本實用新型涉及有機發(fā)光二極管顯示領(lǐng)域，更具體的說，涉及一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。

背景技術(shù)：

由于有機電致發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)同時具備自發(fā)光、不需背光源、對比度高、厚度薄、視角廣、反應速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造及制程較簡單等優(yōu)異之特性，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術(shù)。

OLED生產(chǎn)過程中最重要的一環(huán)節(jié)是將有機層按照驅(qū)動矩陣的要求敷涂到基板上，形成關(guān)鍵的發(fā)光顯示單元。OLED是一種固體材料，高精度涂覆技術(shù)的發(fā)展是制約OLED產(chǎn)品化的關(guān)鍵。目前完成這一工作，主要采用真空沉積或真空熱蒸發(fā)(VTE)的方法，其是將位于真空腔體內(nèi)的有機物分子輕微加熱(蒸發(fā))，使得這些分子以薄膜的形式凝聚在溫度較低的基板上。在這一過程中需要與OLED發(fā)光顯示單元精度相適應的高精密掩模板作為媒介。

現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍用掩模板的由于受到材料的限制，如圖2所示，其厚度h(一般h大于60μm)左右，而蒸鍍的有機材料膜厚只在100nm左右，掩模板上的蒸鍍孔的尺寸d1最小可以是10μm左右，這樣較大的高寬比(h/d1)的開口使得蒸鍍孔的側(cè)壁勢必會在蒸鍍過程中產(chǎn)生遮擋，影響蒸鍍層的均勻性，降低蒸鍍質(zhì)量，增加了制造成本。而且若制作大尺寸掩模板，金屬制造的掩模板會具有較大的質(zhì)量，從而會導致掩模板的板面產(chǎn)生下垂(即板面中間會出現(xiàn)下凹現(xiàn)象)，這對精度要求較高的掩模蒸鍍過程是不利的。鑒于此，業(yè)內(nèi)亟需一種能夠解決此問題的方案。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種提高蒸鍍質(zhì)量的用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。

本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的：

一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，所述掩模板包括ITO面和蒸鍍面，所述掩模板上設有貫穿ITO面和蒸鍍面的蒸鍍孔，所述蒸鍍面上設有用于提高所述掩模板的強度和硬度的納米層。

進一步的，所述掩模板包括蒸鍍區(qū)和定位區(qū)，所述蒸鍍孔設在所述蒸鍍區(qū)內(nèi)，所述定位區(qū)內(nèi)設有定位孔。這樣，掩模板上的蒸鍍區(qū)和定位區(qū)的區(qū)分，能夠有效的限定在掩模板上的用來蒸鍍的區(qū)域，使得蒸鍍操作非常的方便簡單，蒸鍍孔設在蒸鍍區(qū)內(nèi),很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產(chǎn)量,而且可以很好的減小蒸鍍面積，不需要在整個掩模板上進行蒸鍍操作，非常有效的節(jié)約蒸鍍用的有機物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；通過定位區(qū)內(nèi)設置的定位孔可以非常方便的將掩模板固定，將掩模板的ITO面與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機材料非常好的通過蒸鍍孔蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時定位孔非常穩(wěn)固的對掩模板進行限位，有效的防止掩模板的位移，使得蒸鍍質(zhì)量進一步的提高。

進一步的，所述蒸鍍孔的內(nèi)壁設有所述納米層。這樣，納米層設在蒸鍍孔的內(nèi)壁，使得蒸鍍孔的內(nèi)壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機物分子干燥后脫模；而且納米層能夠非常有效的提高蒸鍍孔內(nèi)壁的硬度，使得蒸鍍孔的內(nèi)壁與ITO面的夾角位置更加的堅固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量；同時納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在蒸鍍孔的內(nèi)壁的殘留，從而大大減少蒸鍍孔的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

進一步的，所述ITO面設有所述納米層。這樣，納米層設在ITO面，使得ITO面更加的光滑，從而使得ITO面可以更好的與ITO玻璃基板進行緊密的貼合，進一步的提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量；而且ITO面設置納米層能夠進一步提高掩模板的硬度，同時使得整個掩模板的強度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時非常有效的改善掩模板的板面產(chǎn)生下垂，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量。

進一步的，所述掩模板采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成。這樣，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板，可以很好的保證掩模板的強度和硬度，使得掩模板可以更好的被應用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板具有一定的磁性，在后期應用過程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設備吸附，可進一步減小掩模板的下垂量；同時不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價格便宜，便于大批量生產(chǎn)、節(jié)約生產(chǎn)成本及提高生產(chǎn)效率。

進一步的，所述蒸鍍孔在所述蒸鍍區(qū)上均勻設置多個，所述蒸鍍孔之間設有連接部。這樣，均勻設置多個蒸鍍孔在蒸鍍區(qū)上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產(chǎn)量可以進一步的提高，均勻設置的蒸鍍孔使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長；連接部能夠更好的對蒸鍍孔之間進行連接和加固，有效的提高掩模板在蒸鍍區(qū)的強度和韌性，使得蒸鍍孔可以更加高效的進行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質(zhì)量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。

進一步的，所述蒸鍍孔在所述蒸鍍面上的開口形狀為圓形、正三角形、矩形或正多邊形。這樣，蒸鍍孔在蒸鍍面的開口形狀采用圓形、正三角形、矩形或正多邊形，能夠更加高效的利用蒸鍍區(qū)，使得在有限的蒸鍍區(qū)設置更多的蒸鍍孔，從而可以進一步的提高掩模板的蒸鍍效率，使得OLED顯示面板的分辨率可以得到更好的提升；而且蒸鍍孔在蒸鍍面的開口形狀可以根據(jù)蒸鍍的需要來設置不同的形狀，這樣可以更好的進行蒸鍍操作，提高蒸鍍質(zhì)量。

進一步的，所述納米層為碳化鈦膜。這樣，納米層使用碳化鈦膜非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

進一步的，所述納米層為氮化鈦膜。這樣，納米層使用氮化鈦膜非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

進一步的，所述納米層為氮化鉻膜。這樣，納米層使用氮化鉻非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

本實用新型由于蒸鍍面上設有納米層，納米層非常有效的對掩模板的硬度進行提高，非常有效的改善掩模板的板面產(chǎn)生下垂，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高了掩模板的蒸鍍質(zhì)量，大大提高掩模板的重復使用次數(shù)，降低了的電子組裝的成本；而且納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高；現(xiàn)在我們將掩模板的厚度降低到小于60μm，由于納米層的設置能夠非常有效的提高掩模板的硬度，因此我們可以克服現(xiàn)有技術(shù)中材料的限制，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔的開口的尺寸與掩模板厚度比值減小，即背景技術(shù)中提到的高寬比，有效的減小蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型現(xiàn)有技術(shù)的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖；

圖3是本實用新型實施例的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖。

其中：1、掩模板，11、ITO面，12、蒸鍍面，13、蒸鍍孔，14、納米層，15、蒸鍍區(qū)，16、定位區(qū)，161、定位孔，17、連接部。

具體實施方式

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本實用新型的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。術(shù)語“包括”及其任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含。

在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。

下面結(jié)合附圖和較佳的實施例對本實用新型作進一步說明。

如圖1至圖3所示，本實施例公開一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，掩模板1包括ITO面11和蒸鍍面12，掩模板1上設有貫穿ITO面11和蒸鍍面12的蒸鍍孔13，蒸鍍面12上設有用于提高掩模板1的強度和硬度的納米層14，由于蒸鍍面12上設有納米層14，納米層14非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，非常有效的改善掩模板1的板面產(chǎn)生下垂，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量，大大提高掩模板1的重復使用次數(shù)，降低了的電子組裝的成本；而且納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高；現(xiàn)在我們將掩模板1的厚度降低到小于60μm，掩模板1的厚度為10-60μm，作為其中的優(yōu)選方案，掩模板1厚度h為10μm或20μm或30μm或40μm或50μm，由于納米層14的設置能夠非常有效的提高掩模板1的硬度，因此我們可以克服現(xiàn)有技術(shù)中材料的限制，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔13的開口的尺寸與掩模板1厚度比值減小，即背景技術(shù)中提到的高寬比(h/d1)，有效的減小蒸鍍口的內(nèi)壁在蒸鍍過程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質(zhì)量的蒸鍍過程，大大的提高了蒸鍍的質(zhì)量。

掩模板1包括蒸鍍區(qū)15和定位區(qū)16，掩模板1上的蒸鍍區(qū)15和定位區(qū)16的區(qū)分，能夠有效的限定在掩模板1上的用來蒸鍍的區(qū)域，使得蒸鍍操作非常的方便簡單；蒸鍍孔13設在蒸鍍區(qū)15內(nèi)，很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產(chǎn)量,而且可以很好的減小蒸鍍面積，不需要在整個掩模板1上進行蒸鍍操作，非常有效的節(jié)約蒸鍍用的有機物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；定位區(qū)16內(nèi)設有定位孔，通過定位區(qū)16內(nèi)設置的定位孔可以非常方便的將掩模板1固定，將掩模板1的ITO面11與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機材料非常好的通過蒸鍍孔13蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時定位孔非常穩(wěn)固的對掩模板1進行限位，有效的防止掩模板1的位移，使得蒸鍍質(zhì)量進一步的提高；掩模板1的形狀為四邊形，定位區(qū)16沿四邊形的掩模板1邊緣設置，這樣可以非常好的提高掩模板1的利用率，使得掩模板1的蒸鍍質(zhì)量更高。

蒸鍍孔13的內(nèi)壁設有納米層14，蒸鍍孔13的內(nèi)壁的表面粗糙度為0.3-0.6μm，納米層14設在蒸鍍孔13的內(nèi)壁，使得蒸鍍孔13的內(nèi)壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機物分子干燥后脫模；而且納米層14能夠非常有效的提高蒸鍍孔13內(nèi)壁的硬度，使得蒸鍍孔13的內(nèi)壁與ITO面11的夾角位置更加的堅固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量；同時納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在蒸鍍孔13的內(nèi)壁的殘留，從而大大減少蒸鍍孔13的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

ITO面11設有納米層14，納米層14設在ITO面11，使得ITO面11更加的光滑，從而使得ITO面11可以更好的與ITO玻璃基板進行緊密的貼合，進一步的提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量；而且ITO面11設置納米層14能夠進一步提高掩模板1的硬度，同時使得整個掩模板1的強度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板1更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時非常有效的改善掩模板1的板面產(chǎn)生下垂，大大提高了掩模板1的蒸鍍質(zhì)量。

掩模板1采用不銹鋼、純鎳或鎳合金任意一種材料制成，其優(yōu)選材料為具有較小熱膨脹系數(shù)的因瓦合金，使得掩模板1在蒸鍍過程中具有較好的穩(wěn)定性，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板1，可以很好的保證掩模板1的強度和硬度，使得掩模板1可以更好的被應用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板1具有一定的磁性，在后期應用過程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設備吸附，可進一步減小掩模板1的下垂量；同時不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價格便宜，便于大批量生產(chǎn)、節(jié)約生產(chǎn)成本及提高生產(chǎn)效率。

蒸鍍孔13在蒸鍍區(qū)15上均勻設置多個，均勻設置多個蒸鍍孔13在蒸鍍區(qū)15上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產(chǎn)量可以進一步的提高，均勻設置的蒸鍍孔13使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長；蒸鍍孔13之間設有連接部17，連接部17能夠更好的對蒸鍍孔13之間進行連接和加固，有效的提高掩模板1在蒸鍍區(qū)15的強度和韌性，使得蒸鍍孔13可以更加高效的進行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質(zhì)量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。

蒸鍍孔13在蒸鍍面12上的開口形狀為圓形、正三角形、矩形或正多邊形，能夠更加高效的利用蒸鍍區(qū)15，使得在有限的蒸鍍區(qū)15設置更多的蒸鍍孔13，從而可以進一步的提高掩模板1的蒸鍍效率，使得OLED顯示面板的分辨率可以得到更好的提升；而且蒸鍍孔13在蒸鍍面12的開口形狀可以根據(jù)蒸鍍的需要來設置不同的形狀，這樣可以更好的進行蒸鍍操作，提高蒸鍍質(zhì)量。

納米層14為碳化鈦膜，納米層14使用碳化鈦膜非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

納米層14為氮化鈦膜，納米層14使用氮化鈦膜非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

納米層14為氮化鉻膜，納米層14使用氮化鉻非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產(chǎn)的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型的保護范圍。