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      一種防止光引發(fā)劑晶體出料堵塞的提純結(jié)晶器的制作方法

      文檔序號(hào):11695483閱讀:554來源:國(guó)知局
      一種防止光引發(fā)劑晶體出料堵塞的提純結(jié)晶器的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及化學(xué)反應(yīng)器領(lǐng)域,尤其是涉及一種防止光引發(fā)劑晶體出料堵塞的提純結(jié)晶器。



      背景技術(shù):

      光固化涂料由于其使用方便,性能優(yōu)異,已經(jīng)逐漸成為一類廣泛使用的新型涂料。光固化涂料的固化過程為聚合交聯(lián)過程,光源照射光固化涂料后,將激發(fā)、分解涂料體系中的光引發(fā)劑而生成游離基,活性游離基撞擊光固化涂料中的雙鍵并與之反應(yīng)形成增長(zhǎng)鏈。

      光固化涂料中的光引發(fā)劑用于吸收輻射能,經(jīng)過化學(xué)變化產(chǎn)生具有引發(fā)劑聚合能力的活性中間體的物質(zhì),也是任何固化體系都需要的主要成分。

      為提高光引發(fā)劑的純度,在光引發(fā)劑的制造工藝中,需要經(jīng)過結(jié)晶的步驟。光引發(fā)劑的結(jié)晶是在專用的結(jié)晶器中進(jìn)行的,例如公開號(hào)為CN204767565U的專利申請(qǐng)描述的結(jié)晶器,包括閃蒸筒體,閃蒸筒體的頂部設(shè)置有封頭,閃蒸筒體的下部設(shè)置有錐體,閃蒸筒體的側(cè)壁設(shè)置有進(jìn)料管,封頭上設(shè)置有開口向上的氣體出料管,所述的錐體的下方連接有存鹽段,所述的存鹽段的外表面設(shè)置有冷卻盤管;該結(jié)晶器可以用于光引發(fā)劑的提純結(jié)晶。

      在現(xiàn)有的結(jié)晶器內(nèi),結(jié)晶的光引發(fā)劑容易附著在結(jié)晶器底部的晶體儲(chǔ)存段的內(nèi)壁上,導(dǎo)致結(jié)晶效率下降,甚至?xí)氯麄€(gè)晶體出料口,需要進(jìn)行停產(chǎn)檢修,影響企業(yè)生產(chǎn)效率;另外,若結(jié)晶不完全,部分液體也會(huì)進(jìn)入晶體儲(chǔ)存段內(nèi),會(huì)導(dǎo)致晶體再次溶解。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本實(shí)用新型提供一種防止光引發(fā)劑晶體出料堵塞的提純結(jié)晶器,在晶體儲(chǔ)腔內(nèi)設(shè)置可上下運(yùn)動(dòng)的刮板,用于刮除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶;并在出料口設(shè)置攪拌葉,避免出料口堵塞。

      本實(shí)用新型所采用的具體技術(shù)方案如下:

      一種防止光引發(fā)劑晶體出料堵塞的提純結(jié)晶器,包括結(jié)晶器主體,結(jié)晶器主體的下方設(shè)置有晶體儲(chǔ)腔;

      所述晶體儲(chǔ)腔的下部設(shè)有側(cè)向傾斜的出料口;

      設(shè)有從底部伸入晶體儲(chǔ)腔內(nèi)的傳動(dòng)螺桿,該傳動(dòng)螺桿在靠近所述出料口的位置設(shè)置有攪拌葉;

      設(shè)置與所述傳動(dòng)螺桿螺紋配合且邊沿貼靠晶體儲(chǔ)腔內(nèi)壁的刮板,并設(shè)有抑制刮板轉(zhuǎn)動(dòng)的周向限位部件。

      作為優(yōu)選的,所述傳動(dòng)螺桿的底部連接安裝在結(jié)晶器主體底部的支架上的驅(qū)動(dòng)電機(jī)。

      本實(shí)用新型中,采用側(cè)向傾斜的出料口,便于正下方傳動(dòng)螺桿的安裝,并可防止晶體在晶體儲(chǔ)腔底部沉積,提升出料效率;傳動(dòng)螺桿和刮板組成絲桿機(jī)構(gòu),刮板通過周向限位部件來抑制旋轉(zhuǎn),由傳動(dòng)螺桿帶動(dòng)刮板在晶體儲(chǔ)腔內(nèi)上下移動(dòng),以刮除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶;同時(shí),傳動(dòng)螺桿帶動(dòng)靠近出料口位置的攪拌葉旋轉(zhuǎn),避免物料堵塞出料口。

      刮板隨傳動(dòng)螺桿正、反向轉(zhuǎn)動(dòng)而上下運(yùn)動(dòng),為避免刮板與冷卻盤管的彎曲段接觸,作為優(yōu)選的,所述傳動(dòng)螺桿的上端和下端均開設(shè)有裝配孔,孔內(nèi)緊配合有限位銷,限制刮板的上下移動(dòng)幅度,避免冷卻盤管和刮板損壞。

      作為優(yōu)選的,設(shè)有固定在晶體儲(chǔ)腔內(nèi)壁的冷卻盤管,所述冷卻盤管具有沿腔體軸向延伸的豎直段以及連接在相鄰兩豎直段間的彎曲段;所述的周向限位部件為刮板的邊沿設(shè)置的配合所述豎直段的限位槽。

      本實(shí)用新型中,并在腔內(nèi)壁設(shè)置冷卻盤管,避免結(jié)晶的晶體再次溶解;并利用限位槽和冷卻盤管的豎直段對(duì)刮板進(jìn)行周向限位。

      作為優(yōu)選的,所述刮板的中部設(shè)有配合傳動(dòng)螺桿的螺紋孔。

      作為優(yōu)選的,所述刮板包括中心盤和外環(huán),中心盤和外環(huán)間為下料間隙,且中心盤和外環(huán)之間通過支撐桿連接。外環(huán)邊沿貼靠晶體儲(chǔ)腔內(nèi)壁并用于清除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶。中心盤和外環(huán)間為下料間隙,提純的晶體通過下料間隙落入晶體儲(chǔ)腔或從底部的出料口排出。

      作為優(yōu)選的,所述中心盤的頂面為第一錐面,支撐桿的頂面為棱面,外環(huán)的頂面為第二錐面;即刮板的頂面為斜面,避免晶體沉積在刮板表面。

      本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用方便,通過在晶體儲(chǔ)腔內(nèi)設(shè)置可上下運(yùn)動(dòng)的刮板,刮除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶,提升結(jié)晶效率,并在出料口設(shè)置攪拌葉,避免出料口堵塞。

      附圖說明

      圖1為本實(shí)用新型中提純結(jié)晶器的示意圖;

      圖2為刮板的示意圖;

      圖3為刮板的剖視圖。

      具體實(shí)施方式

      如圖1和圖2所示的提純結(jié)晶器,包括結(jié)晶器主體1,側(cè)面有進(jìn)料口3,頂部設(shè)置有氣體出料口5,結(jié)晶器主體1的下方為晶體儲(chǔ)腔4,用于儲(chǔ)存提純結(jié)晶的光引發(fā)劑。

      本實(shí)施例中,設(shè)有固定在晶體儲(chǔ)腔4內(nèi)壁的冷卻盤管7,該冷卻盤管7具有沿腔體軸向延伸的豎直段以及連接在相鄰兩豎直段間的彎曲段,并與晶體儲(chǔ)腔4外壁的進(jìn)水口8和出水口9連通;并設(shè)有從結(jié)晶器主體1底部伸入晶體儲(chǔ)腔4內(nèi)的傳動(dòng)螺桿5,以及與傳動(dòng)螺桿螺紋5配合且邊沿貼靠晶體儲(chǔ)腔4內(nèi)壁的刮板6,刮板6的中部設(shè)有配合傳動(dòng)螺桿5的螺紋孔16,且刮板6的邊沿設(shè)置有配合豎直段的限位槽19。另外,傳動(dòng)螺桿5的底部連接安裝在結(jié)晶器主體1底部的支架13上的驅(qū)動(dòng)電機(jī)11。

      晶體儲(chǔ)腔4的底部設(shè)有側(cè)向傾斜的出料口12,便于正下方傳動(dòng)螺桿5的安裝,并可防止晶體在晶體儲(chǔ)腔底部沉積,提升出料效率;傳動(dòng)螺桿5在靠近出料口12的位置設(shè)置有攪拌葉20,傳動(dòng)螺桿5帶動(dòng)攪拌葉20旋轉(zhuǎn),避免出料口12堵塞。

      傳動(dòng)螺桿5和刮板6組成絲桿機(jī)構(gòu),利用限位槽19和冷卻盤管7的豎直段對(duì)刮板6進(jìn)行周向限位,抑制刮板6旋轉(zhuǎn),由傳動(dòng)螺桿5帶動(dòng)刮板6在晶體儲(chǔ)腔4內(nèi)上下移動(dòng),以刮除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶。

      傳動(dòng)螺桿5的上端和下端均開設(shè)有裝配孔,孔內(nèi)緊配合有限位銷10,限制刮板的上下移動(dòng)幅度,避免冷卻盤管和刮板損壞。

      本實(shí)施例中,刮板6包括中心盤14和外環(huán)15,中心盤14和外環(huán)15間為下料間隙17,且中心盤14和外環(huán)15之間通過支撐桿18連接。外環(huán)15邊沿貼靠晶體儲(chǔ)腔4內(nèi)壁并用于清除附著在內(nèi)壁上的結(jié)晶,提純的晶體通過下料間隙17落入晶體儲(chǔ)腔4或從底部的出料口12排出。另外,如圖3所示,中心盤14的頂面為第一錐面22,支撐桿18的頂面為棱面(即頂面設(shè)有凸起的棱角),外環(huán)15的頂面為第二錐面21;即刮板的頂面均為斜面,避免晶體沉積在刮板表面。

      以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施舉例,并不用于限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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