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      一種脫扣器罩殼的制作方法

      文檔序號:11593143閱讀:600來源:國知局

      本實用新型涉及一種殼體,具體涉及一種脫扣器罩殼。



      背景技術:

      脫扣器罩殼一般是通過注塑成型。在注塑成型的每一個循環(huán)中,塑件必須從模具型腔中取出,最理想的情況是模具開啟后,塑件由自身重力作用從型腔中自動脫落。而事實上,由于塑件表面的附著力和內(nèi)應力的存在,必須設計取出塑件的脫膜機構,即頂出機構,塑件通過其內(nèi)內(nèi)部頂出,完成將塑件和澆鑄系統(tǒng)凝料等與磨具松動分離,并從模具內(nèi)取出的動作。脫模機構由一系列推出零件和輔助零件組成,結構復雜,制作成本高,操作繁瑣,且脫出的注塑產(chǎn)品脫扣器罩殼毛刺多,后續(xù)工作多,效率低。



      技術實現(xiàn)要素:

      針對背景技術的不足,本實用新型提供了一種脫扣器罩殼,并且克服了以上缺陷。

      本實用新型所采用的技術方案是:一種脫扣器罩殼,包括殼體,所述殼體是由底面及四個立面與底面相垂直所組成的,所述底面的外側(cè)設有頂臺,立面外表面設有相對的兩凸耳,所述凸耳方向與底面相平行,且凸耳上設有與凸耳相垂直的通孔,所述立面與底面相接的轉(zhuǎn)角處設有凹臺,所述組成凹臺的兩面夾角為100°-120°,凹臺的兩端設有立面延伸出的凸面,所述凸面與凹臺垂直,凸面上設有圓形孔,所述延伸出凸面的立面的外表面設有局部突起面,所述突起面與立面為一體式結構,突起面避開凸面,所述被避開的凸面的相對應內(nèi)表面的厚度高出立面內(nèi)表面的其它部位。

      所述圓形孔共計四個,且四個圓形孔在同一方向。

      所述凸耳的頂部為圓弧結構設置,所述凸面的轉(zhuǎn)角處為倒圓角設置,所述突起面的轉(zhuǎn)角處為倒圓角。

      所述凹臺設有兩個,且兩個凹臺的位置相對應不相連。

      所述同一凹臺兩端的凸面相對,且凸面上的圓形孔的圓心在同一直線上,圓形孔為大小相同的通孔。

      本實用新型的有益效果是:采取上述技術方案,脫扣器罩殼在從模型中取出時無需通過頂出機構,通過自身設置的圓形孔,對其施加向外的力,促使殼體脫離模具型腔,完成脫膜動作,結構設計合理簡單,并且該方法脫出的殼體毛刺明顯減少,減少后續(xù)處理工作,提高效率,降低成本。

      附圖說明

      圖1為本實用新型的結構示意圖。

      圖2為本實用新型的另一側(cè)視結構示意圖。

      圖中1、殼體;2、立面;3、底面;4、頂臺;5、凸耳;6、通孔;7、凹臺;71、面;8、凸面;9、圓形孔;10、突起面;11、內(nèi)突起面。

      具體實施方式

      下面結合附圖對本實用新型實施例作進一步說明。

      如圖1結合圖2所示,一種脫扣器罩殼,包括殼體1,所述殼體1是由底面3及四個立面2與底面3相垂直所組成的,所述底面3的外側(cè)設有頂臺4,立面2外表面設有相對的兩凸耳5,所述凸耳5方向與底面3相平行,且凸耳5上設有與凸耳5相垂直的通孔6,所述立面2與底面3相接的轉(zhuǎn)角處設有凹臺7,所述組成凹臺7的兩面71夾角為100°-120,穩(wěn)定性強,凹臺7的兩端設有立面2延伸出的凸面8,所述凸面8與凹臺7垂直,凸面8上設有圓形孔9,所述延伸出凸面8的立面2的外表面設有局部突起面10,所述突起面10與立面2為一體式結構,突起面10避開凸面8,所述被避開的凸面8的相對應內(nèi)表面的厚度高出立面2內(nèi)表面的其它部位,即設有內(nèi)突起面11,該結構設置的凸面8厚度向中心移,保證通過圓形孔9對殼體1施力時,殼體1整體受力均勻,保證塑件殼體1不變形和不被損壞;同時該結構的設置增加殼體1的抗震性。

      所述圓形孔9共計四個,且四個圓形孔9在同一方向,便于通過圓形孔9對殼體施加外部力,使其脫模。

      所述凸耳5的頂部為圓弧結構設置,所述凸面8的轉(zhuǎn)角處為倒圓角設置,所述突起面10的轉(zhuǎn)角處為倒圓角。

      所述凹臺7設有兩個,且兩個凹臺7的位置相對應不相連。

      所述同一凹臺7兩端的凸面8相對,且凸面8上的圓形孔9的圓心在同一直線上,圓形孔9為大小相同的通孔。

      本實用新型的脫扣器罩殼在從模型中取出時無需通過頂出機構,通過自身設置的圓形孔9,對其施加向外的力,促使殼體1脫離模具型腔,完成脫膜動作,結構設計合理簡單,并且該方法脫出的殼體1毛刺明顯減少,減少后續(xù)處理工作,提高效率,降低成本。

      各位技術人員須知:雖然本實用新型已按照上述具體實施方式做了描述,但是本實用新型的發(fā)明思想并不僅限于此實用新型,任何運用本發(fā)明思想的改裝,都將納入本專利專利權保護范圍內(nèi)。

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