一種三元復(fù)合仿生光催化劑及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種大尺寸、大孔徑的三元復(fù)合仿生光催化劑,包括二元復(fù)合載體及沉積在該二元復(fù)合載體表面的光催化劑,所述光催化劑為鐵酞菁配合物,所述鐵酞菁配合物的含量為1.5~4wt.%;所述二元復(fù)合載體包括ZnO納米晶薄膜和負(fù)載上述ZnO納米晶薄膜的SiO2大孔材料,所述ZnO的含量為10~20wt.%。本發(fā)明還公開了該三元復(fù)合仿生光催化劑的制備方法。本發(fā)明的三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%~90%,比表面積為86~108m2/g,在可見(jiàn)光照射下1小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹B的降解率≥95%,其穩(wěn)定性高,可重復(fù)使用,并且大尺寸任意形狀以及較好的強(qiáng)度是該材料的優(yōu)勢(shì),可以適應(yīng)實(shí)際應(yīng)用的需要。
【專利說(shuō)明】一種三元復(fù)合仿生光催化劑及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于光催化材料【技術(shù)領(lǐng)域】,涉及一種復(fù)合仿生光催化劑,尤其是一種大尺寸、大孔徑的三元復(fù)合仿生光催化劑,本發(fā)明還涉及該光催化劑的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近20年來(lái),以半導(dǎo)體材料作為光催化劑降解各種水污染物得到越來(lái)越多的重視。光催化的基本原理是光催化材料在特定波長(zhǎng)的光照下,吸收輻射能產(chǎn)生電子躍遷,在表面形成空穴-電子對(duì),空穴從吸附在表面的水的氫氧根離子奪取電子,生成氧化能力很強(qiáng)的羥基自由基,將水中的有機(jī)物徹底氧化。在半導(dǎo)體材料中,ZnO是一種典型的η-型光催化齊U,它具有較高的傳輸電子能力,能高效阻止光生電子和空穴的復(fù)合而具有搞笑的光催化性能,然而ZnO的帶隙寬度為3.2eV,它只能在紫外光照射下才能有光催化活性,對(duì)可見(jiàn)光并無(wú)相應(yīng)。金屬酞菁具有良好的化學(xué)、光和熱穩(wěn)定性,是一種典型的P-型半導(dǎo)體材料,在可見(jiàn)光區(qū)有強(qiáng)的躍遷,對(duì)600?SOOnm的可見(jiàn)光具有強(qiáng)烈的吸收,其中酞菁鐵是一種仿生化合物,催化作用類似氧化酶,因此利用酞菁鐵作為仿生光催化劑吸收可見(jiàn)光處理染料廢水很有實(shí)際意義。本發(fā)明采用四羧基酞菁鐵(III) (Fe (III)-taPc)作為光催化劑,它可溶解在強(qiáng)極性的有機(jī)溶劑中,但不溶于水,將它與ZnO復(fù)合使用,利用ZnO的電子傳輸性將光生電子遷移,阻止其與空穴復(fù)合,從而提高光催化反應(yīng)的效率。同時(shí)為了將催化劑固定并在最大程度上保持分子擴(kuò)散性,我們使用大尺寸、大孔徑的二氧化硅作為載體,將催化劑復(fù)合在三維連續(xù)的二氧化硅孔壁上,最后制備出使用方便,性能穩(wěn)定,可見(jiàn)光響應(yīng)好,催化效率高的新型光催化劑。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是另提供一種大尺寸、大孔徑的三元復(fù)合仿生光催化齊U,具有能在可見(jiàn)光下降解有機(jī)物并且催化效率高等特點(diǎn)。
[0004]本發(fā)明所要解決的另一個(gè)技術(shù)問(wèn)題是提供一種大尺寸、大孔徑的三元復(fù)合仿生光催化劑的制備方法。
[0005]本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為:一種三元復(fù)合仿生光催化劑,其特征在于:
[0006]包括二元復(fù)合載體及沉積在該二元復(fù)合載體表面的光催化劑,所述光催化劑為鐵酞菁配合物,所述鐵酞菁配合物的含量為1.5?4wt.% ;
[0007]所述二元復(fù)合載體包括ZnO納米晶薄膜和負(fù)載上述ZnO納米晶薄膜的S12大孔材料,所述二元復(fù)合載體中,所述ZnO的含量為10?20wt.%。
[0008]所述二元復(fù)合載體由三維超薄結(jié)構(gòu)的二氧化硅大孔材料,以及沉積在該二氧化硅大孔材料三維貫通的孔道內(nèi)的ZnO納米晶薄膜構(gòu)成,所述鐵酞菁配合物沉積在二元復(fù)合載體表面,所述二氧化娃大孔材料的孔徑為0.5?1.5 μ m,厚度為20?50nm。
[0009]所述鐵酞菁配合物為四羧基酞菁鐵(III)。
[0010]所述三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%?90%,比表面積為86?108m2/g,在可見(jiàn)光照射I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹B的降解率彡95%。
[0011]一種三元復(fù)合仿生光催化劑的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
[0012]①三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2?1: 2.5的環(huán)氧樹脂和聚乙二醇混合并且加熱到60?80°C,攪拌5?15分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為1: 4?1: 4.5的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在70?80°C中I?1h后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡12?20小時(shí),留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥I?2天;
[0013]②二氧化硅大孔材料的制備,將步驟①的三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡4?5小時(shí),在氨水氣氛中于25?30°C下暴露10?12小時(shí)后形成S12/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥I?5小時(shí),在馬弗爐中以5?10°C /min的升溫速率升至800?900°C,保持10?60分鐘即得到三維超薄結(jié)構(gòu)的二氧化硅大孔材料;
[0014]③ZnO納米晶薄膜在二氧化硅大孔材料中的原位合成,將摩爾比為1:1?I: 1.2的Zn (NO3)2.6Η20與四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,所述前驅(qū)液中,Zn (NO3)2的濃度為0.2?1.0mol/L,將二氧化硅大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于70?80°C下烘2?3小時(shí),然后在馬弗爐中以10?15°C /min的速度升溫至600?650°C,再保溫煅燒I?2小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體;
[0015]④鐵酞菁配合物的沉積,將鐵酞菁配合物與N,N- 二甲基乙酰胺按3?6mg/ml的比例配成浸潰溶液,將步驟③中的二元復(fù)合載體在上述浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,經(jīng)干燥后得到三元復(fù)合仿生光催化劑。
[0016]所述鐵酞菁配合物為四羧基酞菁鐵(III)。
[0017]所述環(huán)氧樹脂的牌號(hào)為E-44。
[0018]所述乙二醇的分子量為1000或/和2000。
[0019]重復(fù)所述步驟③以調(diào)節(jié)ZnO的沉積量。
[0020]所述步驟④制備的三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%?90%,比表面積為86?108m2/g,在可見(jiàn)光照射下I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹B的降解率彡95%。
[0021]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0022]I)該復(fù)合仿生光催化劑穩(wěn)定性高,負(fù)載的ZnO納米晶薄膜分散均勻,不會(huì)與二氧化硅大孔材料脫離,其本身的結(jié)構(gòu)不會(huì)發(fā)生改變,催化劑可以多次重復(fù)使用;
[0023]2) 二氧化硅大孔材料具有連續(xù)貫通互穿的孔道,孔徑大(0.5?1.5 μ m)且分布均勻具有強(qiáng)的通透性,有利于物質(zhì)的流通擴(kuò)散;
[0024]3)使用四羥丙基乙二胺作為絡(luò)合劑負(fù)載方法簡(jiǎn)單,不需要特殊儀器設(shè)備;
[0025]4) η-型的ZnO半導(dǎo)體與ρ_型的Fe (III)-taPc復(fù)合能使光催化效率提高;
[0026]5)大尺寸任意形狀以及較好的強(qiáng)度是該材料的優(yōu)勢(shì),可以適應(yīng)實(shí)際應(yīng)用的需要。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0027]圖1為實(shí)施例1的SEM(掃描電子顯微鏡)圖片,其中a為二氧化硅大孔材料的SEM圖片;b為Fe (III)-taPc/Zn0/Si02三元復(fù)合仿生光催化劑的SEM圖片;
[0028]圖2為實(shí)施例3的ZnO(20wt% ) /S12樣品的XRD圖譜;
[0029]圖3為不同負(fù)載量的Fe (III)-taPc/Zn0/Si02三元復(fù)合仿生光催化劑的紫外-可見(jiàn)漫反射光譜;
[0030]圖4為不同負(fù)載量Fe (III)-taPc/Zn0/Si02三元復(fù)合仿生光催化劑對(duì)羅丹明B的降解曲線。
【具體實(shí)施方式】
[0031]以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0032]實(shí)施例1
[0033]步驟1:三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2.5的環(huán)氧樹脂(牌號(hào)E-44)和聚乙二醇1000混合并且加熱到60°C,攪拌5分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為I: 4的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在70°C中I小時(shí)后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡12小時(shí)后除去聚乙二醇相,留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥I天;
[0034]步驟2 =S12大孔材料的制備,即將步驟I中三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡5小時(shí),在氨水氣氛中在30°C中暴露10小時(shí)后形成S12/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥I小時(shí)以除去生成的乙醇和吸附的氨水,在馬弗爐中以5°C /min的升溫速率升至800°C,保持10分鐘即可得到三維超薄結(jié)構(gòu)的S12大孔材料,孔徑約為0.5?1.5微米,厚度約為20?50nm,其SEM圖片如圖1 (a)所示;
[0035]步驟3:ZnO納米晶薄膜在S12大孔材料中的原位合成,將Zn(NO3)2.6H20與等摩爾數(shù)的四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,前驅(qū)液中,Zn(NO3)2的摩爾濃度為
0.2mol/L。將S12大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于80°C下烘2小時(shí),除去大部分水,然后在馬弗爐中以10°C /min的速度升溫至600°C,再保溫煅燒I小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體;
[0036]步驟4:Fe (III) -taPc的沉積,將Fe (III) -taPc溶解于N,N- 二甲基乙酰胺中配成浸潰溶液(Fe(III)-taPc濃度為3mg/mL),將上述二元復(fù)合載體在浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,溶劑與水發(fā)生交換,F(xiàn)e (III)-taPc自動(dòng)沉積在載體表面,樣品經(jīng)過(guò)水洗、干燥后得到墨綠色的三元復(fù)合仿生光催化劑,其SEM圖片如圖1(b)所示。
[0037]重復(fù)步驟3—次,可使ZnO的含量為1wt.%,F(xiàn)e (III)-taPc含量為2.3wt.0A,三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為89%,比表面積為108m2/g,在可見(jiàn)光照射I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹明B的光催化降解率為> 95%。
[0038]實(shí)施例2
[0039]步驟1:三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2的環(huán)氧樹脂(牌號(hào)E-44)和聚乙二醇(PEG1000與PEG2000按7:1組合)混合并且加熱到65°C,攪拌10分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為1: 4的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在75°C中5小時(shí)后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡18小時(shí)后除去聚乙二醇相,留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥I天;
[0040]步驟2 =S12大孔材料的制備,即將步驟I中三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡5小時(shí),在氨水氣氛中在30°C中暴露10小時(shí)后形成S12/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥2小時(shí)以除去生成的乙醇和吸附的氨水,在馬弗爐中以8°C/min的升溫速率升至850°C,保持30分鐘即可得到三維超薄結(jié)構(gòu)的S12大孔材料,孔徑約為0.5?1.5微米,厚度約為20 ?50nm ;
[0041]步驟3 =ZnO納米晶薄膜在S12大孔材料中的原位合成,將Zn(NO3)2.6H20與等摩爾數(shù)的四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,前驅(qū)液中,Zn(NO3)2的摩爾濃度為
0.5mol/L。將S12大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于80°C下烘2小時(shí),除去大部分水,然后在馬弗爐中以10°C /min的速度升溫至600°C,再保溫煅燒I小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體;
[0042]步驟4:Fe (III) -taPc的沉積,將Fe (III) -taPc溶解于N,N- 二甲基乙酰胺中配成浸潰溶液(Fe (III)-taPc濃度為4mg/mL),將上述二元復(fù)合載體在浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,溶劑與水發(fā)生交換,F(xiàn)e (III)-taPc自動(dòng)沉積在載體表面,樣品經(jīng)過(guò)水洗、干燥后成為墨綠色,即得到三元復(fù)合仿生光催化劑。
[0043]重復(fù)步驟3 二次,使得ZnO的含量為16wt.%,F(xiàn)e (III)-taPc含量為2.9wt.三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為82%,比表面積為95m2/g,在可見(jiàn)光照射I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹明B的光催化降解率為> 95%。
[0044]實(shí)施例3
[0045]步驟1:三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2的環(huán)氧樹脂(牌號(hào)E-44)和聚乙二醇(PEG1000與PEG2000按7:1組合)混合并且加熱到60?80°C,攪拌15分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為1: 4的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在80°C中10小時(shí)后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡20小時(shí)后除去聚乙二醇相,留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥2天;
[0046]步驟2 =S12大孔材料的制備,即將步驟I中三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡5小時(shí),在氨水氣氛中在30°C中暴露10小時(shí)后形成S12/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥5小時(shí)以除去生成的乙醇和吸附的氨水,在馬弗爐中以10°C /min的升溫速率升至900°C,保持60分鐘即可得到三維超薄結(jié)構(gòu)的S12大孔材料,孔徑約為0.5?1.5微米,厚度約為20 ?50nm ;
[0047]步驟3 =ZnO納米晶薄膜在S12大孔材料中的原位合成,將Zn (NO3) 2.6H20與等摩爾數(shù)的四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,前驅(qū)液中,Zn(NO3)2的摩爾濃度為
1.0mol/L,將S12大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于80°C下烘2小時(shí),除去大部分水,然后在馬弗爐中以10°C /min的速度升溫至600°C,再保溫煅燒I小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體;
[0048]步驟4:Fe (III) -taPc的沉積,將Fe (III) -taPc溶解于N,N- 二甲基乙酰胺中配成浸潰溶液(Fe(III)-taPc濃度為5mg/mL),將上述二元復(fù)合載體在浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,溶劑與水發(fā)生交換,F(xiàn)e (III)-taPc自動(dòng)沉積在載體表面,樣品經(jīng)過(guò)水洗、干燥后成為墨綠色,即得到三元復(fù)合仿生光催化劑。
[0049]重復(fù)步驟3三次,使得ZnO的含量為20wt.%,F(xiàn)e (III)-taPc含量為3.2wt.% ,三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為82%,比表面積為89m2/g,在可見(jiàn)光照射I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹明B的光催化降解率為彡99%,圖2為實(shí)施例3的Zn0(20wt% )/Si02樣品的XRD圖譜,由于不同實(shí)施例的樣品其XRD譜圖相似,只是強(qiáng)度不同而已,所以只用一個(gè)譜圖來(lái)加以支持。
[0050]實(shí)施例4
[0051]步驟1:三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2.5的環(huán)氧樹脂(牌號(hào)E-44)和聚乙二醇(PEG1000與PEG2000按7:1組合)混合并且加熱到80°C,攪拌15分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為1: 4的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在80°C中10小時(shí)后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡20小時(shí)后除去聚乙二醇相,留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥2天;
[0052]步驟2 =S12大孔材料的制備,即將步驟I中三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡5小時(shí),在氨水氣氛中在30°C中暴露10小時(shí)后形成S12/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥5小時(shí)以除去生成的乙醇和吸附的氨水,在馬弗爐中以10°C/min的升溫速率升至900°C,保持160分鐘即可得到三維超薄結(jié)構(gòu)的S12大孔材料,孔徑約為0.5?1.5微米,厚度約為20 ?50nm ;
[0053]步驟3:ZnO納米晶薄膜在S12大孔材料中的原位合成,將Zn(NO3)2.6H20與等摩爾數(shù)的四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,在前驅(qū)液中,Zn(NO3)2的摩爾濃度為1.0mol/L。將S12大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于80°C下烘2小時(shí),除去大部分水,然后在馬弗爐中以10°C /min的速度升溫至600°C,再保溫煅燒I小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體;
[0054]步驟4:Fe (III) -taPc的沉積,將Fe (III) -taPc溶解于N,N- 二甲基乙酰胺中配成浸潰溶液(Fe (III)-taPc濃度為6mg/mL),將上述二元復(fù)合載體在浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,溶劑與水發(fā)生交換,F(xiàn)e (III)-taPc自動(dòng)沉積在載體表面,樣品經(jīng)過(guò)水洗、干燥后成為墨綠色,即得到三元復(fù)合仿生光催化劑。
[0055]重復(fù)步驟3三次,使得ZnO的含量為19wt.%,F(xiàn)e (III)-taPc含量為3.6wt.% ,三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%,比表面積為86m2/g,I小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹明B的光催化降解率為彡99%。
[0056]將四個(gè)實(shí)施例中制得的不同負(fù)載量的Fe (III)-taPc/Zn0/Si02三元復(fù)合仿生光催化劑進(jìn)行XRD、UV-Vis漫反射以及RhB的光催化降解測(cè)試,得到圖2至圖4。
[0057]實(shí)施例中的測(cè)試方法具體如下:
[0058]采用掃描電子顯微鏡(JSM-5600LV型)觀察樣品的形貌,即樣品噴鉬后在5kV的加速電壓下進(jìn)行表面形貌表征;采用X射線衍射儀(Rigaku D/max-1200)分析樣品晶體結(jié)構(gòu)和成分,工作電壓30mV,工作電流30mV,Cu K α輻射(λ = 0.154nm),掃描范圍2 Θ =10°?70° ;用比表面積及孔徑分布測(cè)試儀(JW-K型)測(cè)試比表面積,用BET公式計(jì)算其比表面積;復(fù)合物樣品中ZnO以及Fe (III)-taPc的含量用重量法測(cè)定;
[0059]光催化性能測(cè)試方法:
[0060]以有機(jī)染料羅丹明B為目標(biāo)降解物,氧氣為氧化劑,進(jìn)行光催化反應(yīng),考察了不同負(fù)載量Fe (III)-taPc/Si02的光催化活性及循環(huán)使用性。以150W的鹵燈(λ ^ 400nm)為可見(jiàn)光光源,光源距離反應(yīng)器10cm。分別稱取50mg不同負(fù)載量的Fe (III) -taPc/Si02催化齊U,制成顆粒狀樣品(尺寸約為1mm),分散于50mll0ymol/L的羅丹明B水溶液,置于自制的密閉光反應(yīng)器中,通入氧氣。在磁力攪拌下,將反應(yīng)體系置于暗處lh,確保吸附平衡后開啟光源進(jìn)行光催化反應(yīng)。反應(yīng)過(guò)程中每隔1min取樣,離心取其上清液,以紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)測(cè)定羅丹明B在552nm處的吸光度,并計(jì)算其濃度。根據(jù)公式CtZCci計(jì)算光催化降解率,式中Ctl和Ct分別為原溶液和每隔1min所取樣品溶液中羅丹明B的濃度。
[0061]本發(fā)明利用一種大尺寸、高強(qiáng)度、高孔隙率、高貫通性的二氧化硅大孔材料作為載體,在其三位貫通的孔道內(nèi)負(fù)載有ZnO納米晶薄膜,然后用浸潰法將Fe (III)-taPc吸附到ZnO納米晶表面,構(gòu)成η-型半導(dǎo)體與P-型半導(dǎo)體協(xié)同的光催化體系。該三元復(fù)合仿生光催化劑采用四羧基酞菁鐵(III) (Fe (III)-taPc)作為光催化劑,并與ZnO復(fù)合使用,利用ZnO的電子傳輸性將光生電子遷移,阻止其與空穴復(fù)合,從而提高光催化反應(yīng)的效率;同時(shí)為了將催化劑固定并在最大程度上保持分子擴(kuò)散性,使用大尺寸、大孔徑的二氧化硅作為載體,將催化劑復(fù)合在三維連續(xù)的二氧化硅孔壁上,最后制備出的光催化劑使用方便,性能穩(wěn)定,可見(jiàn)光響應(yīng)好,催化效率高。
【權(quán)利要求】
1.一種三元復(fù)合仿生光催化劑,其特征在于: 包括二元復(fù)合載體及沉積在該二元復(fù)合載體表面的光催化劑,所述光催化劑為鐵酞菁配合物,所述鐵酞菁配合物的含量為1.5?4wt.% ; 所述二元復(fù)合載體包括ZnO納米晶薄膜和負(fù)載上述ZnO納米晶薄膜的Si02大孔材料,所述二元復(fù)合載體中,所述ZnO的含量為10?20wt.%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三元復(fù)合仿生光催化劑,其特征在于:所述二元復(fù)合載體由三維超薄結(jié)構(gòu)的二氧化硅大孔材料,以及沉積在該二氧化硅大孔材料三維貫通的孔道內(nèi)的ZnO納米晶薄膜構(gòu)成,所述鐵酞菁配合物沉積在二元復(fù)合載體表面,所述二氧化娃大孔材料的孔徑為0.5?1.5 μ m,厚度為20?50nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的三元復(fù)合仿生光催化劑,其特征在于:所述鐵酞菁配合物為四羧基酞菁鐵(III)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的三元復(fù)合仿生光催化劑,其特征在于:所述三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%?90%,比表面積為86?108m2/g,在可見(jiàn)光照射1小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹B的降解率彡95%。
5.一種權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的三元復(fù)合仿生光催化劑的制備方法,其特征在于包括如下步驟: ①三維骨架聚合物的制備,將質(zhì)量比為1: 2?1: 2.5的環(huán)氧樹脂和聚乙二醇混合并且加熱到60?80°C,攪拌5?15分鐘成透明溶液后,加入與環(huán)氧樹脂質(zhì)量比為1: 4?1: 4.5的三乙烯四胺液體,攪拌均勻后倒入模具中定型,保持定型溫度在70?80°C中1?10h后形成白色的固狀聚合物共混物,用純水浸泡12?20小時(shí),留下三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂,在室溫下真空干燥1?2天; ②二氧化硅大孔材料的制備,將步驟①的三維骨架結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹脂在正硅酸四乙酯中浸泡4?5小時(shí),在氨水氣氛中于25?30°C下暴露10?12小時(shí)后形成Si02/環(huán)氧樹脂復(fù)合物,干燥1?5小時(shí),在馬弗爐中以5?10°C /min的升溫速率升至800?900°C,保持10?60分鐘即得到三維超薄結(jié)構(gòu)的二氧化硅大孔材料; ③ZnO納米晶薄膜在二氧化硅大孔材料中的原位合成,將摩爾比為1: 1?1: 1.2的Ζη(Ν03)2.6H20與四羥丙基乙二胺配成水溶液,得到所需的前驅(qū)液,所述前驅(qū)液中,Ζη(Ν03)2的濃度為0.2?1.0mol/L,將二氧化硅大孔材料置于前驅(qū)液中充分浸泡,取出后于70?80°C下烘2?3小時(shí),然后在馬弗爐中以10?15°C /min的速度升溫至600?650°C,再保溫煅燒1?2小時(shí)后冷卻至室溫,得到二元復(fù)合載體; ④鐵酞菁配合物的沉積,將鐵酞菁配合物與N,N-二甲基乙酰胺按3?6mg/ml的比例配成浸潰溶液,將步驟③中的二元復(fù)合載體在上述浸潰溶液中浸泡充分后取出,直接放入清水中,經(jīng)干燥后得到三元復(fù)合仿生光催化劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于:所述鐵酞菁配合物為四羧基酞菁鐵(III)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于:所述環(huán)氧樹脂的牌號(hào)為E-44。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于:所述乙二醇的分子量為1000或/和2000。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于:重復(fù)所述步驟③以調(diào)節(jié)ZnO的沉積 量。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于:所述步驟④制備的三元復(fù)合仿生光催化劑的孔隙率為80%?90%,比表面積為86?108m2/g,在可見(jiàn)光照射下1小時(shí)內(nèi)對(duì)羅丹B的降解率彡95%。
【文檔編號(hào)】B01J35/10GK104437650SQ201310441844
【公開日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月25日
【發(fā)明者】張瑞豐, 李雪飛, 梁云霄, 江峰, 龍能兵, 肖通虎 申請(qǐng)人:寧波大學(xué)