一種真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空蒸鍍裝置及蒸鍍方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，蒸鍍工藝被廣泛地應(yīng)用于電子器件的鍍膜生產(chǎn)過(guò)程中，其原理是將待蒸鍍的基板放置于真空環(huán)境中，通過(guò)蒸發(fā)源使蒸鍍材料加熱到一定溫度發(fā)生蒸發(fā)或升華，從而使蒸鍍材料凝結(jié)沉積在待蒸鍍的基板表面而完成鍍膜。
[0003]現(xiàn)有蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)可如圖1所示，在真空腔室I內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源5，蒸發(fā)源5的上方設(shè)有蒸鍍區(qū)域2，蒸發(fā)源5的出口位置對(duì)應(yīng)設(shè)置有晶振片4和擋板3，通過(guò)晶振片4實(shí)現(xiàn)檢測(cè)蒸鍍速率；將待蒸鍍的基板放置于蒸鍍區(qū)域2內(nèi)，待蒸發(fā)源5的速率穩(wěn)定后可對(duì)基板進(jìn)行成膜。為了保證蒸鍍的穩(wěn)定性，需要將該蒸發(fā)源5維持在一定的蒸發(fā)速率并一直處于蒸發(fā)狀態(tài)，這樣在已完成蒸鍍基板搬出與新基板搬入之間的這段時(shí)間內(nèi)，蒸發(fā)源5仍在保持蒸發(fā)狀態(tài)，這就造成了蒸發(fā)材料的損失浪費(fèi)；而且，該蒸發(fā)源5只能在特定方向上進(jìn)行成膜，不能同時(shí)在多個(gè)方向成膜，工作效率不高；此外，在蒸鍍期間，一旦蒸發(fā)源出現(xiàn)蒸鍍速率不穩(wěn)定等情況，就必須停止搬入基板，直到蒸發(fā)源恢復(fù)正常為止，造成了生產(chǎn)時(shí)間的浪費(fèi)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一 )要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供了一種真空蒸鍍裝置，使得在真空蒸鍍過(guò)程中能夠提高蒸發(fā)材料的利用率以及成膜的均一性。
[0006]( 二 )技術(shù)方案
[0007]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，包括:真空腔室及在所述真空腔室內(nèi)自下而上依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)、蒸發(fā)源及多個(gè)蒸鍍區(qū)域；所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的形狀為勒洛三角形，且其在水平面的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡為圓角正方形；所述蒸鍍區(qū)域沿所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡間隔設(shè)置；所述蒸發(fā)源在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的帶動(dòng)下依次經(jīng)過(guò)所述蒸鍍區(qū)域的下方。
[0008]其中，所述真空腔室內(nèi)設(shè)有基臺(tái)導(dǎo)軌，所述基臺(tái)導(dǎo)軌的形狀為圓角正方形，且位于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的外側(cè)；所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)分別與基臺(tái)導(dǎo)軌滑動(dòng)連接。
[0009]其中，在所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上且位于其中心與頂點(diǎn)之間設(shè)有蒸發(fā)源導(dǎo)軌，所述蒸發(fā)源沿所述蒸發(fā)源導(dǎo)軌方向滑動(dòng)。
[0010]其中，所述蒸發(fā)源為點(diǎn)源式。
[0011]其中，所述蒸發(fā)源為線源式；在所述蒸發(fā)源的下方設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)架，所述轉(zhuǎn)動(dòng)架用于帶動(dòng)所述蒸發(fā)源在蒸鍍過(guò)程中始終垂直于基臺(tái)導(dǎo)軌。
[0012]其中，該真空蒸鍍裝置還包括晶振片和擋板，所述晶振片沿所述蒸發(fā)源的開(kāi)口方向傾斜設(shè)置，用于檢測(cè)蒸發(fā)源的蒸鍍速率；所述擋板位于晶振片與蒸發(fā)源之間。
[0013]其中，該真空蒸鍍裝置還包括真空泵，所述真空泵通過(guò)抽氣管道與所述真空腔室連接。
[0014]其中，該真空蒸鍍裝置還包括驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)基臺(tái)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0015]此外，本發(fā)明還提供一種根據(jù)所述真空蒸鍍裝置進(jìn)行蒸鍍的方法，包括如下步驟:
[0016]S1、將蒸發(fā)材料裝載于各個(gè)蒸發(fā)源中，并使蒸發(fā)源均處于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心位置；
[0017]S2、將蒸發(fā)速率最先穩(wěn)定的蒸發(fā)源移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)位置，將待蒸鍍的基板分別放置在各個(gè)蒸鍍區(qū)域內(nèi)，其中不包括該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源上方所對(duì)應(yīng)的蒸鍍區(qū)域；
[0018]S3、啟動(dòng)旋轉(zhuǎn)基臺(tái)，使該最先穩(wěn)定蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)各個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，實(shí)現(xiàn)同時(shí)在不同方向上對(duì)多個(gè)待蒸鍍的基板進(jìn)行蒸鍍作業(yè)；然后將已完成蒸鍍的基板取出，同時(shí)對(duì)應(yīng)放入新的待蒸鍍的基板；
[0019]S4、對(duì)于其他速率陸續(xù)穩(wěn)定的蒸發(fā)源，當(dāng)對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，將這些蒸發(fā)源分別移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上對(duì)應(yīng)的頂點(diǎn)處，直至所有蒸發(fā)源均參與蒸鍍作業(yè)為止。
[0020]其中，該蒸鍍方法還包括如下步驟:
[0021]S5、在蒸鍍作業(yè)過(guò)程中，若其中某一蒸發(fā)源出現(xiàn)速率不穩(wěn)定時(shí)，則控制在該蒸發(fā)源旋轉(zhuǎn)至兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)將其移動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的中心處進(jìn)行維修；待該蒸發(fā)源的速率穩(wěn)定并且旋轉(zhuǎn)基臺(tái)對(duì)應(yīng)該蒸發(fā)源的頂點(diǎn)位于兩個(gè)蒸鍍區(qū)域的間隙時(shí)，再運(yùn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的頂點(diǎn)進(jìn)行蒸鍍作業(yè)。
[0022](三)有益效果
[0023]本發(fā)明的上述技術(shù)方案具有以下有益效果:本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，將旋轉(zhuǎn)基臺(tái)的形狀設(shè)計(jì)為勒洛三角形，該旋轉(zhuǎn)基臺(tái)可帶動(dòng)蒸發(fā)源依次經(jīng)過(guò)多個(gè)蒸鍍區(qū)域的下方，使得蒸發(fā)源可同時(shí)在多個(gè)方向蒸鍍作業(yè)，提高成膜的均一性以及對(duì)蒸發(fā)材料的利用率，利于推廣與應(yīng)用。
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1為現(xiàn)有蒸發(fā)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為本發(fā)明實(shí)施例真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3為本發(fā)明實(shí)施例真空蒸鍍裝置在執(zhí)行步驟SI時(shí)的狀態(tài)圖；
[0027]圖4為本發(fā)明實(shí)施例真空蒸鍍裝置在執(zhí)行步驟S2時(shí)的狀態(tài)圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實(shí)施例真空蒸鍍裝置在執(zhí)行步驟S3時(shí)的狀態(tài)圖；
[0029]圖6為本發(fā)明實(shí)施例真空蒸鍍裝置在執(zhí)行步驟S4時(shí)的狀態(tài)圖。
[0030]其中，1:真空腔室；2:蒸鍛區(qū)域；3:擋板；4:晶振片；5:蒸發(fā)源；6:抽氣管道；7:真空栗；8:旋轉(zhuǎn)基臺(tái)；9:基臺(tái)導(dǎo)軌；10:驅(qū)動(dòng)裝置；11:蒸發(fā)源導(dǎo)軌；12:基板。
【具體實(shí)施方式】
[0031]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不能用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0032]在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有說(shuō)明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上；術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”、“前端”、“后端”、“頭部”、“尾部”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”等僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
[0033]在本發(fā)明的描述中，還需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可視具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0034]結(jié)合圖2、圖6所示，本實(shí)施例提供的真空蒸鍍裝置包括:真空腔室I及在真空腔室I內(nèi)自下而上依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8、蒸發(fā)源5及多個(gè)蒸鍍區(qū)域2 ;該旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的形狀為勒洛三角形，勒洛三角形是指:以等邊三角形每個(gè)頂點(diǎn)為圓心，以邊長(zhǎng)為半徑，在另兩個(gè)頂點(diǎn)間作一段弧，三段弧圍成的曲邊三角形就是勒洛三角形。這種勒洛三角形的旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，其在水平面的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡為圓角正方形，也就是說(shuō)其軌跡為各個(gè)拐角采用圓弧過(guò)渡的正方形，這樣可使蒸發(fā)源5在多個(gè)方向(圓角正方形的各直邊所在位置)上具有直線軌跡，利于均勻成膜；蒸鍍區(qū)域2沿旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡間隔設(shè)置，用于容納待蒸鍍的基板12。同時(shí)，蒸發(fā)源5在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的帶動(dòng)下依次經(jīng)過(guò)蒸鍍區(qū)域2的下方，從而實(shí)現(xiàn)同時(shí)在多個(gè)方向?qū)Υ翦兊幕?2進(jìn)行均勻成膜。
[0035]為了增加蒸鍍的穩(wěn)定性，旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8可采用滑軌的方式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。具體的，在真空腔室I內(nèi)設(shè)有基臺(tái)導(dǎo)軌9，基臺(tái)導(dǎo)軌9的形狀為圓角正方形，以保證與旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡相對(duì)應(yīng)；而且，基臺(tái)導(dǎo)軌9位于旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的外側(cè)，同時(shí)，旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的頂點(diǎn)(相鄰兩個(gè)曲邊相交的部位)分別與基臺(tái)導(dǎo)軌9滑動(dòng)連接，保證了旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8在基臺(tái)導(dǎo)軌9的內(nèi)側(cè)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
[0036]當(dāng)然，多個(gè)蒸鍍區(qū)域2也對(duì)應(yīng)位于基臺(tái)導(dǎo)軌9周圍的上方，例如:蒸鍍區(qū)域2的數(shù)量為四個(gè)，每個(gè)蒸鍍區(qū)域2的形狀為矩形，且分別對(duì)應(yīng)位于該基臺(tái)導(dǎo)軌9的直邊上方，使蒸發(fā)源5在經(jīng)過(guò)蒸鍍區(qū)域2時(shí)的運(yùn)動(dòng)軌跡為直線，從而保證成膜的均勻性。
[0037]對(duì)應(yīng)的，蒸發(fā)源5的數(shù)量?jī)?yōu)選為三個(gè)，可分別沿著旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8的徑向(中心至頂點(diǎn)之間)移動(dòng)。在旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8上且位于其中心與頂點(diǎn)之間設(shè)有蒸發(fā)源導(dǎo)軌11，蒸發(fā)源5滑動(dòng)安裝于蒸發(fā)源導(dǎo)軌11上，用于沿蒸發(fā)源導(dǎo)軌11方向滑動(dòng)。
[0038]由于該真空蒸鍍裝置可實(shí)現(xiàn)在多個(gè)方向進(jìn)行蒸鍍作業(yè)，因此可以其中任意一方向進(jìn)行基板的投入取出動(dòng)作，而其他方向仍然可正常進(jìn)行蒸鍍作業(yè)，可見(jiàn)，該真空蒸鍍裝置具有提高蒸發(fā)源5的蒸鍍時(shí)間，減少蒸發(fā)材料的浪費(fèi)的功能。具體而言:旋轉(zhuǎn)基臺(tái)8在基臺(tái)導(dǎo)軌9中旋轉(zhuǎn)，由于基臺(tái)導(dǎo)軌9為圓角正方形，使得蒸發(fā)源5同時(shí)在三個(gè)方向上(圓角正方形任意三個(gè)直邊所在位