1.一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，包括裝置主體(1)、拋光盤(2)、攪拌桶(3)、連接泵口(4)、連接頭(5)、輸送管(6)、連接架(7)、放置盤(8)、晶片主體(9)、限位盤(10)、壓板(11)、定位板(12)和調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(21)，其特征在于：所述裝置主體(1)的外壁旋轉(zhuǎn)連接有拋光盤(2)，所述裝置主體(1)的外壁固定連接有攪拌桶(3)，所述連接泵口(4)設(shè)置于攪拌桶(3)的頂部，所述連接泵口(4)的內(nèi)壁可拆卸連接有連接頭(5)，所述連接頭(5)的外壁固定連接有輸送管(6)，所述裝置主體(1)的外壁固定連接有套接于輸送管(6)外壁的連接架(7)，所述放置盤(8)放置于拋光盤(2)的表面，所述放置盤(8)的底部設(shè)置有晶片主體(9)，所述放置盤(8)的外壁套接有限位盤(10)，所述限位盤(10)的內(nèi)壁放置有與放置盤(8)頂部相貼合的壓板(11)，所述限位盤(10)的內(nèi)壁放置有位于壓板(11)上方的定位板(12)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述攪拌桶(3)的頂部開設(shè)有加注口(18)，所述連接頭(5)的外壁設(shè)置有外螺旋(19)，所述連接泵口(4)的內(nèi)壁與外螺旋(19)的連接部位設(shè)置有內(nèi)螺旋(20)；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述安裝機(jī)構(gòu)(15)包括有：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述插桿(1502)和卡塊(1503)的擠壓部位呈圓弧狀，所述卡塊(1503)和伸縮桿(1504)均設(shè)置有兩組，兩組所述卡塊(1503)和伸縮桿(1504)的位置分布均關(guān)于插桿(1502)的中心軸相對(duì)稱；
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿(1506)通過卡塊(1503)與連接桿(1507)之間構(gòu)成轉(zhuǎn)動(dòng)結(jié)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿(1506)設(shè)置有兩組，兩組所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿(1506)的位置分布關(guān)于連接桿(1507)的中心軸相對(duì)稱。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述清理機(jī)構(gòu)(16)包括有：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述升降桿(1604)通過第三螺紋桿(1602)與限位槽(1605)之間構(gòu)成升降結(jié)構(gòu)，所述清理刮板(1610)通過升降桿(1604)與限位槽(1605)之間構(gòu)成升降結(jié)構(gòu)；
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述攪拌機(jī)構(gòu)(17)包括有：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述伸縮塊(1706)通過微型防潮電動(dòng)推動(dòng)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，所述固定刮板(1704)和伸縮刮板(1708)的外壁輪廓均呈圓柱狀；
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種銻化鎵晶片表面加工用拋光裝置，其特征在于：所述頂升桿(1705)通過伸縮塊(1706)和擺動(dòng)桿(1707)與固定刮板(1704)之間構(gòu)成伸縮結(jié)構(gòu)，所述固定刮板(1704)的內(nèi)壁與頂升桿(1705)的連接部位開設(shè)有連接槽。