1.一種光源,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中所述初級(jí)下轉(zhuǎn)換器材料的多個(gè)部分和所述激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分是相應(yīng)led上的分段層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源,其中所述初級(jí)下轉(zhuǎn)換器材料的多個(gè)部分和所述激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分的一個(gè)或多個(gè)分段層偏離相應(yīng)led上的中心。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中在所有l(wèi)ed上的連續(xù)下轉(zhuǎn)換器層包括所述初級(jí)下轉(zhuǎn)換器材料的多個(gè)部分和所述激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中在測(cè)量包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)發(fā)光二極管的基線光源的基線色點(diǎn)分布時(shí),對(duì)激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分進(jìn)行改性,以便實(shí)現(xiàn)所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布與包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)發(fā)光二極管的基線光源的基線色點(diǎn)分布相比具有較低的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布的質(zhì)心不同于包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)發(fā)光二極管的基線光源的質(zhì)心。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源,其中所述激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分相對(duì)于初級(jí)下轉(zhuǎn)換器材料包括:厚度減小和/或表面形貌變化和/或用于光發(fā)射可調(diào)性的三維成形。
9.一種光源,包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源,其中在測(cè)量包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)微發(fā)光二極管的基線光源的基線色點(diǎn)分布時(shí),對(duì)激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的一個(gè)或多個(gè)部分進(jìn)行改性,以便實(shí)現(xiàn)所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布與包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)微發(fā)光二極管的基線光源的基線色點(diǎn)分布相比具有較低的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布的調(diào)節(jié)的顏色分布的質(zhì)心不同于包括不存在激光改性的下轉(zhuǎn)換器材料的任何部分的多個(gè)微發(fā)光二極管的基線光源的基線顏色分布的質(zhì)心。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源,還包括在連續(xù)下轉(zhuǎn)換器層上的功能材料。
14.一種制造包括多個(gè)光發(fā)射器的光源的方法,包括:
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,包括:識(shí)別基線色點(diǎn)分布的一個(gè)或多個(gè)最高和/或最低分位數(shù);將一個(gè)或多個(gè)led識(shí)別為基線色點(diǎn)分布的一個(gè)或多個(gè)最高和/或最低分位數(shù)的生成器;將激光處理應(yīng)用于對(duì)應(yīng)于一個(gè)或多個(gè)led的初級(jí)下轉(zhuǎn)換器材料的各部分,所述一個(gè)或多個(gè)led是基線色點(diǎn)分布的一個(gè)或多個(gè)最高和/或最低分位數(shù)的生成器。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布與基線色點(diǎn)分布相比具有較低的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中所述調(diào)節(jié)的色點(diǎn)分布的質(zhì)心不同于基線色點(diǎn)分布的質(zhì)心。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中所述激光處理包括飛秒激光照射。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中每個(gè)led具有至少一個(gè)大于或等于1微米、小于或等于300微米的特性尺寸,所述特性尺寸選自由高度、寬度、深度、厚度及其組合組成的組。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中所述激光處理包括用于厚度減小的燒蝕和/或用于表面形貌變化的粗糙化和/或用于光發(fā)射可調(diào)性的三維成形。