實(shí)施例提供的形成像素界定層的過程示意圖三；
[0032]圖8a-8d為本發(fā)明實(shí)施例提供的制備OLED用顯不基板的過程不意圖。
[0033]【附圖說明】:
[0034]01-像素區(qū)域；02_非像素區(qū)域；20_像素界定層；100-基板；200_像素界定層基本圖案；200a-第一圖案；200b-第二圖案；210_氟代單分子層；300_(感光型)有機(jī)樹脂層；300a-感光型有機(jī)樹脂材料的第二薄膜；400_負(fù)性感光型有機(jī)樹脂材料的第三薄膜；400a-第三圖案；500_無機(jī)材料的第四薄膜；600_負(fù)性感光型有機(jī)樹脂材料的第五薄膜；600a-第五圖案；700-第一電極；800_有機(jī)材料功能層；900_第二電極層。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0036]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種像素界定層的制備方法，該方法包括:
[0037]S01、如圖3a所示，在基板100上形成像素界定層基本圖案200 ;所述像素界定層基本圖案200包括無機(jī)材料的第一圖案200a，且所述第一圖案200a位于所述像素界定層基本圖案200的最上方。
[0038]即:所述像素界定層基本圖案200除包括第一圖案200a外還包括其他圖案，且第一圖案位于其他圖案上方。
[0039]所述像素界定層基本圖案200包括無機(jī)材料的第一圖案200a，且所述第一圖案200a位于所述像素界定層基本圖案200的最上方，可以是所述像素界定層基本圖案200除包括無機(jī)材料的第一圖案200a外，還可以包括無機(jī)材料的第二圖案200b，且所述第一圖案200a位于第二圖案200b的上方。
[0040]這里，在所述像素界定層基本圖案200的第一圖案200a和第二圖案200b材料相同的情況下，可通過同一層無機(jī)材料薄膜形成該像素界定層基本圖案200，即該層無機(jī)材料薄膜的厚度為第一圖案200a和第二圖案200b的厚度和，在此情況下，區(qū)分第一圖案200a和第二圖案200b僅是為后續(xù)方便描述氟代單分子層210的結(jié)構(gòu)，附圖3a和圖3b中區(qū)分第一圖案200a和第二圖案200b的虛線實(shí)際上并不存在。
[0041]當(dāng)然，在所述像素界定層基本圖案200的第一圖案200a和第二圖案200b材料相同的情況下，也可通過兩層無機(jī)材料薄膜形成該像素界定層基本圖案200，即一層無機(jī)材料薄膜用于形成第一圖案200a，另一層無機(jī)材料薄膜用于形成第二圖案200b，具體可根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定，在此不做限定。
[0042]或者，所述像素界定層基本圖案200包括無機(jī)材料的第一圖案200a，且所述第一圖案200a位于所述像素界定層基本圖案200的最上方，還可以是所述像素界定層基本圖案200除包括無機(jī)材料的第一圖案200a外，還包括有其材料例如有機(jī)材料的第三圖案，且所述第一圖案200a位于第三圖案的上方。在此情況下，所述第二圖案200b和所述第三圖案的區(qū)別僅在于材料不同。
[0043]當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例也并不限定所述像素界定層基本圖案200除包括無機(jī)材料的第一圖案200a外只包括第三圖案，也可包括其他圖案，只要這些圖案能構(gòu)成所述像素界定層基本圖案200，且使所述第一圖案200a位于最上方即可。
[0044]基于上述情況，可具體根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)定，在此不做限定。
[0045]S02、如圖3b所示，對(duì)所述第一圖案200a進(jìn)行自組裝單分子層表面處理，在所述第一圖案200a表面形成氟代單分子層210，形成所述像素界定層20。
[0046]這里，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該知道，自組裝后，所述氟代單分子層210是通過共價(jià)鍵與所述第一圖案200a進(jìn)行連接。
[0047]示例的，可以選擇氟代硅烷例如氟辛基三氯硅烷作為自組裝疏液材料，對(duì)所述第一圖案200a進(jìn)行自組裝表面處理；該材料自組裝的原理如圖4所示。
[0048]具體的，例如可以將形成所述第一圖案200a的基板置于氟辛基三氯硅烷氛圍中，在100-250度的溫度范圍內(nèi)保持2小時(shí)。
[0049]需要說明的是，第一，不對(duì)上述基板100進(jìn)行限定，其可以是形成有相應(yīng)圖案層的基板，也可以是沒有形成任何圖案層的襯底基板。
[0050]第二，不對(duì)第一圖案200a的厚度進(jìn)行限定，可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)定。
[0051]第三，由于現(xiàn)有技術(shù)中的像素界定層并沒有額外形成所述氟代單分子層210，因而，本發(fā)明實(shí)施例中的所述像素界定層基本圖案200實(shí)質(zhì)上就是現(xiàn)有技術(shù)中描述的像素界定層。
[0052]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種像素界定層的制備方法，包括:在基板100上形成像素界定層基本圖案200 ;所述像素界定層基本圖案200包括無機(jī)材料的第一圖案200a，且所述第一圖案200a位于所述像素界定層基本圖案200的最上方；對(duì)所述第一圖案200a進(jìn)行自組裝單分子層表面處理，在所述第一圖案200a表面形成氟代單分子層210，形成所述像素界定層20。由于自組裝的氟代單分子層210是基于共價(jià)鍵與第一圖案200a連接的，因而長時(shí)間放置、一般的清洗步驟(等離子除外)、退火等工藝并不會(huì)影響其疏液性能，因此通過這種方法形成的像素界定層20，其疏液性能可以長久的保持，而不擔(dān)心失效的問題。此外，通過自組裝氟代單分子層210，其接觸角可達(dá)110°以上。
[0053]優(yōu)選的，上述S02可具體包括如下步驟:
[0054]S201、如圖5a所示，在所述像素界定層基本圖案200之間形成感光型有機(jī)樹脂層300，所述感光型有機(jī)樹脂層300露出所述第一圖案200a。
[0055]S202、對(duì)露出的所述第一圖案200a進(jìn)行自組裝單分子層表面處理。
[0056]S203、如圖5b所示，在所述第一圖案200a表面形成氟代單分子層210，形成所述像素界定層20。
[0057]S204、去除所述感光型有機(jī)樹脂層300，形成如圖3b所示的結(jié)構(gòu)。
[0058]一方面，通過在除所述像素界定層基本圖案200所在區(qū)域之外的其他區(qū)域形成所述感光型有機(jī)樹脂層300，可以在形成所述氟代單分子層210時(shí)，對(duì)其他區(qū)域的圖案層起到保護(hù)作用；另外通過設(shè)定所述感光型有機(jī)樹脂層300的厚度，可以確定所述第一圖案200a的厚度，從而確定形成所述氟代單分子層210的范圍。
[0059]另一方面，相比其他非感光有機(jī)材料，本發(fā)明實(shí)施例中采用感光型有機(jī)樹脂材料，在形成所述有機(jī)樹脂層300時(shí)，可簡化工藝。
[0060]基于此，可通過如下兩種情況進(jìn)行具體說明，第一種情況:
[0061]當(dāng)對(duì)像素界定層基本圖案200的高度要求不高的情況下，優(yōu)選直接采用無機(jī)材料形成所述像素界定層基本圖案200，即:上述SOl可具體包括如下步驟:
[0062]S101、在基板100上形成無機(jī)材料的第一薄膜。
[0063]S102、對(duì)所述第一薄膜進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成如圖3a所示的由所述第一圖案200a和第二圖案200b構(gòu)成的所述像