專利名稱：化合物、樹脂、光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及化合物、樹脂、光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法。
背景技術：
作為利用光刻工藝的半導體微制造，已經(jīng)深入研究了使用ArF準分子激光器(波長193nm)作為曝光系統(tǒng)的光刻工藝。用于這種光刻工藝的光致抗蝕劑組合物通常包含酸生成劑和樹脂，所述樹脂的關于堿性水溶液的溶解性由于酸的作用而不同。US2007/122750公開了一種光致抗蝕劑組合物，其包含具有由下式表示的結構單
元的樹脂
權利要求
1.一種由式(I)表示的化合物
2.根據(jù)權利要求I所述的化合物，其中T1表示單鍵。
3.根據(jù)權利要求I所述的化合物，其中m表示O。
4.根據(jù)權利要求I或2所述的化合物，其中L2是羰基。
5.根據(jù)權利要求I或2所述的化合物，其中L3是單鍵或亞甲基。
6.根據(jù)權利要求I或2所述的化合物，其中L3是亞甲基。
7.一種樹脂，所述樹脂包含衍生自根據(jù)權利要求I或2所述的化合物的結構單元。
8.根據(jù)權利要求7所述的樹脂，所述樹脂還包含衍生自具有酸不穩(wěn)定基團但是不由式(I)表示的單體的結構單元。
9.根據(jù)權利要求8所述的樹脂，其中所述具有酸不穩(wěn)定基團但是不由式(I)表示的單體由式(al-1)或式(al-2)表示
10.根據(jù)權利要求7所述的樹脂，所述樹脂還包含衍生自不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有羥基金剛烷基的單體的結構單元。
11.根據(jù)權利要求10所述的樹脂，其中所述不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有羥基金剛烷基的單體由式(a2_l)表示
12.根據(jù)權利要求7所述的樹脂，所述樹脂還包含衍生自不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有內(nèi)酯環(huán)的單體的結構單元。
13.根據(jù)權利要求12所述的樹脂，其中所述不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有內(nèi)酯環(huán)的單體是選自由下列各項單體組成的組中的至少一種單體由式(a3_l)表示的單體、由式(a3-2)表示的單體和由式(a3_3)表示的單體
14.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含根據(jù)權利要求7所述的樹脂、酸生成劑和溶劑。
15.根據(jù)權利要求14所述的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物還包含具有衍生自不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有氟原子的單體的結構單元的樹脂。
16.根據(jù)權利要求15所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述不具有酸不穩(wěn)定基團但是具有氟原子的單體由式(a4_l)表示
17.根據(jù)權利要求14、15或16所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述酸生成劑是由式(BI)表不的鹽
18.根據(jù)權利要求17所述的光致抗蝕劑組合物，其中Y表示可以具有取代基的C3-C18脂環(huán)族烴基。
19.一種用于制備光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(I)至(5) (1)將根據(jù)權利要求14、15或16所述的光致抗蝕劑組合物涂敷在基板上的步驟， (2)通過進行干燥而形成光致抗蝕劑膜的步驟， (3)將所述光致抗蝕劑膜曝光于輻射的步驟， (4)將曝光過的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，以及 (5)將烘焙過的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供化合物、樹脂、光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法。所述化合物是由式(I)表示的化合物，其中，T1表示單鍵或C6-C14芳族烴基；L1表示C1-C17二價飽和烴基，其中亞甲基可以被氧原子或羰基代替；L2和L3各自獨立地表示單鍵或C1-C6二價飽和烴基，其中亞甲基可以被氧原子或羰基代替；環(huán)W1和環(huán)W2各自獨立地表示C3-C36烴環(huán)；R1和R2各自獨立地表示氫原子、羥基或C1-C6烷基；R3和R4各自獨立地表示羥基或C1-C6烷基；R5表示羥基或甲基；m表示0或1；并且t和u各自獨立地表示0至2的整數(shù)。
文檔編號C08F220/18GK102786419SQ20121015208
公開日2012年11月21日 申請日期2012年5月16日 優(yōu)先權日2011年5月20日
發(fā)明者吉田勛, 市川幸司 申請人:住友化學株式會社