專利名稱：用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種化學(xué)品的生產(chǎn)裝置，特別涉及一種用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管 道加氫裝置。
背景技術(shù)：
氣相法二氧化硅合成是硅烷在氫、空火焰中高溫水解生成二氧化硅、水和氯化氫。 同時(shí)有10% 15%的氯化氫與空氣中的氧氣發(fā)生次級反應(yīng)生成游離氯氣和水，這個次級 反應(yīng)在制備氣相二氧化硅中是不希望發(fā)生的。因?yàn)橛坞x氯附著在二氧化硅表面，直接影響 氣相二氧化硅的質(zhì)量。如果用于高溫膠行業(yè)，所生產(chǎn)出來的膠會發(fā)黃和不透明等。這也是 日前國內(nèi)的企業(yè)生產(chǎn)的氣相法二氧化無法使用在高溫膠行業(yè)的原因。為了去除附著在二氧 化硅表面的游離氯，可以在管道(冷卻管和聚集器)中加氫進(jìn)行燃燒，通過控制氫、氧比例， 使氫氣進(jìn)行欠氧燃燒，這樣沒有參加燃燒的氫和二氧化硅中的游離氯發(fā)生反應(yīng)生產(chǎn)氯化氫 和水，可以實(shí)現(xiàn)去除二氧化硅表面的游離氯。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的，就是為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，提供一種用于生產(chǎn)氣相 法二氧化硅的管道加氫裝置，以實(shí)現(xiàn)去除二氧化硅表面的游離氯。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅 的管道加氫裝置，與氣相法二氧化硅的生產(chǎn)裝置相連；包括氫氣燃燒器、氫氣進(jìn)氣管路和空 氣進(jìn)氣管路；氫氣燃燒器安裝在生產(chǎn)裝置中的冷卻管或聚集器的彎管處，并且氫氣燃燒器 燃燒時(shí)的火焰方向與物料流動方向一致；在氫氣燃燒器后部的側(cè)面設(shè)有氫氣進(jìn)口管，在氫 氣燃燒器后端設(shè)有空氣進(jìn)口管；氫氣進(jìn)氣管路與氫氣進(jìn)口管相連，空氣進(jìn)氣管路與空氣進(jìn) 口管相連。所述的氫氣進(jìn)氣管路包括順序通過管道相連的氫氣球閥、氫氣減壓閥、氫氣壓力 表、安全切斷閥和氫氣孔板流量計(jì)。所述的空氣進(jìn)氣管路包括順序通過管道相連的空氣球閥、空氣減壓閥、空氣壓力 表、電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)和空氣孔板流量計(jì)。采用本發(fā)明的裝置，在冷卻管和聚集器的彎管處加氫進(jìn)行燃燒，通過控制氫、氧比 例，使氫氣進(jìn)行欠氧燃燒，使沒有參加燃燒的氫與物料中二氧化硅表面的游離氯發(fā)生反應(yīng) 生產(chǎn)氯化氫和水，可以去除二氧化硅表面的游離氯，大大提高二氧化硅產(chǎn)品的質(zhì)量。


圖1為本發(fā)明用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
參見圖1，本發(fā)明用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置，與氣相法二氧化硅的 生產(chǎn)裝置相連。包括氫氣燃燒器1、氫氣進(jìn)氣管路2和空氣進(jìn)氣管路3。氫氣燃燒器1安裝 在生產(chǎn)裝置中的冷卻管或聚集器4的彎管處，并且氫氣燃燒器1燃燒時(shí)的火焰5的方向與 物料流動方向一致；在氫氣燃燒器1后部的側(cè)面設(shè)有氫氣進(jìn)口管11，在氫氣燃燒器后端設(shè) 有空氣進(jìn)口管12 ；氫氣進(jìn)氣管路2與氫氣進(jìn)口管11相連，空氣進(jìn)氣管路3與空氣進(jìn)口管12 相連。本發(fā)明中的氫氣進(jìn)氣管路2包括順序通過管道相連的氫氣球閥21、氫氣減壓閥 22、氫氣壓力表23、安全切斷閥M和氫氣孔板流量計(jì)25。本發(fā)明中的空氣進(jìn)氣管路3包括順序通過管道相連的空氣球閥31、空氣減壓閥 32、空氣壓力表33、電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)34和空氣孔板流量計(jì)35。本發(fā)明的用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置的工作原理是，通過控制氫、 氧比例，使氫氣在生產(chǎn)裝置中的冷卻管或聚集器4的彎管處進(jìn)行欠氧燃燒，讓沒有參加燃 燒的氫氣和二氧化硅表面的游離氯發(fā)生反應(yīng)生產(chǎn)氯化氫和水，以實(shí)現(xiàn)去除二氧化硅表面的 游離氯。
權(quán)利要求
1.一種用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置，與氣相法二氧化硅的生產(chǎn)裝置相 連；其特征在于包括氫氣燃燒器、氫氣進(jìn)氣管路和空氣進(jìn)氣管路；氫氣燃燒器安裝在生產(chǎn) 裝置中的冷卻管或聚集器的彎管處，并且氫氣燃燒器燃燒時(shí)的火焰方向與物料流動方向一 致；在氫氣燃燒器后部的側(cè)面設(shè)有氫氣進(jìn)口管，在氫氣燃燒器后端設(shè)有空氣進(jìn)口管；氫氣 進(jìn)氣管路與氫氣進(jìn)口管相連，空氣進(jìn)氣管路與空氣進(jìn)口管相連。
2.如權(quán)利要求1所述的用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置，其特征在于所述 的氫氣進(jìn)氣管路包括順序通過管道相連的氫氣球閥、氫氣減壓閥、氫氣壓力表、安全切斷閥 和氫氣孔板流量計(jì)。
3.如權(quán)利要求1所述的用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置，其特征在于所述 的空氣進(jìn)氣管路包括順序通過管道相連的空氣球閥、空氣減壓閥、空氣壓力表、電動執(zhí)行機(jī) 構(gòu)和空氣孔板流量計(jì)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于生產(chǎn)氣相法二氧化硅的管道加氫裝置，與氣相法二氧化硅的生產(chǎn)裝置相連；包括氫氣燃燒器、氫氣進(jìn)氣管路和空氣進(jìn)氣管路；氫氣燃燒器安裝在生產(chǎn)裝置中的冷卻管或聚集器的彎管處，并且氫氣燃燒器燃燒時(shí)的火焰方向與物料流動方向一致；在氫氣燃燒器后部的側(cè)面設(shè)有氫氣進(jìn)口管，在氫氣燃燒器后端設(shè)有空氣進(jìn)口管；氫氣進(jìn)氣管路與氫氣進(jìn)口管相連，空氣進(jìn)氣管路與空氣進(jìn)口管相連。采用本發(fā)明的裝置，在冷卻管和聚集器的彎管處加氫進(jìn)行燃燒，通過控制氫、氧比例，使氫氣進(jìn)行欠氧燃燒，使沒有參加燃燒的氫與物料中二氧化硅表面的游離氯發(fā)生反應(yīng)生產(chǎn)氯化氫和水，可以去除二氧化硅表面的游離氯，大大提高二氧化硅產(chǎn)品的質(zhì)量。
文檔編號C01B33/113GK102120580SQ201110056719
公開日2011年7月13日 申請日期2011年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月10日
發(fā)明者史長濤, 夏柳春, 桑國仁, 麥暉 申請人:上海竟茨環(huán)?？萍加邢薰?br>