導(dǎo)電性抗反射薄膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種對(duì)具有所需紋理的高分子基板施加透明導(dǎo)電性薄膜的方法。此方法包括如下步驟：提供具有內(nèi)部配置紋理的高分子材料，并且將透明導(dǎo)電性材料同形地施加于模制的高分子材料，以在其上產(chǎn)生同形的透明導(dǎo)電性薄膜。該同形的透明導(dǎo)電性薄膜所具有的紋理與高分子材料的紋理相對(duì)應(yīng)，并且具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的周期，因此該同形的透明導(dǎo)電性薄膜是抗反射的。
【專利說(shuō)明】導(dǎo)電性抗反射薄膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種形成抗反射透明導(dǎo)電性薄膜的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]高分子模塑材料被廣泛地用于制造各種材料，包括例如各種顯示裝置，并且，經(jīng)常希望和/或必要提供抗反射層或具有紋理的表面，以抑制反射光而確保令人滿意的可視性。已有各種方法用來(lái)制備這種抗反射層，并且提供由具有不同折射率的介電體所構(gòu)成的
多層膜。
[0003]抗反射膜薄膜由于通過(guò)周圍的光線限制了顯示器的飽和度，從而改善了透射性和對(duì)比度。通過(guò)改善顯示器的亮度，抗反射薄膜有助于降低功率需求并且因而延長(zhǎng)電池壽命。除此之外，最小的反射可以確保觀看者能夠更容易地閱讀屏幕，甚至是在明亮的條件下。當(dāng)需要將功率需求最小化時(shí)，對(duì)于PDA和移動(dòng)電話的移動(dòng)式彩色顯示器的亮度、對(duì)比度以及可閱讀性的改善就變得尤其重要。
[0004]除了具有透明之外，對(duì)于顯示器薄膜還有一項(xiàng)要求是希望其能夠?qū)щ姟＿@通常是為了抗靜電的需求或者是要導(dǎo)入電磁干擾(EMI)遮蔽效果。氧化銦錫(ITO)是透明導(dǎo)電性材料的一個(gè)例子，并且也是能夠使平面顯示器(監(jiān)視器、電視等)發(fā)揮功能的材料之一。當(dāng)被濺鍍到固體基板上形成薄層時(shí)，其扮演透明導(dǎo)電薄膜的角色。
[0005]已發(fā)現(xiàn)ITO涂層在顯示器和光學(xué)涂料工業(yè)中作為透明導(dǎo)電體的許多應(yīng)用。ITO像玻璃一樣透光，但跟玻璃不一樣的是，它能夠?qū)щ姡虼四軌驍y帶電流。ITO薄膜被用于許多種電子裝置中，如液晶顯示器(LCD)和等離子電視屏幕。近年來(lái)，ITO也被用于作為光伏電池(通常稱為太陽(yáng)能電池)上的導(dǎo)電 性涂層。ITO的加工條件相當(dāng)重要，因?yàn)樗鼈儠?huì)明顯影響薄膜的導(dǎo)電性。關(guān)鍵在于要能在可見(jiàn)光光譜內(nèi)維持透明度的同時(shí)，提高導(dǎo)電性。由于自由載體的緣故，導(dǎo)電性在紅外線產(chǎn)生了吸收。
[0006]使用ITO等透明導(dǎo)電性材料帶來(lái)的問(wèn)題是:由于ITO具有非常高的折射率，這種ITO涂層是高度反射的，其限制了可視性。此外，高反射性意味著自支撐膜的低穿透性，其結(jié)果表現(xiàn)為顯示器的低亮度。因此，對(duì)于觀看者的舒適性和顯示器的亮度(功率需求)而言，對(duì)ITO層的要求具有很重要的意義。
[0007]已有研究提出多種方法，通過(guò)使用多層涂層來(lái)避免這種問(wèn)題，以提供一定程度的抗反射功能。然而，這些多層涂層通常會(huì)與金屬氧化物混合，以提供不同折射率的薄層，使整個(gè)結(jié)構(gòu)調(diào)整為能提供最適化的反射和穿透特性。這是一種昂貴且耗時(shí)的方法。因此，希望能提供一種制備透明導(dǎo)電性氧化物涂層(如ITO涂層)的方法，其本身就具有抗反射性，而不需要其它的薄層。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的一個(gè)目的是使透明導(dǎo)電性氧化物材料抗反射。
[0009]本發(fā)明的另一個(gè)目的是使透明導(dǎo)電性氧化物材料抗反射而不需其它薄層。[0010]本發(fā)明的再一個(gè)目的是，提供一種更簡(jiǎn)單的方法以在基板上配置一層透明導(dǎo)電性抗反射層。
[0011]為此，本發(fā)明主要涉及一種將透明導(dǎo)電性薄膜施加于內(nèi)部具有所需紋理的高分子基板的方法，該方法包括如下步驟:
[0012]a)提供內(nèi)部配置有紋理的高分子材料；以及
[0013]b)將透明導(dǎo)電性氧化物材料同形地施加于高分子材料，以在其上產(chǎn)生同形的透明導(dǎo)電性薄膜；
[0014]其中所述同形的透明導(dǎo)電性薄膜所具有的紋理與高分子材料的紋理相對(duì)應(yīng)，并且其中該紋理具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的周期，因此該同形的透明導(dǎo)電性薄膜是抗反射的。
【具體實(shí)施方式】
[0015]本發(fā)明涉及一種形成于高分子材料表面上的抗反射層(抗反射薄膜)，其可降低在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的反射；其制造方法，以及隨后在其上沉積的一種透明導(dǎo)電性薄膜。
[0016]氧化銦是透明陶瓷材料的一個(gè)例子，盡管它是一種半導(dǎo)體，但由于缺乏自由電子，所以它并不是特殊的導(dǎo)電材料。一般通過(guò)摻雜具有比基材多一個(gè)電子的類似元素的方式來(lái)添加電子。因此，在氧化銦的情況下，氧化銦被摻雜了錫(通常約5~10%)，成為可導(dǎo)電且維持透明度。其它透明導(dǎo)電性材料包括金屬氧化物和摻雜有一種以上金屬的金屬氧化物。此類金屬氧化物和經(jīng)摻雜的金屬氧化物的實(shí)例包括經(jīng)摻雜的氧化銦、氧化錫、經(jīng)摻雜的氧化錫、氧化鋅、摻招氧化鋅、經(jīng)摻雜的氧化鋅、氧化釕以及經(jīng)摻雜的氧化釕，以上僅為舉例而非限定。優(yōu)選的透明導(dǎo)電性材料為摻錫氧化銦，亦稱為氧化銦錫(ITO)。
[0017]ITO可以通過(guò)包括真空涂布或?yàn)R鍍的物理氣相沉積的方式來(lái)施加于各種玻璃和塑料基板上，以制成用于電磁兼容性(E`MC)和抗靜電用途的透明導(dǎo)電層。術(shù)語(yǔ)“半導(dǎo)體”是指整個(gè)周期表內(nèi)出現(xiàn)于鄰近金屬/絕緣體分界處的元素或元素的化合物。硅和鍺經(jīng)常用于微電子的半導(dǎo)體，也有各種不同的化合物半導(dǎo)體，其由橫跨金屬/絕緣體分界的元素所形成，包含如GaAs和InSb之類的材料，其在可見(jiàn)光光譜中通常并非是透明的。然而，也有多種氧化物半導(dǎo)體(如銦、錫或鋅的氧化物)在可見(jiàn)光光譜中是透明的，并且其中以氧化銦最常用于工業(yè)用途。
[0018]電子能夠響應(yīng)電場(chǎng)或磁場(chǎng)的速度是有上限的。ITO中的電子密度無(wú)法像金屬一樣高，這意味這種響應(yīng)的限制在于ITO的紅外線光譜。結(jié)果使得ITO在可見(jiàn)光光譜內(nèi)為透明，而在紅外線光譜內(nèi)則變成導(dǎo)電(且因此反射/吸收)。這表示，當(dāng)它在紅外線區(qū)域及以下的頻率時(shí)為導(dǎo)電，而在可見(jiàn)光的頻率時(shí)為絕緣。因此，ITO對(duì)可見(jiàn)光是透明的，但是在涉及EMC遮蔽和抗靜電用途的頻率時(shí)仍能導(dǎo)電。
[0019]ITO的涂層通常由物理氣相沉積法來(lái)沉積，優(yōu)選包括蒸鍍和濺鍍技術(shù)的真空涂布，并且真空腔的大小控制了待涂布基板的大小。為了在大面積上得到均勻的涂層，優(yōu)選使用濺鍍工藝。濺鍍?cè)刺峁┝藢挼腎TO線性源，并且與線性移動(dòng)相結(jié)合，產(chǎn)生良好的均勻涂層。
[0020]然而，如前所述，使用如ITO之類的透明導(dǎo)電材料產(chǎn)生的問(wèn)題是，由于ITO的非常高的折射率，這種ITO涂層是高度反射的，其限制了可視性。因此，希望能提供一種使ITO涂層本身抗反射的方法。
[0021]包括“蛾眼”涂層和多孔性氧化鋁薄膜在內(nèi)的納米結(jié)構(gòu)可通過(guò)表面調(diào)制的方式產(chǎn)生抗反射，因而得到一種梯度折射率的涂層。
[0022]已開(kāi)發(fā)出蛾眼(或次波長(zhǎng))涂層用來(lái)滿足抗反射表面越來(lái)越高性能的要求。蛾眼的表面由錐形隆凸的陣列所包覆，這些隆凸大約200納米高且相隔大約200納米。因此，蛾眼結(jié)構(gòu)可以使均一折射率的材料產(chǎn)生有效的梯度折射率薄膜，并且使用各種不同的方法來(lái)制備這種蛾眼結(jié)構(gòu)。
[0023]人類的肉眼無(wú)法看到納米結(jié)構(gòu)，而納米結(jié)構(gòu)常用來(lái)調(diào)整光學(xué)系統(tǒng)中的光線，以改善亮度、調(diào)整視角及提供優(yōu)異的抗眩光及抗反射特性。因此，另一種用來(lái)達(dá)成適當(dāng)抗反射表面的方法包括使用含有此種納米結(jié)構(gòu)的薄膜。例如，多孔的氧化鋁結(jié)構(gòu)可用來(lái)制備模塑的抗反射高分子材料，如Hubbard等人的審理中的美國(guó)專利申請(qǐng)第12/834，180號(hào)所述,其主題在此以引用方式全部引入。使用此類納米結(jié)構(gòu)可讓PDA、手機(jī)、GPS導(dǎo)航系統(tǒng)及其它類似裝置的使用者在最小反射的情況下，即使是在明亮的狀況下，更容易地看清楚它們的屏幕。
[0024]本發(fā)明的發(fā)明人已確定，如果它能夠用于ITO薄層，則同樣能發(fā)揮梯度折射率的效果。雖然無(wú)法精確地建構(gòu)出自支撐ITO薄層，但本發(fā)明的發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)，如果可以濺鍍ITO薄層或者是同形地將其施加于已有的抗反射納米結(jié)構(gòu)上，那么就可以把梯度折射率結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至Ι--，同時(shí)又能維持1TO的導(dǎo)電性透明性。因此，同形地施加的ITO薄層具有抗反射特性，并且呈現(xiàn)出比平坦ITO涂層還要更高的透射性，因而可以獲得具有改良的觀看特性的更明亮的顯示器。
[0025]基于此，在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，本發(fā)明主要涉及一種將透明導(dǎo)電性薄膜施加于其內(nèi)具有所需紋理的高分子基板的方法，此方法包括如下步驟:
[0026]a)提供內(nèi)部配置有紋理的高分子材料；以及
[0027]b)將透明導(dǎo)電性材料同形地施加于高分子材料，以在其上產(chǎn)生同形的透明導(dǎo)電性
薄膜；
[0028]其中該同形的透明導(dǎo)電性薄膜具有的紋理與高分子材料的紋理相對(duì)應(yīng)，并且其中該紋理具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的周期，因此該同形的透明導(dǎo)電性薄膜是抗反射的。
[0029]內(nèi)部配置有紋理的高分子材料可包括如上所述的蛾眼結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)。能產(chǎn)生抗反射涂層的其它適合結(jié)構(gòu)也可以用于本發(fā)明，并且對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】人員而言已為公知。
[0030]在一個(gè)實(shí)施例中，將高分子材料模塑，以在其內(nèi)產(chǎn)生所需的紋理，各種模塑方法可以用于本發(fā)明的實(shí)踐中。其中有一種適合用于模塑高分子材料使其內(nèi)部產(chǎn)生紋理的方法描述于Hubbard等人的審理中的美國(guó)專利申請(qǐng)第12/834，180號(hào),此方法包括如下步驟:
[0031]a)提供具有多個(gè)柱狀孔分散于其中的多孔性氧化鋁模壞，該多個(gè)柱狀孔洞對(duì)應(yīng)于待被賦予高分子模塑材料表面的凸起；
[0032]b)將高分子模塑材料配置于透明膜和多孔性氧化鋁模坯之間；以及
[0033]c)施加機(jī)械壓力以將多孔氧化鋁模坯軋壓至高分子模塑材料中，
[0034]其中被賦予該高分子模塑材料的紋理包含與多孔氧化鋁模坯的柱狀孔相對(duì)應(yīng)的凸起。
[0035]在此實(shí)施例中，多孔性氧化鋁模坯可通過(guò)包括以下步驟的制程來(lái)制備:
[0036]a)在鋁基板上進(jìn)行第一階段陽(yáng)極化處理；
[0037]b)對(duì)該氧化鋁基板實(shí)行氧化物蝕刻；
[0038]c)進(jìn)行第二階段陽(yáng)極化處理；以及[0039]d)進(jìn)行擴(kuò)孔處理，
[0040]其中在多孔性氧化鋁模坯中制造出柱狀孔。
[0041]在依照本文所述方法制得的模制品方面，可以產(chǎn)生一種具紋理的高分子材料，如感光樹(shù)脂片或其它類似材料，其在表面上具有顯微圖案。之后，可以將ITO或其它透明導(dǎo)電性氧化物材料同形地施加于感光樹(shù)脂片的圖案表面上，使得ITO層也同樣抗反射。這種同形的透明導(dǎo)電性薄膜具有的紋理與高分子材料的紋理相對(duì)應(yīng)，并且該紋理具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的周期，因此該同形的透明導(dǎo)電性薄膜是抗反射的。
[0042]或者，提供給高分子材料的紋理可包含一種蛾眼結(jié)構(gòu)，并且ITO或其它透明導(dǎo)電性氧化物材料可以同形地施加于高分子材料的圖案表面上。
[0043]高分子材料優(yōu)選至少基本上為透明，并且具有充分的機(jī)械強(qiáng)度。適合用于形成高分子材料的材料包括丙烯酸酯樹(shù)脂，如聚甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸乙酯樹(shù)脂及甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸丁酯共聚物；聚烯烴樹(shù)脂，如聚丙烯樹(shù)脂、聚甲基戊烯樹(shù)脂及環(huán)狀聚烯烴聚合物；熱塑性聚酯樹(shù)脂，如聚碳酸酯樹(shù)脂、聚對(duì)酞酸乙二酯樹(shù)脂和聚萘二甲酸乙二酯樹(shù)脂；熱塑性樹(shù)脂，如聚酰胺樹(shù)脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚醚砜樹(shù)脂、聚砜樹(shù)脂、纖維素樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、聚醚醚酮樹(shù)脂及聚氨酯樹(shù)脂。除了高分子材料之外，透明材料也可以是玻璃。
[0044]在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，高分子材料為可利用光化輻射來(lái)固化的感光性樹(shù)脂。在此實(shí)施例中，光化輻射可固化組合物填充于依上述方式所制得的模制品和透明片之間，并且通過(guò)將感光性樹(shù)脂曝露于光化輻射的情況來(lái)使之固化，接著再脫模?？梢杂帽尽炯夹g(shù)領(lǐng)域】人員所公知的各種不同方式將可固化組合物填充于模制品及透明片之間。例如，由軋輥將光化輻射可固化組合物進(jìn)料至模制品和透明片之間，該組合物可包覆于模制品之上，并且接著與透明片進(jìn)行層壓，或者是可以使用`壓力和/或熱將多孔氧化鋁表面軋入感光性樹(shù)脂中。
[0045]或者，將模制品的所需紋理或立體結(jié)構(gòu)翻印在光化輻射可固化組合物上，接著使之脫模，并且通過(guò)曝露于光化輻射而使之固化。
[0046]在上述任一種方法中，組合物可以在脫模之后再次曝露于光化輻射之下?？捎糜诒景l(fā)明的光化輻射源的具體實(shí)例包括可見(jiàn)光源、UV光源、電子束、等離子體及紅外線光源，且通常為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。
[0047]高分子材料的厚度必須能滿足用途及所需的物理性質(zhì)。通常，高分子材料的厚度為約0.01~約I毫米，優(yōu)選為約0.05~約0.25毫米。
[0048]本發(fā)明的感輻射性或感光性樹(shù)脂組合物包括感光性樹(shù)脂，包括例如，丙烯酸酯樹(shù)月旨、聚甲基丙烯酸甲酯樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、酚樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂及聚氨酯樹(shù)脂，其皆與適當(dāng)?shù)墓庖l(fā)劑(如過(guò)氧化苯甲酰)一起結(jié)合。也可以使用其它適合的樹(shù)脂和光引發(fā)劑的組合，且這些通常為本【技術(shù)領(lǐng)域】人員所公知。有一種合適的感光性樹(shù)脂為感光性丙烯酸樹(shù)脂組合物。感光性樹(shù)脂組合物優(yōu)選還包含可聚合單體或寡聚物。其它添加劑也可以添加至感光性樹(shù)脂組合物中，舉例而非限制地，其包括例如抗靜電劑、脫模劑以及用來(lái)改善抗污性質(zhì)的氟化合物。
[0049]照射光化能量射線例如通過(guò)中壓汞燈進(jìn)行。雖然對(duì)光照射能量的量并無(wú)特別的限制，只要發(fā)生光化能量固化性組合物的固化即可，但是該能量的量?jī)?yōu)選為100~10，000毫焦耳/平方厘米。
[0050]在一個(gè)實(shí)施例中，高分子材料所需的紋理(亦即立體結(jié)構(gòu))具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的短周期，其小于約400納米。周期超過(guò)400納米將會(huì)造成可見(jiàn)光散射，因此不適合如抗反射薄膜的光學(xué)用途。因此，同形地施加的透明導(dǎo)電性材料也具有小于400納米的短周期。
[0051]當(dāng)ITO涂層的厚度增加時(shí)，涂層變得更為導(dǎo)電，而其穿透率卻會(huì)下降，并且涂層的可撓性也降低。此外，當(dāng)涂層的厚度增加時(shí)，成本也會(huì)上升，因?yàn)橐褂酶嗟牟牧霞案L(zhǎng)的加工時(shí)間。因此，為了有效使用ITO并得到最適化的功能，必須盡可能使用最薄的涂層以獲得所需的表面電阻系數(shù)。
[0052]然而，因?yàn)榧{米結(jié)構(gòu)涂層的表面積遠(yuǎn)大于平面涂層的表面積，既定數(shù)量的ITO可以產(chǎn)生明顯較薄的涂層，其可能會(huì)損害ITO層的導(dǎo)電性。因此，必需涂布更多的ITO來(lái)達(dá)成所需的導(dǎo)電性。較厚的涂層可能會(huì)開(kāi)始填入納米結(jié)構(gòu)，并且限制了抗反射的光學(xué)增益。為此，必須確定ITO或其它透明導(dǎo)電性氧化物所必需的用量，以決定用于產(chǎn)生具有足夠附加價(jià)值的抗反射/穿透率優(yōu)點(diǎn)的ITO的合適量，來(lái)補(bǔ)償使用額外涂料所需的額外成本。
[0053]ITO涂層厚度的一般范圍為約10納米~高達(dá)約I微米，優(yōu)選是50~500納米。薄層厚度少于10納米將會(huì)變得不連續(xù)，然而若薄層厚度大于約I微米，則會(huì)變得吸收、緊壓且昂貴。厚度范圍也會(huì)對(duì)表面電阻系數(shù)有影響。因此，同形地施加ITO薄層的厚度優(yōu)選為約10納米~約750納米,更優(yōu)選為約50納米~約500納米。同時(shí)也希望該涂層至少能夠基本均勻地施加于具紋理的高分子材料表面上，而使得同形地施加的涂層能夠在整個(gè)被涂布表面上具有幾乎相同的厚度。
[0054]具紋理的ITO層的表面電阻系數(shù)可以在約ΙΟΩ/sq~數(shù)千個(gè)Ω/sq之間變動(dòng)，其使得ITO涂層適合用于多種EMC遮蔽和抗靜電用途。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，具紋理的ITO層所呈現(xiàn)的表面電阻系數(shù)為約200 Ω /sq~約600 Ω /sq,更優(yōu)選的表面電阻系數(shù)為約300 Ω /sq ~約 500 Ω /sq。
[0055]在將ITO制造得比較厚時(shí)，可見(jiàn)光穿透率也會(huì)下降。依本文所述方式制造的具紋理的ITO層較優(yōu)選為具有大于約90%的穿透率，更優(yōu)選大于約93%，并且最優(yōu)選大于約95%。
[0056]實(shí)施例:
[0057]實(shí)施例1:
[0058]制備兩組樣品。第一組樣品包括蛾眼納米結(jié)構(gòu)薄膜，第二組薄膜包括Hubbard等人的審理中的美國(guó)專利申請(qǐng)第12/834，180號(hào)所闡述的多孔性氧化鋁薄膜，其主題在此以引用方式引入。這兩組薄膜皆以濺鍍方式涂有各種不同厚度的ΙΤ0，并且將總透光度(TLT/%)的結(jié)果顯示如下:
[0059]
【權(quán)利要求】
1.一種對(duì)具有紋理的高分子基板施加透明導(dǎo)電性薄膜的方法，此方法包含如下步驟: a)提供內(nèi)部配置有紋理的高分子材料；以及 b)將透明導(dǎo)電性材料同形地施加于該高分子材料，以在其上產(chǎn)生同形的透明導(dǎo)電性薄膜； 其中該同形的透明導(dǎo)電性薄膜所具有的紋理與該高分子材料的紋理相對(duì)應(yīng)，并且其中該紋理具有不大于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的周期，因此該同形的透明導(dǎo)電性薄膜是抗反射的。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過(guò)包括如下步驟的方法將該高分子材料模制以在其內(nèi)產(chǎn)生紋理: a)提供具有多個(gè)孔分散于其中的多孔性氧化鋁模坯，所述多個(gè)孔對(duì)應(yīng)于待被賦予高分子模制材料表面的凸起； b)將高分子模制材料置放于透明薄膜和該多孔性氧化鋁模坯之間；以及 c)施加機(jī)械壓力，將該多孔氧化鋁模坯軋壓至該高分子模制材料中， 其中被賦予該高分子模制材料的紋理包括與該多孔氧化鋁模坯的孔相對(duì)應(yīng)的凸起。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該多孔性氧化鋁模坯通過(guò)包含以下步驟的制程來(lái)制備: a)在鋁基板上進(jìn)行第一階段陽(yáng)極化處理； b)對(duì)該氧化鋁基板實(shí)行氧化物蝕刻； c)進(jìn)行第二階段陽(yáng)極化處理；以及 d)進(jìn)行擴(kuò)孔處理， 其中在該多孔性氧化鋁模坯中制造出孔。
4.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中該透明導(dǎo)電性材料是從由氧化銦、氧化銦錫、經(jīng)摻雜的氧化銦、氧化錫、經(jīng)摻雜的氧化錫、氧化鋅、摻鋁氧化鋅、經(jīng)摻雜的氧化鋅、氧化釕和經(jīng)摻雜的氧化釕所構(gòu)成的群組中選出的。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中該透明導(dǎo)電性材料為氧化銦錫。
6.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中該透明導(dǎo)電性材料是通過(guò)物理氣相沉積而施加于高分子材料的。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中該透明導(dǎo)電性材料是通過(guò)濺鍍而施加于高分子材料的。
8.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中該透明導(dǎo)電性薄膜的厚度為約10納米~約I微米。
9.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中待賦予至高分子材料的紋理包括蛾眼結(jié)構(gòu)。
10.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中該高分子材料是透明的。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中該高分子材料包括從由丙烯酸酯樹(shù)脂、甲基丙烯酸酯樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂、熱塑性聚酯樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚醚砜樹(shù)月旨、聚砜樹(shù)脂、纖維素樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、聚醚醚酮樹(shù)脂及聚氨酯樹(shù)脂所構(gòu)成群組中選出的材料。
12.如上述任意權(quán)利要求所述的方法，其中該具有紋理的透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻系數(shù)為約100~約600 Ω /sq。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中該具有紋理的透明導(dǎo)電性薄膜的表面電阻系數(shù)為約 300 和約 500Q/sq。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該具有紋理的透明導(dǎo)電性薄膜的可見(jiàn)光穿透率大于約90%。
15.如權(quán)利要求14所述的方 法，其中該具有紋理的透明導(dǎo)電性薄膜的可見(jiàn)光穿透率大于約93%。
【文檔編號(hào)】H01L31/0236GK103502503SQ201280022101
【公開(kāi)日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2012年5月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月3日
【發(fā)明者】G·J·哈伯德, K·P·帕森斯, T·N·懷特 申請(qǐng)人:麥克德米德影印有限公司