專利名稱：透明導(dǎo)電膜及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及作為設(shè)置在CRT和等離子體顯示面板等的顯示面前表面 的濾波器、計測設(shè)備的顯示部等中采用的透光電磁波屏蔽材料的透明導(dǎo) 電膜及其制造方法，更詳細(xì)地說，涉及具有屏蔽電磁波的功能、并且能 夠透視電子測距儀和計測設(shè)備等的內(nèi)部、CRT和等離子體顯示面板等的 顯示面的透明導(dǎo)電膜及其制造方法。
背景技術(shù)：
迄今作為能夠維持充分的透光性，同時能夠屏蔽電磁波的導(dǎo)電膜的制 造方法，己知有在透明的玻璃或塑料基板的表面上，通過蒸鍍或濺射法 等例如形成銦一錫氧化物膜(ITO膜)等的透明導(dǎo)電膜、在透明的玻璃和 塑料基板的表面上，通過金屬鍍和蒸鍍等，在整個表面上形成金屬薄膜， 通過光刻法等對其進(jìn)行加工，設(shè)置由微細(xì)的金屬薄膜構(gòu)成的網(wǎng)格等。
但是，在透明基板上形成了 ITO膜的透明導(dǎo)電膜雖然透光性優(yōu)異， 但是與具有網(wǎng)狀金屬薄膜的透明導(dǎo)電膜相比較，導(dǎo)電性差，不能得到充 分的電磁波屏蔽性。另一方面，在透明基板上形成金屬薄膜，將其加工 成網(wǎng)狀的方法雖然導(dǎo)電性好，但是因為除去了大部分的金屬薄膜，所以 存在著浪費多生產(chǎn)成本高這樣的缺點。
為了改善這些問題，例如在特開昭62 — 57297號公報和特開平2 — 52499號公報中提出了，在透明膜或玻璃等基板上，將導(dǎo)電墨水或含有無 電解鍍敷催化劑的墨水印刷成由細(xì)線構(gòu)成的圖案形狀，之后向墨水層上 鍍敷金屬的方法。但是，該方法因為由線寬30pm以下的細(xì)線難以形成圖 案而使線寬變寬，所以透光性差，存在著在用作顯示器用電磁波屏蔽材 料的情形下圖像的視認(rèn)性變差這樣的問題點。
另外，在用作PDP用電磁波屏蔽材料時，用粘結(jié)劑與紅外吸收膜等層疊，此時因為在上述方法形成的透明導(dǎo)電膜中印刷后的墨水厚，印刷 面表面的凹凸大，所以在一個膜的表面上涂布粘結(jié)劑，與另一個膜貼合 時容易混入氣泡，存在著該氣泡成為阻礙使圖像的識別性變差的問題。
另一方面，在特開2000—137442號公報中提出了，用粘結(jié)劑層疊透 明基材和金屬箔之后通過光刻法使金屬箔成網(wǎng)狀的方法。但是該方法雖 然線寬可以為20|im以下而使透光性好，但是粘結(jié)劑容易引起彎曲。另外， 與前面的方法相同，因為金屬箔的厚度為10j^m以上，所以表面的凹凸變 大，存在著與其它元件貼合時混入氣泡等問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種維持透明膜的透光性同時具有優(yōu)異的導(dǎo)電 性、可以用于電磁波屏蔽的透明導(dǎo)電膜。更詳細(xì)地說，提供一種與其它 基材貼合不混入氣泡的透明導(dǎo)電膜及其制造方法。
本發(fā)明者們?yōu)榱私鉀Q上述問題進(jìn)行了熱切的研究，直至發(fā)明了如下結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜。即，本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜的制造方法包括在透明膜 的兩個面或一個面上形成平均高度為O.lpm以下的多個凹凸的工序；在 透明膜的有凹凸的面上形成與導(dǎo)電膜的導(dǎo)電部分相反的圖案的抗蝕層的 工序；在形成了抗蝕層的面上施加鍍敷用催化劑的工序；剝離抗蝕層的 工序；通過鍍敷處理形成金屬層的工序；黑化金屬層的工序，并且，金 屬層的寬度W和金屬層的高度T之比W/T為1SW/T^500。
另外，在上述發(fā)明中，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是通過在透明膜中含有填料形成透 明膜兩個面或者一個面上的凹凸。在這里，優(yōu)選填料和透明膜的光折射 率的差在0.15以下。另外，透明膜優(yōu)選是聚對苯二甲酸乙二醇酯，并且
填料優(yōu)選是二氧化硅或者氧化鋁。
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種維持透明膜的透光性同時具有優(yōu)異的優(yōu) 異的導(dǎo)電性、可以用于電磁波屏蔽等的導(dǎo)電膜。而且能夠提供一種在與 其它基材疊合時金屬層不會剝落和不會混入氣泡、通過少的工序使有效 利用率好并且能夠便宜地制造的透明導(dǎo)電膜及其制造方法。


圖1是示出本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的一個實施例的剖面圖。 圖2是示出本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的一個實施例的平面圖。 圖3是示出本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的制造工序(抗蝕層的形成)的剖面圖。 圖4是示出本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的制造工序(鍍敷用催化劑的施加)的 剖面圖。
圖5是示出本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的制造工序(抗蝕層的剝離)的剖面圖。 圖中，l表示透明膜，2表示金屬層，3表示抗蝕層，4表示鍍敷用 催化劑，W表示金屬層2的寬度，并且T表示金屬層2的高度。
具體實施例方式
下面參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實施方式。
圖1是本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的剖面圖，圖2是本發(fā)明透明導(dǎo)電膜的平面 圖。另外，圖3~5是示出該透明導(dǎo)電膜的制造工序的剖面圖。其中1是 透明膜，2是金屬層，3是抗蝕層。
本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜是在具有平均高度O.lpm以下的多個凹凸的透 明膜1上按照圖案形狀形成金屬層(參照圖1和圖2)。本發(fā)明的透明導(dǎo) 電膜的制造方法由如下所述的工序構(gòu)成。首先，是在透明膜1的表面上 形成平均高度O.lpm以下的多個凹凸的工序、接下來是在該透明膜1上 形成與想要形成的金屬層2的圖案相反的圖案的抗蝕層3的工序(圖3)、 接下來是在形成了該抗蝕層3的面上施加鍍敷用催化劑4的工序(圖4)、 剝離抗蝕層的工序(圖5)、通過鍍敷形成金屬層2的工序，然后是黑化 金屬層2的工序。
作為在本發(fā)明中使用的透明膜l，有聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯 二甲酸丁二醇酯、聚乙烯納夫妥鹽、聚對苯二甲酸乙二醇酯異丁酸鹽共 聚物、對苯二酸一環(huán)己烷二甲基二烯乙二醇共聚物等聚酯系樹脂、尼龍6 等聚酰胺系樹脂、聚丙烯、聚甲基苯等聚烯烴系樹脂、聚丙烯酸酯、聚 甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂、ABS樹脂等苯乙烯 系樹脂、三乙酰纖維素等纖維素系樹脂、酰亞胺系樹脂、聚碳酸酯等。 雖然作為由這些樹脂的至少一層構(gòu)成的膜、片、板狀使用，但是在本說 明書中將這些形狀統(tǒng)稱為膜。通常，因為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙 烯納夫妥鹽等聚酯系的膜透明性、耐熱性好，成本也便宜，所以適宜使 用，并且聚對苯二甲酸乙二醇酯最適合。
透明膜1也可以是以這些樹脂為主要成分的共聚物樹脂、或者混合 物(含有合金)、或者由多層構(gòu)成的疊層體。雖然該透明膜l既可以是拉 伸膜也可以是未拉伸膜，但是為了提高強度的目的，優(yōu)選在單軸方向或
雙軸方向上拉伸的膜。該透明膜1的厚度通常可以應(yīng)用12 100(nim，合 適的是50 700jimi，最合適的是100~500pm。透明膜1的厚度不到12|im 時，有機械強度不夠而發(fā)生彎曲或松弛的擔(dān)心，超過100(^im時，透光性 變差，有足夠的性能但是在成本上浪費。
為了提高通過鍍敷形成的金屬層2和透明膜1之間的粘附性，防止剝 離，在透明膜1的表面上設(shè)置平均高度O.lpm以下的多個凹凸。為了形 成這樣的凹凸，例如可以舉出象通過堿或鉻酸迸行蝕刻處理、或者噴砂 處理那樣的，通過削減透明膜1的表面形成凹凸的方法，還可以舉出在 膜樹脂中含有填料的方法，其中在膜樹脂中含有填料的方法還因為工序 附加也少所以優(yōu)選。
作為將含有填料的樹脂形成為膜狀的方法，可以舉出雙軸拉伸法等， 作為別的方法還可以舉出涂層法等。優(yōu)選的是在不含填料的膜上鑄造含 有填料的樹脂然后拉伸的方法。作為該填料優(yōu)選平均粒徑為0.5Hm以下， 更優(yōu)選為0.2pm以下。填料粒徑不到0.2pm時，有凹凸的形成變得不充 分而有可能使金屬層2的粘結(jié)性變差，填料粒徑超過0.5pm的情形下， 透光性變差，作為顯示器用電磁波屏蔽材料的識別性降低。
另外，作為填料的材料，雖然可以是如聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸 酯、聚苯乙烯、聚乙烯那樣的有機物，如云母、滑石、礬石、碳酸鈣、 玻璃、二氧化硅、高嶺土、礬土硅酸鹽那樣的無機物，但是構(gòu)成透明薄 片1的樹脂和填料的光折射率的差優(yōu)選為0.15以下。該光折射率的差超 過0.15時，有透光性變差的擔(dān)心。為了使光折射率的差為0.15以下，作 為透明膜1和填料的組合，優(yōu)選在透明膜中使用聚對苯二甲酸乙二醇酯， 在填料中使用二氧化硅或者礬石。
作為本發(fā)明的抗蝕層的形成方法，可以舉出印刷法和光刻法等，其 中作為印刷法可以舉出平面平版印刷、凹版平版印刷、凹版印刷、絲網(wǎng) 印刷、苯胺印刷等。
作為光刻的方法，或者通過涂覆或浸漬的方法在透明膜1的表面上
涂布抗蝕劑，或者通過層疊干膜，在透明薄片表面的前面上均勻地形成 感光性抗蝕劑。然后用規(guī)定圖案的光掩模進(jìn)行曝光、顯影。根據(jù)需要還 可以在其后進(jìn)行硬化處理等。據(jù)此在透明膜上形成與金屬層的圖案相反 的抗蝕劑圖案(圖3)。雖然在本發(fā)明采用的感光性抗蝕劑中可以使用公 知公用的感光性組成物，而沒有特別的限定，但是優(yōu)選選擇具有充分的 清晰度、容易進(jìn)行剝離操作的感光性抗蝕劑。
作為本發(fā)明的鍍敷處理，雖然可以舉出無電解鍍敷或者電鍍，但是也 可以對它們進(jìn)行組合。另外，還可以通過氧化或者硫化對通過這些方法
形成的金屬層2進(jìn)行黑色化。
下面以無電解鍍敷法為例具體地說明本發(fā)明中用來形成金屬層2的鍍 敷工序。首先，在形成了抗蝕層3的透明膜1的表面上施加轉(zhuǎn)變成鍍敷 用催化劑4的有機物或者無機物(圖4)。作為該鍍敷用催化劑4，可以 舉出鐵、銅、鎳、鈷、鈀等的氯化物、硫酸鹽、硝酸鹽、有機鹽、氨鹽 等。施加的方法沒有特別的限定，可以采用涂覆或浸漬等方法。
雖然下面的工序是剝離抗蝕層3的工序，但是剝離的方法沒有特別的 限定，可以通過適用于所使用的抗蝕劑的方法剝離或者除去。如圖5所 示，通過剝離抗蝕層3，可以得到按照所希望的圖案形狀施加了鍍敷用催 化劑的透明膜。然后可以通過實施無電解鍍敷，形成金屬層2，并構(gòu)成電 磁波屏蔽圖案。
無電解鍍敷可以舉出通常進(jìn)行的使用銅或鎳或者它們的合金的方法。 而且通過或者對它們進(jìn)行熱處理而提高與膜的粘結(jié)強度、或者通過氧化 或者硫化而黑化，還可以使粘結(jié)性或顏色發(fā)生改變。
在本發(fā)明中，在通過該無電解鍍敷形成的金屬層2之上，還可以根據(jù) 需要，通過鍍敷等方法再次形成金屬層。在鍍敷中可以使用通常采用的 銅或鎳或者它們的合金。另外，還可以通過或者實施無電解鍍敷而提高 導(dǎo)電性、或者通過使金屬層2氧化或者硫化而黑色化等，使導(dǎo)電性或顏 色發(fā)生改變。
本發(fā)明的金屬層2的圖案可以采用條或網(wǎng)狀的形狀，可以組合多個例 如三角形、四角形、六角形、八角形等多角形或圓形等而成網(wǎng)狀。該金 屬層2的寬度W優(yōu)選為5 50nm，線與線的間距優(yōu)選為100 700pm。另 外，為了消除干涉條紋還可以附加斜線。金屬層2的寬度W不到5pm時，有導(dǎo)電性不夠而不能充分屏蔽電磁波的擔(dān)心，另外，寬度W超過50pm 時有透光性降低的擔(dān)心。另外，在線與線的間距不到100pm的情形下， 有透光性降低的擔(dān)心，間距超過70(Him的情形下有可能導(dǎo)電性變差。
金屬層2的厚度T優(yōu)選為0.1 15pm，并且滿足(金屬層 2的寬度為W、金屬層2的高度為T)時，與其它基材貼合時能夠防止混 入氣泡。W/T不到1時，在與其它基材貼合時，有因為混入了氣泡所以 透光性變差的擔(dān)心，W/T超過500時，或者擔(dān)心由于金屬層本身而使透 光性變差、或者擔(dān)心變得容易發(fā)生金屬層的剝落。
在本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜上還可以層疊膜等，在用作顯示器用電磁波屏 蔽材料的情形下，還可以設(shè)置近紅外吸收層、反射防止層、硬涂層、防 污層、防眩層等。
實施例
下面根據(jù)實施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不受這些實施例的 限制。而且，通過下面的方法對通過下面的各個實施例、比較例得到透 明導(dǎo)電膜進(jìn)行評價。
(1) 膜的凹凸、金屬層的高度T
切去膜的一部分，用切片機在剖面方向上切下薄片，用激光顯微鏡(奧 林巴斯株式會社制LEXTOLS3000)觀察、測定。
(2) 金屬層的寬度W
用激光顯微鏡(奧林巴斯株式會社制LEXTOLS3000)，從透明導(dǎo)電
膜的金屬層的表面測定金屬層的寬度。
(3) 導(dǎo)電性
用三菱化學(xué)株式會社制盧里斯坦(口 ^》夕)AP (四端針法)測定。
(4) 透射率
用分光顯微鏡(大塚電子株式會社制MCPD2000),測定波長 400 700nm的光(可見光)的透射率。 實施例1 5和比較例1 5
' 通過在厚度100pm的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(透光率92 %、折射率1.55)的表面上層疊含有平均粒徑O.lpm的氧化硅(折射率 1.46)的層，得到具有平均高度0.05pm的凹凸的透明膜。通過在該透明
膜的表面上按照10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑(太陽墨水制造株式會社 制PER20 SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm的抗蝕劑塊按照20nm 的間隔排列的膜。接下來，在膜表面上施加無電解鍍敷催化劑(鈀催化 劑溶液奧野制藥株式會社制OPC-80催化劑)，用5n/。NaOH水溶液作 剝離溶液剝離抗蝕劑，實施無電解銅鍍敷(無電解鍍敷液奧野制藥株 式會社制OPC-750無電解銅M)而得到透明導(dǎo)電膜。還用電解銅鍍敷 液(硫酸銅水溶液)實施電解銅鍍敷處理，得到金屬層的寬度W為20pm、 金屬層的厚度T為5nm、 W/T=4的本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo) 電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。 實施例2:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上層疊含有平均 粒徑0.1^m的氧化鋁(折射率1.56)的層，得到具有平均高度0.05pm的 凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照l(Vm的厚度涂布感光性抗蝕劑 (太陽墨水制造株式會社制PER20SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm 的抗蝕劑塊按照2(Vm的間隔排列的膜。接下來，用與實施例1相同的方 法實施無電解銅鍍敷處理而得到透明導(dǎo)電膜。進(jìn)一步實施電解銅鍍敷， 得到金屬層的寬度W為2(Him、金屬層的厚度T為5pm、 W/T=4的本發(fā) 明的透明導(dǎo)屯膜。還在該透明導(dǎo)電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合 在具有反射防止層的PET膜上。 實施例3:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上層疊含有平均 粒徑0.1nm的氧化硅(折射率1.46)的層，得到具有平均高度0.05pm的 凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照10(im的厚度涂布感光性抗蝕劑 (太陽墨水制造株式會社制PER20SC03)、曝光、顯影，形成100xlO(Him 的抗蝕劑塊按照50pm的間隔排列的膜。接下來，用與實施例1相同的方 法實施無電解銅鍍敷處理，得到金屬層的寬度W為50pm、金屬層的厚 度T為O.lpm、 W/T二500的本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo)電膜的 表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。 實施例4:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上實施鉻酸蝕刻 處理而得到具有平均高度0.05pm的凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上
按照10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑(太陽墨水制造株式會社制PER20 SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm的抗蝕劑塊按照20pm的間隔排 列的膜。接下來，用與實施例1相同的方法實施無電解銅鍍敷處理，進(jìn) 一步實施電解銅鍍敷，得到金屬層的寬度W為20pm、金屬層的厚度T 為5pm、 W/T=4的本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo)電膜的表面上涂 布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。 實施例5:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上層疊含有平均 粒徑0.1pm的氧化鈦(折射率2.75)的層，得到具有平均高度0.05pm的 凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照10nm的厚度涂布感光性抗蝕劑 (太陽墨水制造株式會社制PER20SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm 的抗蝕劑塊按照20pm的間隔排列的膜。接下來，用與實施例1相同的方 法實施無電解銅鍍敷處理而得到透明導(dǎo)電膜。進(jìn)一步實施電解銅鍍敷， 得到金屬層的寬度W為20(im、金屬層的厚度T為5pm、 W/T=4的導(dǎo)電 膜。還在該透明導(dǎo)電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防 止層的PET膜上。 比較例1:
在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上，通過絲網(wǎng)印刷按 照線寬30pm、間距300pm的正方形格子圖案印刷鈀催化劑墨水。用與該 膜的實施例1相同的方法實施無電解銅鍍敷處理，得到金屬層的寬度w 為30pm、金屬層的厚度T為20|im、 W/T=0.67的透明導(dǎo)電膜。還在該 透明導(dǎo)電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET 膜上。 比較例2:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上層疊含有平均 粒徑0.1)im的氧化硅(折射率1.46)的層，得到具有平均高度0.05pm的 凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑 (太陽墨水制造株式會社制PER20SC03)、曝光、顯影，形成300x300jam 的抗蝕劑塊按照70|im的間隔排列的膜。接下來，用與實施例1相同的方 法實施無電解銅鍍敷處理，得到金屬層的寬度W為70pm、金屬層的厚 度T為O.lpm、 W/T=700的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo)電膜的表面上涂
布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。
比較例3:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上層疊含有平均 粒徑lpm的氧化硅(折射率1.46)的層，得到具有平均高度0.8pm的凹 凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑 (太陽墨水制造株式會社制PER20SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm 的抗蝕劑塊按照2(Vm的間隔排列的膜。接下來，用與實施例1相同的方 法實施無電解銅鍍敷處理，得到透明導(dǎo)電膜。進(jìn)一步實施電解銅鍍敷， 得到金屬層的寬度W為20pm、金屬層的厚度T為40pm、 W/T=0.5的 透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo)電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具 有反射防止層的PET膜上。 比較例4:
通過在PET膜(透光率92%、折射率1.55)的表面上實施噴砂處理， 得到具有平均高度0.5pm的凹凸的透明膜。通過在該膜的表面上按照 10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑(太陽墨水制造株式會社制PER20 SC03)、曝光、顯影，形成300x30(Him的抗蝕劑塊按照20)im的間隔排 列的膜。接下來，用與實施例1相同的方法實施無電解銅鍍敷處理，得 到透明導(dǎo)電膜。進(jìn)一步實施電解銅鍍敷，得到金屬層的寬度W為20pm、 金屬層的厚度T為5pm、 W/T-4的本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo) 電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。 比較例5:
通過在沒有凹凸的PET膜的表面(透光率92%、折射率1.55)上按 照10pm的厚度涂布感光性抗蝕劑(太陽墨水制造株式會社制PER20 SC03)、曝光、顯影，形成300x300pm的抗蝕劑塊按照20pm的間隔排 列的膜。接下來，用與實施例1相同的方法實施無電解銅鍍敷處理，得 到透明導(dǎo)電膜。進(jìn)一步實施電解銅鍍敷，得到金屬層的寬度W為2(^m、 金屬層的厚度T為5|_im、 W/T二4的本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜。還在該透明導(dǎo) 電膜的表面上涂布EVA系粘結(jié)劑，貼合在具有反射防止層的PET膜上。
評價通過實施例1 5、比較例1 5得到的透明導(dǎo)電膜，將其結(jié)果匯集 在表1中。
<formula>formula see original document page 12</formula>
權(quán)利要求
1.一種透明導(dǎo)電膜的制造方法，其特征在于，包括在透明膜的兩個面或一個面上形成平均高度為0.1μm以下的多個凹凸的工序；在透明膜的有凹凸的面上形成與導(dǎo)電膜的導(dǎo)電部分相反的圖案的抗蝕層的工序；在形成了抗蝕層的面上施加鍍敷用催化劑的工序；剝離抗蝕層的工序；通過鍍敷處理形成金屬層的工序；黑化金屬層的工序，并且，金屬層的寬度W和金屬層的高度T之比W/T為1≤W/T≤500。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜的制造方法，其特征在于，通 過在透明膜中含有填料而形成透明膜兩個面或一個面上的凹凸。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電膜的制造方法，其特征在于，填 料和透明膜的光的折射率的差為0.15以下。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的透明導(dǎo)電膜的制造方法，其特征在于， 透明膜是聚對苯二甲酸乙二醇酯，并且填料是二氧化硅或氧化鋁。
5. —種透明導(dǎo)電膜，其特征在于，通過權(quán)利要求1~4中任一項所述 的透明導(dǎo)電膜的制造方法制造而成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電膜及其制造方法，該透明導(dǎo)電膜維持透明膜的透光性，同時，具有優(yōu)異的導(dǎo)電性，可以用于電磁波屏蔽，在與其它基底材料貼合時不會引入氣泡。該透明導(dǎo)電膜的制造方法包括在透明膜的兩個面或一個面上形成平均高度為0.1μm以下的多個凹凸的工序；在透明膜的有凹凸的面上形成與導(dǎo)電膜的導(dǎo)電部分相反的圖案的抗蝕層的工序；在形成了抗蝕層的面上施加鍍敷用催化劑的工序；剝離抗蝕層的工序；通過鍍敷處理形成金屬層的工序；黑化金屬層的工序，并且，金屬層的寬度W和金屬層的高度T之比W/T為1≤W/T≤500。以及，透明導(dǎo)電膜由該制造方法制造。
文檔編號H01B5/14GK101185384SQ200680012718
公開日2008年5月21日 申請日期2006年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月18日
發(fā)明者山田耕平, 山田英幸, 鹽見秀數(shù) 申請人:精煉株式會社