本；而且納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高；現(xiàn)在我們將掩模板1的厚度降低到小于60μm，掩模板1的厚度為10-60μm，作為其中的優(yōu)選方案，掩模板1厚度h為10μm或20μm或30μm或40μm或50μm，由于納米層14的設(shè)置能夠非常有效的提高掩模板1的硬度，因此我們可以克服現(xiàn)有技術(shù)中材料的限制，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔13的開(kāi)口的尺寸與掩模板1厚度比值減小，即背景技術(shù)中提到的高寬比(h/d1)，較小的高寬比與這種梯形開(kāi)口的設(shè)置，能夠更加有效的解決蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過(guò)程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過(guò)程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量，使得OLED顯示面板的分辨率更高。

掩模板1包括蒸鍍區(qū)15和定位區(qū)16，掩模板1上的蒸鍍區(qū)15和定位區(qū)16的區(qū)分，能夠有效的限定在掩模板1上的用來(lái)蒸鍍的區(qū)域，使得蒸鍍操作非常的方便簡(jiǎn)單；蒸鍍孔13設(shè)在蒸鍍區(qū)15內(nèi)，很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時(shí)間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產(chǎn)量,而且可以很好的減小蒸鍍面12積，不需要在整個(gè)掩模板1上進(jìn)行蒸鍍操作，非常有效的節(jié)約蒸鍍用的有機(jī)物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；定位區(qū)16內(nèi)設(shè)有定位孔，通過(guò)定位區(qū)16內(nèi)設(shè)置的定位孔可以非常方便的將掩模板1固定，將掩模板1的ITO面11與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機(jī)材料非常好的通過(guò)蒸鍍孔13蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時(shí)定位孔非常穩(wěn)固的對(duì)掩模板1進(jìn)行限位，有效的防止掩模板1的位移，使得蒸鍍質(zhì)量進(jìn)一步的提高；掩模板1的形狀為四邊形，定位區(qū)16沿四邊形的掩模板1邊緣設(shè)置，這樣可以非常好的提高掩模板1的利用率，使得掩模板1的蒸鍍質(zhì)量更高。

蒸鍍孔13的內(nèi)壁設(shè)有納米層14，蒸鍍孔13的內(nèi)壁的表面粗糙度為0.3-0.6μm，納米層14設(shè)在蒸鍍孔13的內(nèi)壁，使得蒸鍍孔13的內(nèi)壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機(jī)物分子干燥后脫模；而且納米層14能夠非常有效的提高蒸鍍孔13內(nèi)壁的硬度，使得蒸鍍孔13的內(nèi)壁與ITO面11的夾角位置更加的堅(jiān)固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機(jī)物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量；同時(shí)納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在蒸鍍孔13的內(nèi)壁的殘留，從而大大減少蒸鍍孔13的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

ITO面11設(shè)有納米層14，納米層14設(shè)在ITO面11，使得ITO面11更加的光滑，從而使得ITO面11可以更好的與ITO玻璃基板進(jìn)行緊密的貼合，進(jìn)一步的提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量；而且ITO面11設(shè)置納米層14能夠進(jìn)一步提高掩模板1的硬度，同時(shí)使得整個(gè)掩模板1的強(qiáng)度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板1更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板1的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時(shí)非常有效的改善掩模板1的板面產(chǎn)生下垂，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量。

掩模板1采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成，其優(yōu)選材料為具有較小熱膨脹系數(shù)的因瓦合金，使得掩模板1在蒸鍍過(guò)程中具有較好的穩(wěn)定性，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板1，可以很好的保證掩模板1的強(qiáng)度和硬度，使得掩模板1可以更好的被應(yīng)用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板1具有一定的磁性，在后期應(yīng)用過(guò)程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設(shè)備吸附，可進(jìn)一步減小掩模板1的下垂量；同時(shí)不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價(jià)格便宜，便于大批量生產(chǎn)、節(jié)約生產(chǎn)成本及提高生產(chǎn)效率。

蒸鍍孔13在蒸鍍區(qū)15上均勻設(shè)置多個(gè)，均勻設(shè)置多個(gè)蒸鍍孔13在蒸鍍區(qū)15上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產(chǎn)量可以進(jìn)一步的提高，均勻設(shè)置的蒸鍍孔13使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長(zhǎng)；蒸鍍孔13之間設(shè)有連接部17，連接部17能夠更好的對(duì)蒸鍍孔13之間進(jìn)行連接和加固，有效的提高掩模板1在蒸鍍區(qū)15的強(qiáng)度和韌性，使得蒸鍍孔13可以更加高效的進(jìn)行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質(zhì)量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。

蒸鍍孔13的形狀為圓臺(tái)形或棱臺(tái)形，蒸鍍孔13的內(nèi)壁與ITO面11的夾角θ為銳角，夾角θ的范圍為60°-90°，這樣能夠非常有效的減小蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過(guò)程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過(guò)程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量；圓臺(tái)形或棱臺(tái)形設(shè)置的蒸鍍孔13，非常方便加工制造，使得掩模板1的制造非常的簡(jiǎn)單，從而很好的降低掩模板1的生產(chǎn)成本；蒸鍍孔13在ITO面11和蒸鍍面12的尺寸差范圍為0-5μm，非常好的提高蒸鍍孔13的開(kāi)孔的緊密度，同時(shí)能夠保證很好的蒸鍍質(zhì)量，蒸鍍孔13的形狀為圓臺(tái)形或棱臺(tái)形的設(shè)計(jì)，保證了掩模板1與ITO面的開(kāi)口尺寸精度控制在要求范圍內(nèi)，能夠保證更好的蒸鍍質(zhì)量。

納米層14為碳化鈦膜，納米層14使用碳化鈦膜非常有效的對(duì)掩模板1的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板1強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

納米層14為氮化鈦膜，納米層14使用氮化鈦膜非常有效的對(duì)掩模板1的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板1強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

納米層14為氮化鉻膜，納米層14使用氮化鉻非常有效的對(duì)掩模板1的硬度進(jìn)行提高，同時(shí)掩模板1強(qiáng)度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機(jī)物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進(jìn)一步的提高。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，不能認(rèn)定本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于這些說(shuō)明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。