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      蒸鍍?cè)唇M件、蒸鍍裝置及蒸鍍方法與流程

      文檔序號(hào):39979175發(fā)布日期:2024-11-15 14:27閱讀:36來(lái)源:國(guó)知局
      蒸鍍?cè)唇M件、蒸鍍裝置及蒸鍍方法與流程

      本申請(qǐng)涉及太陽(yáng)能電池,具體涉及一種蒸鍍?cè)唇M件、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。


      背景技術(shù):

      1、蒸鍍是通過(guò)蒸發(fā)源使蒸鍍材料加熱到一定溫度發(fā)生蒸發(fā)或升華,從而使蒸鍍材料在基板表面沉積得到薄膜材料的方法。在鈣鈦礦電池的制備過(guò)程中,可以使用蒸鍍制備鈣鈦礦功能層,然而,在蒸鍍鈣鈦礦功能層時(shí),涉及多元蒸鍍,現(xiàn)有蒸發(fā)源在進(jìn)行多元蒸鍍時(shí)存在一些問(wèn)題,使得制備的鈣鈦礦功能層的均勻性較差。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、為了解決上述問(wèn)題,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)唇M件、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。

      2、第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)唇M件,包括:承載板,承載板包括第一表面;多個(gè)蒸鍍單元,每個(gè)蒸鍍單元包括多個(gè)間隔設(shè)置的固定點(diǎn)源,固定點(diǎn)源位于第一表面上,每個(gè)蒸鍍單元的多個(gè)固定點(diǎn)源的連線(xiàn)經(jīng)過(guò)第一表面的中心,至少兩個(gè)蒸鍍單元用于容納不同的蒸鍍材料;旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的中心與第一表面的中心重合,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源包括多個(gè)分位,至少兩個(gè)分位用于容納不同的蒸鍍材料,分位容納的蒸鍍材料與蒸鍍單元容納的蒸鍍材料相同。

      3、結(jié)合第一方面,第一表面上設(shè)置有第一坑位,第一坑位與旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的位置對(duì)應(yīng);旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源包括第一坩堝,第一坩堝放置在第一坑位內(nèi);優(yōu)選地,第一坩堝劃分為多個(gè)分位;優(yōu)選地,每個(gè)分位的面積相等;優(yōu)選地,分位的數(shù)量小于或等于4;優(yōu)選地,分位的數(shù)量與蒸鍍單元的個(gè)數(shù)相同;優(yōu)選地,第一坑位的底部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)裝置,旋轉(zhuǎn)裝置用于控制第一坩堝旋轉(zhuǎn);優(yōu)選地,旋轉(zhuǎn)裝置包括轉(zhuǎn)軸、支撐板和驅(qū)動(dòng)件,轉(zhuǎn)軸的一端與支撐板固定連接,轉(zhuǎn)軸的另一端與驅(qū)動(dòng)件連接,支撐板用于放置第一坩堝;優(yōu)選地,承載板設(shè)置有第一加熱裝置,位于第一坑位的底部和周側(cè),第一加熱裝置用于對(duì)第一坩堝進(jìn)行加熱。

      4、結(jié)合第一方面,每個(gè)蒸鍍單元的多個(gè)固定點(diǎn)源呈直線(xiàn)排列;優(yōu)選地,第一表面上設(shè)置有多個(gè)第二坑位,第二坑位與固定點(diǎn)源的位置一一對(duì)應(yīng);每個(gè)固定點(diǎn)源包括第二坩堝,第二坩堝分別放置在對(duì)應(yīng)的第二坑位內(nèi);優(yōu)選地,每個(gè)蒸鍍單元的相鄰的固定點(diǎn)源之間的距離大于或等于5cm且小于或等于8cm;優(yōu)選地,承載板設(shè)置有第二加熱裝置,位于第二坑位的底部和周側(cè),第二加熱裝置用于對(duì)第二坩堝進(jìn)行加熱;優(yōu)選地,第二加熱裝置獨(dú)立控制每個(gè)第二坩堝的加熱溫度。

      5、結(jié)合第一方面,蒸發(fā)源組件還包括遮擋窗,遮擋窗安裝在第一表面上,遮擋窗用于遮擋部分旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源,以露出部分旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源;優(yōu)選地,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源露出于遮擋窗的面積大于或等于一個(gè)分位;優(yōu)選地,遮擋窗遮擋旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的面積可調(diào)。

      6、結(jié)合第一方面,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源包括第一坩堝,第一坩堝劃分為多個(gè)分位;蒸發(fā)源組件還包括控制器,控制器用于控制第一坩堝旋轉(zhuǎn);優(yōu)選地,控制器用于,當(dāng)一種蒸鍍材料蒸鍍完成且需要蒸鍍另一種蒸鍍材料時(shí),控制第一坩堝旋轉(zhuǎn),使得容納另一種蒸鍍材料的分位露出于遮擋窗;優(yōu)選地,蒸鍍材料包括鈣鈦礦原材料。

      7、第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種蒸鍍裝置,包括:上述的蒸鍍?cè)唇M件,蒸鍍?cè)唇M件包括承載板,承載板包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面;第三加熱裝置,第三加熱裝置與第二表面接觸,以對(duì)承載板進(jìn)行加熱。

      8、第三方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種蒸鍍方法,包括:提供上述的蒸鍍裝置;在蒸鍍裝置的至少兩個(gè)蒸鍍單元內(nèi)放置不同的蒸鍍材料;在蒸鍍裝置的旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的至少兩個(gè)分位內(nèi)分別放置蒸鍍材料;將基板移入蒸鍍裝置內(nèi),在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料。

      9、結(jié)合第三方面,至少兩種蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度相近,在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料的步驟中,包括:將放置蒸鍍材料的蒸鍍單元和旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源分別加熱至蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度;在基板的表面同時(shí)蒸鍍蒸鍍材料;優(yōu)選地,蒸鍍材料包括鈣鈦礦原材料,優(yōu)選地,鈣鈦礦原材料包括碘化鉛、碘化甲胺、碘化銫、碘化甲脒中的至少一種。

      10、結(jié)合第三方面,蒸鍍材料包括第一蒸鍍材料和第二蒸鍍材料,在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料,包括:利用遮擋窗遮擋部分旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源,使得旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源露出于遮擋窗的面積等于一個(gè)分位;旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的第一坩堝,使得容納第一蒸鍍材料的分位露出于遮擋窗;將放置第一蒸鍍材料的蒸鍍單元和旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源分別加熱至第一蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度;在基板的表面蒸鍍第一蒸鍍材料;在蒸鍍完第一蒸鍍材料后,旋轉(zhuǎn)第一坩堝,使得容納第二蒸鍍材料的分位露出于遮擋窗;將放置第二蒸鍍材料的蒸鍍單元和旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源分別加熱至第二蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度;在基板的表面蒸鍍第二蒸鍍材料;優(yōu)選地,在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料,包括:依次交替在基板的表面蒸鍍第一蒸鍍材料和第二蒸鍍材料;優(yōu)選地,第一蒸鍍材料和/或第二蒸鍍材料包括碘化鉛、碘化甲胺、碘化銫、碘化甲脒中的至少一種;優(yōu)選地,第一蒸鍍材料包括碘化鉛,第二蒸鍍材料包括碘化甲胺。

      11、結(jié)合第二方面,在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料的步驟之前,方法還包括:對(duì)蒸鍍裝置抽真空;優(yōu)選地,蒸鍍裝置內(nèi)的真空度為10-6~10-7mbar;優(yōu)選地,在基板的表面蒸鍍蒸鍍材料的步驟之前,方法還包括:將承載板加熱至特定溫度并進(jìn)行保溫,特定溫度小于蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度。

      12、通過(guò)上述技術(shù)方案,將多個(gè)蒸鍍單元設(shè)置在同一承載板上,適用于蒸鍍多種蒸鍍材料,可以提高蒸鍍均勻性;此外,每個(gè)蒸鍍單元包括多個(gè)固定點(diǎn)源,可以根據(jù)需求確定固定點(diǎn)源的數(shù)量,實(shí)現(xiàn)不同面積的蒸鍍。本方案尤其適用于鈣鈦礦電池的蒸鍍,在進(jìn)行鈣鈦礦材料的多元蒸鍍(例如,多元共蒸、多元順蒸)時(shí),可以提升鈣鈦礦材料的蒸鍍均勻性;此外,可以根據(jù)需求確定固定點(diǎn)源的數(shù)量,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)大面積鈣鈦礦電池的蒸鍍。



      技術(shù)特征:

      1.一種蒸鍍?cè)唇M件,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)唇M件,其特征在于,所述第一表面上設(shè)置有第一坑位,所述第一坑位與所述旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的位置對(duì)應(yīng);

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)唇M件,其特征在于,每個(gè)所述蒸鍍單元的多個(gè)所述固定點(diǎn)源呈直線(xiàn)排列;

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)唇M件,其特征在于,還包括遮擋窗,所述遮擋窗安裝在所述第一表面上,所述遮擋窗用于遮擋部分所述旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源,以露出部分所述旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源;

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍?cè)唇M件,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源包括第一坩堝,所述第一坩堝劃分為所述多個(gè)分位;

      6.一種蒸鍍裝置,其特征在于,包括:

      7.一種蒸鍍方法,其特征在于,包括:

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,至少兩種所述蒸鍍材料的蒸發(fā)溫度相近,所述在所述基板的表面蒸鍍所述蒸鍍材料的步驟中,包括:

      9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述蒸鍍材料包括第一蒸鍍材料和第二蒸鍍材料,所述在所述基板的表面蒸鍍所述蒸鍍材料,包括:

      10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,在所述基板的表面蒸鍍所述蒸鍍材料的步驟之前,所述方法還包括:對(duì)所述蒸鍍裝置抽真空;


      技術(shù)總結(jié)
      本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N蒸鍍?cè)唇M件、蒸鍍裝置及蒸鍍方法,該蒸鍍?cè)唇M件包括:承載板,承載板包括第一表面;多個(gè)蒸鍍單元,每個(gè)蒸鍍單元包括多個(gè)間隔設(shè)置的固定點(diǎn)源,固定點(diǎn)源位于第一表面上,每個(gè)蒸鍍單元的多個(gè)固定點(diǎn)源的連線(xiàn)經(jīng)過(guò)第一表面的中心,至少兩個(gè)蒸鍍單元用于容納不同的蒸鍍材料;旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源的中心與第一表面的中心重合,旋轉(zhuǎn)點(diǎn)源包括多個(gè)分位,至少兩個(gè)分位用于容納不同的蒸鍍材料,分位容納的蒸鍍材料與蒸鍍單元容納的蒸鍍材料相同。本申請(qǐng)的技術(shù)方案可以提高蒸鍍材料的蒸鍍均勻性。

      技術(shù)研發(fā)人員:高薇,董圣之,鄒德月,陳曉敏
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇匯顯顯示技術(shù)有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/14
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